JP2016085935A - 窒素ラジカル生成システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る窒素ラジカル生成システム100は、誘電体バリア放電を利用して、窒素ガスから窒素ラジカルを生成する窒素ラジカル生成装置1と、交流電圧源8とを備える。誘電体バリア放電は、放電ユニット3,4,5で発生している。そして、誘電体バリア放電を利用して生成された窒素ラジカルを出力するガス放出部7は、放電ユニット3,4,5の中央部に、一つだけ設けられている。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施の形態に係る窒素ラジカル生成システム100の概略構成を示す図である。当該窒素ラジカル生成システム100は、窒素ラジカル生成装置1、交流電圧源8および処理チャンバー12から構成されている。
図2は、本実施の形態に係る窒素ラジカル生成システム200の概略構成を示す図である。当該窒素ラジカル生成システム200の構成は、実施の形態1に係る窒素ラジカル生成システム100の構成と、ほぼ同じである。そこで、以下では、実施の形態1に係る窒素ラジカル生成システム100の構成と異なる部分についてのみ、窒素ラジカル生成システム200の構成を説明する。
図3は、本実施の形態に係る窒素ラジカル生成システム300の概略構成を示す図である。当該窒素ラジカル生成システム300の構成は、実施の形態1に係る窒素ラジカル生成システム100の構成と、ほぼ同じである。そこで、以下では、実施の形態1に係る窒素ラジカル生成システム100の構成と異なる部分についてのみ、窒素ラジカル生成システム300の構成を説明する。
図5は、本実施の形態に係る窒素ラジカル生成システム400の概略構成を示す断面図である。
2 空間
3 第一電極
4 第二電極
5 放電空間
6 ガス供給口
7 ガス放出部
8 交流電圧源
9 オリフィス部
10 細孔
11 処理室
12 処理チャンバー
13 ウェハ
14 サセプタ
15 ガス排気部
20 開口部
100,200,300,400 窒素ラジカル生成システム
Claims (9)
- 誘電体バリア放電を利用して、窒素ガスから窒素ラジカルを生成する窒素ラジカル生成装置と、
交流電圧を印加する交流電圧源とを、備えており、
前記窒素ラジカル生成装置は、
前記窒素ガスが供給されるガス供給口と、
前記交流電圧源により交流電圧が印加され、前記誘電体バリア放電を生成する、放電ユニットと、
前記ガス供給口から供給された前記窒素ガスに対して、前記放電ユニットにおいて、前記誘電体バリア放電を印加させることにより生成された、前記窒素ラジカルを出力するガス放出部とを、有しており、
前記ガス放出部は、
前記放電ユニットの中央部に、一つ形成されている、
ことを特徴とする窒素ラジカル生成システム。 - 前記放電ユニットにおける圧力は、
10kPa以上、30kPa以下であり、
前記交流電圧源は、
前記放電ユニットに対して、30kHz以上、50kHz以下である周波数の前記交流電圧を印加する、
ことを特徴とする請求項1に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記ガス放出部の出力側に配設された、前記窒素ラジカルを利用した処理が実施される処理チャンバーを、さらに備えており、
前記処理チャンバー内の圧力は、
前記放電ユニット内の圧力よりも低い、
ことを特徴とする請求項1に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記放電ユニットは、
放電空間が形成されるように、相互に対面して配置された二つの電極を有しており、
前記ガス放出部は、
一方の前記電極に設けられている、
ことを特徴とする請求項3に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記窒素ラジカル生成装置と前記処理チャンバーとの間に配設され、前記ガス放出部の出力側に接続される、オリフィス部を、さらに備えており、
前記オリフィス部の孔の径は、
前記ガス放出部の孔の径よりも小さい、
ことを特徴とする請求項4に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記処理チャンバーには、
前記ガス放出部の出力側に接続される開口部が形成されており、
前記ガス放出部の径は、
前記開口部の開口径よりも小さい、
ことを特徴とする請求項4に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記オリフィス部の前記孔は、
複数である、
ことを特徴とする請求項5に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記オリフィス部の前記孔の出力部は各々、
異なる方向を向いている、
ことを特徴とする請求項7に記載の窒素ラジカル生成システム。 - 前記窒素ラジカル生成装置は、
複数である、
ことを特徴とする請求項3に記載の窒素ラジカル生成システム。
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