JP2016071334A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本実施形態は、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧し得る表示装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、第1基板は第1乃至第4画素電極を備える。色フィルタの層は、前記第1画素電極と対向する赤色フィルタと、前記第2画素電極と対向する緑色フィルタと、前記第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色フィルタと、前記第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色フィルタと、を備える。【選択図】図9
Description
この実施形態は、表示装置に関する。
近年、携帯端末が普及している。携帯端末は、スマートフォーン、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、或いはタブレットコンピュータ等を含み、その表示機能も高性能化している。携帯端末の表示装置としては、液晶表示装置、LEDを用いた表示装置、有機ELを用いた表示装置、冷陰極線管などの各種の表示装置が開発されている。これらの表示装置は、カラー画像を表示することができる
カラー表示装置において、最近、波長460nm付近にピークを持つ光が、人の目の細胞に対して良くない影響を与えることが研究されている。例えば網膜が波長460nm付近の光を感受すると、メラトニン(睡眠と関連したホルモン)が抑制され、不眠症などを誘発することが知られている。波長460nm付近にピークを持つ光は、表示装置に使用されるLED光源から出力される。このために表示装置において、波長460nm付近にピークを持つ光を抑圧する対策が望まれている。
そこで本実施形態は、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧し得る表示装置を提供することを目的とする。
そこで本実施形態は、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧し得る表示装置を提供することを目的とする。
一実施形態によれば、第1基板は第1乃至第4画素電極を備える。第2基板は、前記第1画素電極と対向する赤色フィルタと、前記第2画素電極と対向する緑色フィルタと、前記第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色フィルタと、前記第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色フィルタと、を備える。
以下、図面を参照して実施形態を説明する。なお、開示は一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
図1は、本実施形態における液晶表示装置LCDの構成例を概略的に示す分解斜視図である。液晶表示装置LCDは、アクティブマトリクス型の液晶表示パネルPNL、両面テープTP、光学シートOS、フレームFR、導光板LG、光源ユニットLU、反射シートRS、ベゼルBZなどを備えている。液晶表示パネルPNLを照明する面光源装置LSは、少なくとも導光板LG及び光源ユニットLUを備えて構成されている。
液晶表示パネルPNLは、平板状の第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された平板状の第2基板SUB2と、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に保持された液晶層と、を備えている。なお、液晶層は、液晶表示パネルPNLの厚みに比べて極めて薄く、第1基板SUB1と第2基板SUB2とを貼り合せるシール材の内側に位置しているため、その図示を省略している。
液晶表示パネルPNLは、第1基板SUB1と第2基板SUB2とが対向する領域に画像を表示する表示エリアDAを有している。図示した例では、表示エリアDAは、長方形状に形成されておりアクティブエリアと称される場合もある。液晶表示パネルPNLは、面光源装置LSからの光を選択的に透過することで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型である。液晶表示パネルPNLは、表示モードとして、主として基板主面に略平行な横電界を利用する横電界モードに対応した構成を有していても良いし、主として基板主面に略垂直な縦電界を利用する縦電界モードに対応した構成を有していても良い。
図示した例では、液晶表示パネルPNLを駆動するのに必要な信号を供給する信号供給源として、駆動ICチップCP及びフレキシブルプリント回路基板FPCが第1基板SUB1に実装されている。
光学シートOSは、光透過性を有しており、液晶表示パネルPNLの裏面側に位置し、少なくとも表示エリアDAと対向している。光学シートOSとしては、拡散シートOSA、プリズムシートOSB、プリズムシートOSC、拡散シートOSDなどが含まれる。図示した例では、これらの光学シートOSは、いずれも長方形状に形成されている。
光学シートOSは、光透過性を有しており、液晶表示パネルPNLの裏面側に位置し、少なくとも表示エリアDAと対向している。光学シートOSとしては、拡散シートOSA、プリズムシートOSB、プリズムシートOSC、拡散シートOSDなどが含まれる。図示した例では、これらの光学シートOSは、いずれも長方形状に形成されている。
フレームFRは、液晶表示パネルPNLとベゼルBZとの間に位置している。図示した例では、フレームFRは、矩形枠状に形成されており、表示エリアDAと対向する長方形状の開口部OPを有している。
両面テープTPは、表示エリアDAの外側で液晶表示パネルPNLとフレームFRとの間に位置している。この両面テープTPは、例えば遮光性を有しており、矩形枠状に形成されている。
両面テープTPは、表示エリアDAの外側で液晶表示パネルPNLとフレームFRとの間に位置している。この両面テープTPは、例えば遮光性を有しており、矩形枠状に形成されている。
導光板LGは、フレームFRとベゼルBZとの間に位置している。導光板LGは、平板状に形成され、第1主面LGA、第1主面LGAとは反対側の第2主面LGB、及び、第1主面LGAと第2主面LGBとを繋ぐ側面LGCを有している。
光源ユニットLUは、導光板LGの側面LGCに沿って配置されている。光源ユニットLUは、光源として機能する複数の発光ダイオードLD、複数の発光ダイオードLDが実装されるフレキシブル回路基板LFPCなどを備えている。図示した例では、これらの発光ダイオードLDは、導光板LGの短辺に平行な側面LGCに沿って一列に並んでいる。
なお、発光ダイオードLDは、導光板LGの長辺に平行な他の側面(側面LGCに交差する側面)に沿って並んでいても良い。
光源ユニットLUは、導光板LGの側面LGCに沿って配置されている。光源ユニットLUは、光源として機能する複数の発光ダイオードLD、複数の発光ダイオードLDが実装されるフレキシブル回路基板LFPCなどを備えている。図示した例では、これらの発光ダイオードLDは、導光板LGの短辺に平行な側面LGCに沿って一列に並んでいる。
なお、発光ダイオードLDは、導光板LGの長辺に平行な他の側面(側面LGCに交差する側面)に沿って並んでいても良い。
反射シートRSは、光反射性を有しており、ベゼルBZと導光板LGとの間に位置している。図示した例では、反射シートRSは、長方形状に形成されている。
ベゼルBZは、上記の液晶表示パネルPNL、両面テープTP、光学シートOS、フレームFR、導光板LG、光源ユニットLU、反射シートRSを収容している。図示した例では、面光源装置LSは、液晶表示パネルPNLの背面側、つまり第1基板SUB1と対向する側に配置されており、いわゆるバックライトとして機能する。
ベゼルBZは、上記の液晶表示パネルPNL、両面テープTP、光学シートOS、フレームFR、導光板LG、光源ユニットLU、反射シートRSを収容している。図示した例では、面光源装置LSは、液晶表示パネルPNLの背面側、つまり第1基板SUB1と対向する側に配置されており、いわゆるバックライトとして機能する。
図2は、図1に示した液晶表示装置LCDの構成例を概略的に示す断面図である。液晶表示パネルPNL、各種光学シートOSA乃至OSD、導光板LG、及び反射シートRSは、表示エリアDAのみならず、表示エリアDAよりも外側の非表示エリアNDAに延在している。光源ユニットLU及びフレームFRは、非表示エリアNDAに位置している。
反射シートRSは、導光板LGの第2主面LGBと対向している。各種光学シートOSA乃至OSDの各々は、導光板LGの第1主面LGAと液晶表示パネルPNLとの間で積層されている。
光源ユニットLUにおいて、フレキシブル回路基板LFPCは、ベゼルBZと、導光板LG及びフレームFRとの間に位置している。フレキシブル回路基板LFPCは、例えば、両面テープなどで導光板LGの第2主面LGBに接着されている。発光ダイオードLDは、フレームFRとベゼルBZとの間のスペースに収容されている。発光ダイオードLDの発光面LEは、導光板LGの側面LGCと対向している。側面LGCは、発光ダイオードLDからの放射光が入射する入射面に相当する。側面LGCに交差する第1主面LGAは、側面LGCから入射した光を出射する出射面に相当する。液晶表示パネルPNLは、第1主面LGAと対向する側に位置している。
光源ユニットLUにおいて、フレキシブル回路基板LFPCは、ベゼルBZと、導光板LG及びフレームFRとの間に位置している。フレキシブル回路基板LFPCは、例えば、両面テープなどで導光板LGの第2主面LGBに接着されている。発光ダイオードLDは、フレームFRとベゼルBZとの間のスペースに収容されている。発光ダイオードLDの発光面LEは、導光板LGの側面LGCと対向している。側面LGCは、発光ダイオードLDからの放射光が入射する入射面に相当する。側面LGCに交差する第1主面LGAは、側面LGCから入射した光を出射する出射面に相当する。液晶表示パネルPNLは、第1主面LGAと対向する側に位置している。
両面テープTPは、非表示エリアNDAにおいて、液晶表示パネルPNLとフレームFRとを接着している。液晶表示パネルPNLは、第1基板SUB1の外面に接着された第1光学素子OD1、及び、第2基板SUB2の外面に接着された第2光学素子OD2を備えている。第1光学素子OD1及び第2光学素子OD2の各々は、少なくとも偏光板を含んでいる。第1光学素子OD1は、光学シート(拡散シート)ODAと対向している。
第2基板SUB2は色フィルタを備えるが、その詳細な構造については、後述することにする。
図3は、液晶表示パネルPNLの構成及び等価回路の一例を概略的に示す図である。表示装置は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルPNLを備えている。液晶表示パネルLPNは、第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された第2基板SUB2と、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に保持された液晶層LQと、を備える。表示エリアDAは、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に液晶層LQが保持された領域に相当し、例えば、四角形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。
図3は、液晶表示パネルPNLの構成及び等価回路の一例を概略的に示す図である。表示装置は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルPNLを備えている。液晶表示パネルLPNは、第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された第2基板SUB2と、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に保持された液晶層LQと、を備える。表示エリアDAは、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に液晶層LQが保持された領域に相当し、例えば、四角形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。
第1基板SUB1は、表示エリアDAにおいて、第1方向Xに沿って延出した複数のゲート配線G(G1〜Gn)、第1方向Xに交差する第2方向Yに沿って延出した複数のソース配線S(S1〜Sm)を備えている。
また各画素PXは、図3の右側に1つを代表して示す(一点鎖線で囲まれた領域)ように、ゲート配線G及びソース配線Sと電気的に接続されたスイッチング素子SW、各画素PXにおいてスイッチング素子SWに電気的に接続された画素電極PE、画素電極PEと向かい合う共通電極CE1などを備えている。共通電極CE1が2本示されているが、実際には一体化した電極である。蓄積容量CSは、例えば、共通電極CE1と画素電極PEとの間に形成される。第2基板SUB2は、液晶層LQを介して第1基板SUB1と対向している。なお、蓄積容量CSは、必要に応じて設けてもよいし、設けなくてもよい。例えば、液晶表示装置LCDが、FFS(Fringe Field Switchig)モードである場合は、画素電極PEと共通電極CE1、及びその間に配置される絶縁物が蓄積容量CSとして機能するため、蓄積容量CSを別に設けなくてもよい。
また各画素PXは、図3の右側に1つを代表して示す(一点鎖線で囲まれた領域)ように、ゲート配線G及びソース配線Sと電気的に接続されたスイッチング素子SW、各画素PXにおいてスイッチング素子SWに電気的に接続された画素電極PE、画素電極PEと向かい合う共通電極CE1などを備えている。共通電極CE1が2本示されているが、実際には一体化した電極である。蓄積容量CSは、例えば、共通電極CE1と画素電極PEとの間に形成される。第2基板SUB2は、液晶層LQを介して第1基板SUB1と対向している。なお、蓄積容量CSは、必要に応じて設けてもよいし、設けなくてもよい。例えば、液晶表示装置LCDが、FFS(Fringe Field Switchig)モードである場合は、画素電極PEと共通電極CE1、及びその間に配置される絶縁物が蓄積容量CSとして機能するため、蓄積容量CSを別に設けなくてもよい。
各ゲート配線G(G1〜Gn)は、表示エリアDAの外側に引き出され、第1駆動回路GDに接続されている。各ソース配線S(S1〜Sm)は、表示エリアDAの外側に引き出され、第2駆動回路SDに接続されている。第1駆動回路GD及び第2駆動回路SDは、例えばその少なくとも一部が第1基板SUB1上に形成され、駆動ICチップ(液晶ドライバと称される場合もある)CPと接続されている。
第2駆動回路SDは、カラム反転駆動方法を実現するために、隣り合う列のソース配線に対して画素信号を出力する場合、異なる極性の画素信号を出力することができる。駆動ICチップCPは、第1駆動回路GD及び第2駆動回路SDを制御するコントローラを内蔵し、液晶表示パネルLPNを駆動するのに必要な信号を供給する信号供給源として機能する。図示した例では、駆動ICチップCPは、液晶表示パネルLPNの表示エリアDAの外側において、第1基板SUB1上に実装されている。
共通電極CE1は、表示エリアDAの全域に亘って延在しており、複数の画素PXに対して共通に形成されている。共通電極CE1は、表示エリアDAの外側に引き出され、給電部Vcomに接続されている。給電部Vcomは、例えば表示エリアDAの外側において第1基板SUB1に形成され、共通電極CE1と電気的に接続される。給電部Vcomには、一定の共通電圧が供給される。
複数の画素PXには、色フィルタが所定の規則で配列されている。色フィルタは、液晶層LQを挟んで画素電極に対向し、第2基板SUB2に形成されている。
図4は、各画素PXに対して配置された、色フィルタの例を示している。以下、色フィルタが一体化された画素を色画素と称し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B1又はB2)のフィルタが一体化された画素を、それぞれ赤色(R)画素、緑色(G)画素及び青色(B1又はB2)画素と称することにする。従って、R,G,B1,B2は、それぞれ赤色フィルタ、緑色フィルタ、第1青色フィルタ、第2青色フィルタと対応する。図4では色フィルタの配列を分かり易くするために、ソース配線S(S1〜Sm)などの一部を省略して示している。
図4は、各画素PXに対して配置された、色フィルタの例を示している。以下、色フィルタが一体化された画素を色画素と称し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B1又はB2)のフィルタが一体化された画素を、それぞれ赤色(R)画素、緑色(G)画素及び青色(B1又はB2)画素と称することにする。従って、R,G,B1,B2は、それぞれ赤色フィルタ、緑色フィルタ、第1青色フィルタ、第2青色フィルタと対応する。図4では色フィルタの配列を分かり易くするために、ソース配線S(S1〜Sm)などの一部を省略して示している。
ここで本実施形態では、R画素による第1の列C11と、G画素による第2の列C12と、B1画素とB2画素とが交互となる第3の列C13aまたはC13bによるRGBの複合色単位画素が存在する。複合色単位画素は、RGB画素を含むものとする。
ここで、第3の列が、C13a,C13bとして示されたのは、第3の列C13aは、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互となる列(奇数行がB1画素、偶数行がB2画素)であるが、同じ青でも第3の列C13bは、第2青色(B2)画素と第1青色(B1)画素とが交互となる列(奇数行がB2画素、偶数行がB1画素)であるからである。またB1画素とB2画素は、行方向に見た場合、B1画素と、B2画素が交互に繰り返して配列されるとも言える。複合色単位画素の各列に対して、図4では、符号COL1、COL2、COL3、COL4、・・・・を付して示している。各複合色単位画素の列COL1、COL2、COL3、COL4、・・・・は、それぞれ第1の列C11、第2の列C12、及び第3の列C13a(またはC13b)を含む。次に、画素の各行に対応して、行方向にゲート配線G(G1、G2、G3、G4、・・・・・Gn)が配線されている。
ここで、第3の列が、C13a,C13bとして示されたのは、第3の列C13aは、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互となる列(奇数行がB1画素、偶数行がB2画素)であるが、同じ青でも第3の列C13bは、第2青色(B2)画素と第1青色(B1)画素とが交互となる列(奇数行がB2画素、偶数行がB1画素)であるからである。またB1画素とB2画素は、行方向に見た場合、B1画素と、B2画素が交互に繰り返して配列されるとも言える。複合色単位画素の各列に対して、図4では、符号COL1、COL2、COL3、COL4、・・・・を付して示している。各複合色単位画素の列COL1、COL2、COL3、COL4、・・・・は、それぞれ第1の列C11、第2の列C12、及び第3の列C13a(またはC13b)を含む。次に、画素の各行に対応して、行方向にゲート配線G(G1、G2、G3、G4、・・・・・Gn)が配線されている。
上記のB1画素に用いられる第1青色(B1)フィルタは、波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する。また、B2画素に用いられる第2青色(B2)フィルタは、波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する。第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素は、この表示装置において、重要な役割を担うものである。第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素を用いることにより、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧し得る表示装置を提供することができる。これは波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色(B1)フィルタと、波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色(B2)フィルタとを用いていることに起因する。第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素の機能と作用効果については、後で詳しく説明することにする。
なお、本明細書において第1青色及び第2青色とは、人間の目で青色と認識できる青色の範囲の波長のうち、第1青色は波長460nmよりも短波長側にピークを有する波長であり、第2青色は波長460nmよりも長波長側にピークを有する波長とする。より具体的には、第1青色は、波長435〜495nmのうち、ピークの波長が460nmより小さく、第2青色は、波長435〜495nmのうち、ピークの波長が460nmより大きい波長とする。
図4において、各色画素に+或いは−の符号を付しているが、この符号は各色画素に書き込まれる画素信号の極性を示す。このように列毎に+、−、+、−、・・・となるように極性を反転させて駆動する方式は、カラム反転駆動方式と称される。カラム反転駆動方式は、液晶駆動効率を向上するために、隣り合う画素列の駆動電圧の極性を異なる極性にして駆動し、且つフレーム毎に前記極性を反転して駆動する液晶駆動方法である。
この駆動方法であると、以下のような効果を得ることができる。今、例えば赤色画素(R)に対する画素信号の書き込み処理について着目する。例えばゲート配線G1がオンであり、行方に見た場合、列COL1、COL3、COL5、・・・・の赤色画素(R)に画素信号(マイナス電位)が書き込まれ、列COL2、COL4、COL6、・・・・の赤色画素(R)に画素信号(プラス電位)が書き込まれる。R画素は、行方向に極性が+、−、+、−、・・・・と規則正しく繰り返している。このために、赤に関する共通電極の極性バランスは、何れか一方の極性に偏ることがない。つまり、赤色の画素信号の書き込み処理に関しては、共通電極の電位がプラス或いはマイナス方向に偏ることがない。また緑G画素に対する画素信号の書き込み処理、及びB1画素,B2画素に対する画素信号の書き込み処理においても同様な効果が得られる。
図5は、図4に示した複合色単位画素の構成例を、列COL1、列COL2の一部を代表して、さらに詳しく示す図である。図5では、図4に比べて、画素電極PEの構造と、ソース配線S1−S4を更に示している。さらに、図5では、画素電極PEと、この画素電極PEに対応するソース配線S(S1〜S4)とゲート配線G(G1〜G3)との接続部の周辺を代表して、概略的に示している。ソース配線S(S1〜S4)とゲート配線G(G1〜G3)で仕切られた領域内には開口部が形成される。各開口部には、画素電極PEがそれぞれ配置されている。
画素電極PEは、接続部に形成されたスイッチング素子SWにより、ソース配線Sに接続されている。スイッチング素子SWは、ゲート配線Gからの制御信号によりオン又はオフ制御される。この接続部の構成を図6A、図6Bを参照して後述することにする。
図6A、図6Bは、図5の四角で囲んだ部分1を取り出して示している。図6Aには、ソース配線S2、S3、及びゲート配線G2の近傍が拡大されて示されている。図6Bは、図6AのデバイスをA−Bのラインで断面した場合の概略構成を示している。図6Aと図6Bを参照して、ゲート配線G2と接続される第2青色(B2)画素の領域を詳しく説明することにする。
本実施形態は、画素電極PEがスリットを有し、画素電極PEと共通電極CE1との間で、液晶分子を駆動する方式として、FFS(Fringe Field Switching)方式を採用している。
ソース配線S3は、絶縁膜12と絶縁膜13との間に位置する。ソース配線S3の下部には、絶縁膜12、11を介して、半導体層SCが形成されている。ソース配線S3の一部に接続したソース電極WSは、コンタクトホールCH1を介して、半導体層SCのソース部に接続されている。半導体層SCは、ソース配線S3の下部に沿って延在し、ゲート配線G2の下部を通過し、第2青色画素(B2)の領域内に進入している。この第2青色画素(B2)の領域内に入り込んだ半導体層SCは、ドレイン部として使用される。
ソース配線S3は、絶縁膜12と絶縁膜13との間に位置する。ソース配線S3の下部には、絶縁膜12、11を介して、半導体層SCが形成されている。ソース配線S3の一部に接続したソース電極WSは、コンタクトホールCH1を介して、半導体層SCのソース部に接続されている。半導体層SCは、ソース配線S3の下部に沿って延在し、ゲート配線G2の下部を通過し、第2青色画素(B2)の領域内に進入している。この第2青色画素(B2)の領域内に入り込んだ半導体層SCは、ドレイン部として使用される。
ゲート配線G2は、ソース配線S3の層の下部の絶縁膜11と絶縁膜12との間に位置する。ゲート配線G2は、一部が画素形成領域に突出している。この一部がG2’として図示されている。
半導体層SCのドレイン部は、絶縁膜11、12を貫通するコンタクトホールCH2を介して、ドレイン電極WDに接続されている。さらにドレイン電極WDは、絶縁膜13、共通電極CE1、絶縁膜14を貫通するコンタクトホールCH3を介して、画素電極PEに接続されている。なお図6Bの共通電極CE1は、図6Aでは示していない。
半導体層SCのドレイン部は、絶縁膜11、12を貫通するコンタクトホールCH2を介して、ドレイン電極WDに接続されている。さらにドレイン電極WDは、絶縁膜13、共通電極CE1、絶縁膜14を貫通するコンタクトホールCH3を介して、画素電極PEに接続されている。なお図6Bの共通電極CE1は、図6Aでは示していない。
図7は、図6A、図6Bに示したスイッチング素子(SW)を含む接続部の周辺の断面構造を概略的に示す図である。
第1基板SUB1は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する第1絶縁基板10を用いて形成されている。第1基板SUB1は、スイッチング素子SW、第1共通電極CE1、画素電極PE、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、第4絶縁膜14、第1水平配向膜AL1などを備えている。
第1基板SUB1は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する第1絶縁基板10を用いて形成されている。第1基板SUB1は、スイッチング素子SW、第1共通電極CE1、画素電極PE、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、第4絶縁膜14、第1水平配向膜AL1などを備えている。
図示した例では、スイッチング素子SWは、トップゲート型の薄膜トランジスタである。スイッチング素子SWは、第1絶縁基板10の上に配置された半導体層SCを備えている。なお、第1絶縁基板10と半導体層SCとの間に絶縁膜であるアンダーコート層が介在していても良い。
半導体層SCは、第1絶縁膜11によって覆われている。また、第1絶縁膜11は、第1絶縁基板10の上にも配置されている。このような第1絶縁膜11は、例えば、酸化珪素や酸化窒素等の無機系材料によって形成されている。
スイッチング素子SWのゲート電極WGは、第1絶縁膜11の上に形成され、半導体層SCの直上に位置している。ゲート電極WGは、ゲート配線G2、G2’に電気的に接続され(あるいは、ゲート配線と一体的に形成され)、第2絶縁膜12によって覆われている。また、第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11の上にも配置されている。このような第2絶縁膜12は、例えば、シリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。
スイッチング素子SWのゲート電極WGは、第1絶縁膜11の上に形成され、半導体層SCの直上に位置している。ゲート電極WGは、ゲート配線G2、G2’に電気的に接続され(あるいは、ゲート配線と一体的に形成され)、第2絶縁膜12によって覆われている。また、第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11の上にも配置されている。このような第2絶縁膜12は、例えば、シリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。
スイッチング素子SWのソース電極WS及びドレイン電極WDは、第2絶縁膜12の上に形成されている。また、ソース配線S3も同様に第2絶縁膜12の上に形成されている。図示したソース電極WSは、ソース配線S3に電気的に接続されている(あるいは、ソース配線S3と一体的に形成されている)。ソース電極WS及びドレイン電極WDは、それぞれ第1絶縁膜11及び第2絶縁膜12を貫通するコンタクトホールCH1,CH2を通して半導体層SCにコンタクトしている。このスイッチング素子SWは、ソース配線S3とともに第3絶縁膜13によって覆われている。第3絶縁膜13は、第2絶縁膜12の上にも配置されている。この第3絶縁膜13は、例えば、透明な樹脂材料によって形成されている。
共通電極CE1は、第3絶縁膜13の上に延在している。図示したように、共通電極CE1は、ソース配線S3の上方をカバーし、隣接する画素に向かって延在している。この共通電極CE1は、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)やインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:IZO)などの透明な導電材料によって形成されている。共通電極CE1の上には、第4絶縁膜14が配置されている。
共通電極CE1は、第3絶縁膜13の上に延在している。図示したように、共通電極CE1は、ソース配線S3の上方をカバーし、隣接する画素に向かって延在している。この共通電極CE1は、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)やインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:IZO)などの透明な導電材料によって形成されている。共通電極CE1の上には、第4絶縁膜14が配置されている。
第3絶縁膜13及び第4絶縁膜14には、ドレイン電極WDまで貫通したコンタクトホールCH3が形成されている。第4絶縁膜14は、第3絶縁膜13と比較して薄い膜厚に形成され、例えば、シリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。この第4絶縁膜14は、共通電極CE1を覆う層間絶縁膜に相当する。
画素電極PEは、第4絶縁膜14の上においてスリットを有して形成され、第1共通電極CE1と対向している。画素電極PEは、コンタクトホールCH3を介してスイッチング素子SWのドレイン電極WDに電気的に接続されている。この画素電極PEは、例えば、ITOやIZOなどの透明な導電材料によって形成されている。画素電極PEは、第1水平配向膜AL1によって覆われている。
一方、第2基板SUB2は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する第2絶縁基板30を用いて形成されている。第2基板SUB2は、第2絶縁基板30の第1基板SUB1に対向する側に、遮光層31、色フィルタ32、オーバーコート層33、第2水平配向膜AL2などを備えている。
遮光層31は、表示エリアDAにおいて各画素PXを区画し、開口部を形成する。遮光層31は、色画素の境界あるいは第1基板SUB1に設けられたソース配線と対向する位置などに設けられている。遮光層31は、遮光性の金属材料や黒色の樹脂材料によって形成されている。
色フィルタ32は、ゲート配線とソース配線で仕切られた領域内に形成される開口部に形成され、その一部が遮光層31と重なっている。色フィルタ32は、例えば、この図の場合は、B2画素のためのフィルタであり、第2青色に着色された樹脂材料が用いられている。赤色フィルタの場合、赤色に着色された樹脂材料が用いられ、緑色フィルタの場合、緑色に着色された樹脂材料が用いられ、第1青色フィルタの場合、第1青色に着色された樹脂材料が用いられる。
赤色フィルタは赤色を表示するR画素に配置され、緑色フィルタは緑色を表示するG画素に配置され、第1、第2の青色フィルタは青色を表示するB1画素、B2画素に配置されている。異なる色の色フィルタ間の境界は、ソース配線の上方の遮光層と重なる位置にある。
オーバーコート層33は、色フィルタ32を覆っている。オーバーコート層33は、遮光層31や色フィルタ32の凹凸を平坦化する。オーバーコート層33は、透明な樹脂材料によって形成されている。オーバーコート層33は下地として利用され、第2水平配向膜AL2によって覆われている。
第1水平配向膜AL1及び第2水平配向膜AL2は、水平配向性を示す材料によって形成され、ラビングなどの配向処理を必要とせずに液晶分子を基板の法線方向に配向させる配向規制力を有している。
上述したような第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、第1水平配向膜AL1及び第2水平配向膜AL2が向かい合うように配置されている。このとき、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間には、一方の基板に形成された柱状スペーサにより、所定のセルギャップが形成される。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層LQは、第1水平配向膜AL1と第2水平配向膜AL2との間のセルギャップに封入されている。
上述したような第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、第1水平配向膜AL1及び第2水平配向膜AL2が向かい合うように配置されている。このとき、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間には、一方の基板に形成された柱状スペーサにより、所定のセルギャップが形成される。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層LQは、第1水平配向膜AL1と第2水平配向膜AL2との間のセルギャップに封入されている。
上記構成の液晶表示パネルに対して、その背面側には、バックライトBLが配置されている。バックライトBLとしては、種々の形態が適用可能であるが、ここでは詳細な構造についての説明は省略する。
第1絶縁基板10の外面には、第1偏光板PL1を含む第1光学素子が配置されている。第2絶縁基板30の外面には、第2偏光板PL2を含む第2光学素子が配置されている。第1偏光板PL1及び第2偏光板PL2は、例えば、それぞれの偏光軸が直交するクロスニコルの位置関係となるように配置される。
なお、図7では、第1基板SUB1にスイッチング素子SW、画素電極PE、共通電極CE1等が配置されており、色フィルタ32の層は、第1基板SUB1に対向する第2基板SUB2に配置されている。すなわち、図7では、色フィルタ32の層がアレイ基板と対向する対向基板側に配置されている例が示されている。
第1絶縁基板10の外面には、第1偏光板PL1を含む第1光学素子が配置されている。第2絶縁基板30の外面には、第2偏光板PL2を含む第2光学素子が配置されている。第1偏光板PL1及び第2偏光板PL2は、例えば、それぞれの偏光軸が直交するクロスニコルの位置関係となるように配置される。
なお、図7では、第1基板SUB1にスイッチング素子SW、画素電極PE、共通電極CE1等が配置されており、色フィルタ32の層は、第1基板SUB1に対向する第2基板SUB2に配置されている。すなわち、図7では、色フィルタ32の層がアレイ基板と対向する対向基板側に配置されている例が示されている。
しかしながら、本実施の形態の表示装置では、色フィルタの層が対向基板側に配置される構造に限定されず、アレイ基板側に配置される構造、いわゆるカラーフィルタ・オン・アレイ(COA)構造であってもよい。
図8に本実施の液晶表示装置をCOA構造で作製した例を示している。図8では、図7の第2絶縁膜12と第3絶縁膜13との間に、色フィルタ32の層を設けた例である。
図8に本実施の液晶表示装置をCOA構造で作製した例を示している。図8では、図7の第2絶縁膜12と第3絶縁膜13との間に、色フィルタ32の層を設けた例である。
図8において、色フィルタ32の層は、ソース配線S、ゲート配線G、スイッチング素子SW等を覆うように形成される。各画素に設けられる色フィルタ32の層は、一部がブラックマトリクス31上に形成される。ブラックマトリックス31は、基本的には、ソース配線S、ゲート配線G、スイッチング素子SWの部分を覆うように形成される。
各画素には、色フィルタ32の層として、上述のように、赤色(R)フィルタ、緑色(G)フィルタと、第1青色(B1)フィルタ、第2青色(B2)フィルタが設けられる。
また、アレイ基板である第1基板SUB1において、スイッチング素子SW、ゲート配線G、ソース配線S、ブラックマトリクス、色フィルタ層の配置に起因した凹凸は、第3絶縁膜13によって平坦化される。このため、対向基板側にブラックマトリクスや色フィルタの層を配置した構成と比較して、対向基板側を平坦化するためのオーバーコート層が不要となり、薄型化、軽量化、低コスト化が可能となる。
また、アレイ基板である第1基板SUB1において、スイッチング素子SW、ゲート配線G、ソース配線S、ブラックマトリクス、色フィルタ層の配置に起因した凹凸は、第3絶縁膜13によって平坦化される。このため、対向基板側にブラックマトリクスや色フィルタの層を配置した構成と比較して、対向基板側を平坦化するためのオーバーコート層が不要となり、薄型化、軽量化、低コスト化が可能となる。
図9は、一実施形態の要部を取り出して示している。実施形態の表示装置は、第1基板SUB1が第1乃至第4画素電極を備える。第1の画素電極は、例えばR画素の画素電極であり、第2の画素電極はG画素の画素電極であり、第3の画素電極はB1画素の画素電極であり、第4の画素電極はB2画素の画素電極である。図9では、画素電極の符号としてPEを代表して示しているが、第1〜第4の画素電極の符号はPE1−PE4と記載できる。
したがって、第2基板SUB2に設けられる赤色(R)フィルタ、緑色(G)フィルタと、第1青色(B1)フィルタ、第2青色(B2)フィルタは、それぞれ、第1、第2、第3及び第4の画素電極(PE)と対向している。そして、第1青色(B1)フィルタは、第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する。第2青色(B2)フィルタは、第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する。例えば、第1青色(B1)フィルタは、波長430nmに透過率のピークを有し、第2青色(B2)フィルタは、波長470nmに透過率のピークを有する。この構成により、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧する表示装置を実現することができた。この表示装置では、RGBフィルタが含まれる画素を複合色画素と称したが、この実施例では、2つの複合色画素(2R,2G,B1,B2)により、色バランスが得られる構成である。
図9の実施形態は、赤色(R)フィルタ、緑色(G)フィルタと、第1青色(B1)フィルタ、第2青色(B2)フィルタの面積は、同じである。しかしこの実施形態は、一例であり、図10に示す構成であっても波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧する表示装置を実現することができた。図9では、第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。なお、下記において、画素の面積とはそれぞれ色フィルタの面積と同等である。
図10の実施形態は、第1の列において、R画素とG画素とが交互に配列され、第2の列において、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互に配列される構成である。また第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素は、行方向に見た場合も、交互に配列されている。さらに、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素の面積は同じであるが、R画素とG画素の面積は、それぞれ第1青色(B1)画素(又は第2青色(B2)画素)の面積より小さく、例えば1/2である。RGBフィルタが含まれる画素を複合色画素と称したが、この実施例では、2つの複合色画素(2R,2G,B1,B2)により、色バランスが得られる構成である。図10においても第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。
図10の実施形態は、第1の列において、R画素とG画素とが交互に配列され、第2の列において、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互に配列される構成である。また第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素は、行方向に見た場合も、交互に配列されている。さらに、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素の面積は同じであるが、R画素とG画素の面積は、それぞれ第1青色(B1)画素(又は第2青色(B2)画素)の面積より小さく、例えば1/2である。RGBフィルタが含まれる画素を複合色画素と称したが、この実施例では、2つの複合色画素(2R,2G,B1,B2)により、色バランスが得られる構成である。図10においても第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。
図11は、更に他の実施形態を示している。この実施形態は、第1の列がR画素、第2の列がG画素である。そして、第3の列は、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素が交互に配列されるが、B1画素の面積が大きく、B2画素の面積が小さく構成されていている。例えば、R画素とG画素の面積は同じであり、B1画素の面積はB2画素の面積より大きく、B1画素の面積はR画素及びG画素それぞれの面積より大きく、B2画素の面積はR画素及びG画素それぞれの面積より小さい。より具体的には、B1画素の面積は、R画素またはG画素の1.5倍であり、B2画素の面積は、R画素またはG画素の0.5倍である。B1画素とB2画素の面積比を制御することにより、光の透過量を制御することができる。この実施形態においてもB1画素とB2画素は、行方向に見た場合も、交互に配列されている。図11においても第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。
図12は、更にまた他の実施形態を示している。この実施形態は、第1の列において、R画素とG画素とが交互に配列され、第2の列において、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互に配列される構成である。また第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素は、行方向に見た場合も、交互に配列されている。例えば、R画素とG画素の面積は同じであり、B1画素の面積はB2画素の面積より大きく、B1画素の面積はR画素及びG画素の合計の面積より大きく、B2画素の面積はR画素及びG画素の面積より小さい。より具体的には、B1画素の面積は、2つのR画素と2つのG画素との合計面積の2/3である。さらに、B2画素の面積は、2つのR画素分の面積と2つのG画素分の面積との合計面積の1/3である。言いかえれば、その面積に関しては、B1画素とB2画素との比率は2:1である。また、B1画素とB2画素の面積との合計面積と同じ面積が、次の列(column)の中に取得される。そして取得された面積は、4つに分割される。そしてG画素の2つおよびR画素の2つが、前記4つに割り当てられる。B1画素とB2画素の合計面積が3である場合、B1画素の面積はその合計面積のうちの2/3で、B2画素の面積はその合計面積のうちの1/3である。さらに、R画素およびG画素の各々の面積は、B2画素の面積の3/4=0.75に設定される。この実施例では、2つの複合色画素(4R,4G,2B1,2B2)により、色バランスが得られる構成である。図12においても第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。
図12は、更にまた他の実施形態を示している。この実施形態は、第1の列において、R画素とG画素とが交互に配列され、第2の列において、第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素とが交互に配列される構成である。また第1青色(B1)画素と第2青色(B2)画素は、行方向に見た場合も、交互に配列されている。例えば、R画素とG画素の面積は同じであり、B1画素の面積はB2画素の面積より大きく、B1画素の面積はR画素及びG画素の合計の面積より大きく、B2画素の面積はR画素及びG画素の面積より小さい。より具体的には、B1画素の面積は、2つのR画素と2つのG画素との合計面積の2/3である。さらに、B2画素の面積は、2つのR画素分の面積と2つのG画素分の面積との合計面積の1/3である。言いかえれば、その面積に関しては、B1画素とB2画素との比率は2:1である。また、B1画素とB2画素の面積との合計面積と同じ面積が、次の列(column)の中に取得される。そして取得された面積は、4つに分割される。そしてG画素の2つおよびR画素の2つが、前記4つに割り当てられる。B1画素とB2画素の合計面積が3である場合、B1画素の面積はその合計面積のうちの2/3で、B2画素の面積はその合計面積のうちの1/3である。さらに、R画素およびG画素の各々の面積は、B2画素の面積の3/4=0.75に設定される。この実施例では、2つの複合色画素(4R,4G,2B1,2B2)により、色バランスが得られる構成である。図12においても第1基板SUB1、第2基板SUB2を平面的に重ねて示している。
図13は、本実施形態の表示装置において、B1画素と、B2画素と、R画素、G画素から得られる光の強度特性を示している。黒丸マークが付された曲線と黒四角マークが付された曲線が、それぞれB1画素とB2画素から出力される光の強度を示す特性である。白四角マークが付された曲線と白丸マークが付された曲線が、それぞれR画素とG画素のから出力される光の強度を示す特性である。また点線で示す曲線は、発光ダイオード(LD)から出力される光の強度を示す特性であり、参考のために示している。
この特性グラフから分かるように、本実施形態による表示装置は、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。この実施形態は、例えば、波長430nmの出力光にピークを持つ青色(B1)画素と、波長470nmの出力光にピークを持つ青色(B2)画素を用いているがこの実施形態に限定されるものではない。波長460nmよりも短波長側にピークを持つ青色画素のみを用いても本来の目的は達成できる。また、波長460nmよりも長波長側にピークを持つ青色画素のみを用いても本来の目的は達成できる。そして、波長460nmよりも短波長側と、波長460nmよりも長波長側にピークを持つ2つの青色画素を用いた場合、より効果的に波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。
図14は、B1画素とB2画素を用いた実施形態の表示装置が、色表現を行うエリアを説明するために示した色度図である。基本的には、R、G、B1の3原色により、各種の色が表現される。本実施形態の表示装置は、青色表現に関しては、B1画素に加えてB2画素を使用するために、この2つの画素間を結ぶ線の線上の色Bjを基準とした青色表現となる。このためにR、G、B1の3原色により表現される色表現エリアよりも拡大された色表現エリアを得ることができる。そして本表示装置によれば、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。
図15は、更に他の実施形態を示す図である。この実施形態は、光源として、特性の異なる複数の発光ダイオードLDを組み合わせた場合に得られる光の強度特性の例を示す図である。この実施形態は、異なる特性の複数の発光ダイオードLDを組み合わせることにより、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。この実施形態では、発光ダイオードLDとして、波長430nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードと、470nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードとを図1に示した光源ユニットLUに組み込んでいる。この光源ユニットLUを用いた場合、図15に実線で示す曲線の出力光の特性が得られる。図15には、参考として波長430nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードの出力光の特性(点線で示す曲線),波長450nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードの出力光の特性(一点鎖線で示す曲線)を示している。
実施形態では、図1に示した導光板LGの入射面に対向し波長460nmよりも短波長側に発光スペクトルのピークを有する第1白色光源と、前記入射面に対向し波長460nmよりも長波長側に発光スペクトルのピークを有する第2白色光源とを少なくとも用いることで波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。第1白色光源及び第2白色光源は、青色発光ダイオードと黄色の蛍光体とにより実現することができる。
上記のように光源として機能する複数の発光ダイオードLDの特性を選定しても、波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧することができる。この場合、色フィルタとしては、従来のRGBのフィルタが用いられても、目的を達成できる。しかし、先に説明したB1画素、B2画素を使用する実施形態と、複数の発光ダイオードLDの特性を選定する実施形態とを組み合わせることにより、より効果的に目的を達成する表示装置を得ることができる。
さらに光源(第1白色光源及び前記第2白色光源)としては、発光ダイオードに代えて量子ドットを用いてもよい。量子ドットは、長波長から、短波長の領域にわたって任意のピークを作成することができる。さらに、光源(第1白色光源及び前記第2白色光源)として、発光ダイオードに代えて有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)材料を用いた発光体(有機発光ダイオード(Organic light-emitting diode:OLED)ともいう)を用いてもよい。
上記の例は、光源として波長430nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードと、波長470nmの出力光にピークを持つ発光ダイオードの2種類を使用したが、さらに、460nm付近にピークを有しない複数の発光ダイオードを組み合わせてもよい。例えば、多波長化して、波長410nm、430nm、450nm、470nmの4種類を用いてもよい。波長間隔は、等間隔でなくてもよいが、波長460nmを中心にして、短波長側、長波長側に対象にピークを持つ光源を用いることで波長460nm付近のエネルギー強度を効果的に抑圧することができる。さらにまた、この構成と先の実施形態で説明したB1画素及びB2画素の組合せた構成を採用してもよい。この構成であると、なお一層、波長460nm付近のエネルギー強度を効果的に抑圧することができる。
本発明は、上記した実施形態に限定されるものではない。図9、図10、図11、図12の形態のB1画素とB2画素が使用された場合、青色信号は、従来の青色用の画素信号をそのままB1画素と、B2画素に同様に供給すると、希望のあるいは期待される色再現が得られない場合がある。そこで、図9乃至図12の画素配列パターンに適した画素信号が生成されることが望ましい。
図16は、第2駆動回路SDの内部の概略的構成を示す図である。第2駆動回路SD内部には、各画素に供給するための画素データを、デジタルアナログ変換し、アナログの画素信号を増幅し、ソース配線に出力するための複数の回路が設けられている。第2駆動回路SDは、入力インターフェース211を有する。入力インターフェース211には、駆動ICチップCPからの画像データ、同期信号Syncが入力する。入力インターフェース211からの画像データは画像データラッチ回路213で、1水平ライン或いは複数水平ライン分の画像データがラッチされる。
各ソース配線S(S1〜Sm;図16の例は、ソース配線S1−S4を代表として示す)に対応する画像データは、それぞれ補正回路2141−2144で補正された後、それぞれの補正後データは、デジタルアナログ変換器DA1−DA4に入力され、アナログ信号(画素信号)として生成される。補正回路2141−2144にて補正される補正値は、図9乃至図12の画素配列パターンに適した値に設定されている。また、補正値は、奇数ラインと偶数ラインで切り替えられることができる。なお実際の回路では、ガンマ補正回路も存在するが、省略している。
デジタルアナログ変換器DA1−DA4の出力画素信号は、それぞれ、プラス極画素信号と、マイナス極画素信号として生成される。例えばデジタルアナログ変換器DA1の場合、プラス極画素信号はそのままスッチSL1の一方の端子に入力されるが、マイナス極画素信号は、反転回路IN1により生成され、スイッチSL1の他方の端子に入力される。デジタルアナログ変換器DA1のプラス極画素信号とマイナス極画素信号は、スイッチSL1にて何れか一方が選択されて、ソース配線S1に出力される。同様にデジタルアナログ変換器DA2のプラス極画素信号とマイナス極画素信号は、スイッチSL2にて何れか一方が選択されて、ソース配線S2に出力される。またデジタルアナログ変換器DA3のプラス極画素信号とマイナス極画素信号は、スイッチSL3にて何れか一方が選択されて、ソース配線S3に出力される。デジタルアナログ変換器DA4のプラス極画素信号とマイナス極画素信号は、スイッチSL4にて何れか一方が選択されて、ソース配線S4に出力される。上記のスイッチSL1−SL4の選択モードにより、カラム極性反転が実現される。
シーケンサ(タイミング制御回路と称しても良い)230は、外部からの同期信号に同期する。シーケンサ230は、発振器231で生成された内部クロックに基づいて、各種のタイミング信号を生成している。
シーケンサ230は、入力インターフェース211が外部からの画像データを取り込むためのタイミング信号、画像データメモリ212が入力インターフェース211からの画像データを取り込むためのタイミング信号、及び画素データラッチ回路213が画像データメモリ212からの画像データを取り込むためのタイミング信号を生成している。
シーケンサ230は、入力インターフェース211が外部からの画像データを取り込むためのタイミング信号、画像データメモリ212が入力インターフェース211からの画像データを取り込むためのタイミング信号、及び画素データラッチ回路213が画像データメモリ212からの画像データを取り込むためのタイミング信号を生成している。
また、シーケンサ230は、補正回路2141−2144がそれぞれ画像データを補正するためのタイミング信号、デジタルアナログ変換器DA1−DA4が画像データをアナログデータに変換するためのクロック及びタイミング信号、スイッチSL1−SL4が動作するためのタイミング信号を生成している。
さらにまた、シーケンサ230は、中央処理装置(CPU)230a及びメモリ(図示せず)を含んでもよい。そして、メモリに書き込まれるソフトウエアに応じて、CPU230aに基づくタイミング処理動作やデータ処理動作が変更できるようにしてもよい。これにより、例えば、補正回路2141−2144で使用される補正値が、フィルタの種類(画素配列パターン)に応じて調整可能となる。調整手段を含む補正回路2141−2144などは、画素信号の利得制御回路或いは調整回路と称されてもよい。
パネル制御信号生成回路232は、シーケンサ230からの所定のタイミング信号に基づいて、液晶表示パネルPNLの表示動作を制御するためのタイミングパルスを生成している。例えば、パネル制御信号生成回路232は、ゲート配線G(G1〜Gn)を駆動するためのゲート駆動パルスを生成している。パネル制御信号生成回路232は、シーケンサ230と同期連携するために、タイミング信号をシーケンサ230にフィードバックする。またシーケンサ230は、駆動ICチップCPに対しても、画像データを受け取る基準となるタイミングパルスを与えている。
なお上記の実施形態において、各画素信号の利得が、デジタルデータの段階で補正値により調整されるものとして説明した。しかし、各画素信号の利得は、アナログ信号の段階で調整されてもよい。
上記したように、画素データラッチ回路213から出力される画像データを補正回路により補正することで、図9乃至図12の画素配列パターンに適した値の画素信号を生成することができる。図9の画素配列パターンの場合、例えばR画素と、G画素に与える画素信号の利得は、それぞれ例えば“1”であるものとする。このとき、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得も“1”であっても良いが、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得が調整されてもよい。例えば、B2画素に与える画素信号の利得より、B1画素に与える画素信号の利得を小さくし、B2画素に与える画素信号の利得とB1画素に与える画素信号の利得を合わせて2となるように制御することができる。
そしてB1画素とB2画素に与える画素信号の利得は、必要に応じて補正値が可変されることにより、調整されてもよい。この調整は、例えば駆動ICチップCPの製造工程、テスト工程などで実施される。
上記したように、画素データラッチ回路213から出力される画像データを補正回路により補正することで、図9乃至図12の画素配列パターンに適した値の画素信号を生成することができる。図9の画素配列パターンの場合、例えばR画素と、G画素に与える画素信号の利得は、それぞれ例えば“1”であるものとする。このとき、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得も“1”であっても良いが、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得が調整されてもよい。例えば、B2画素に与える画素信号の利得より、B1画素に与える画素信号の利得を小さくし、B2画素に与える画素信号の利得とB1画素に与える画素信号の利得を合わせて2となるように制御することができる。
そしてB1画素とB2画素に与える画素信号の利得は、必要に応じて補正値が可変されることにより、調整されてもよい。この調整は、例えば駆動ICチップCPの製造工程、テスト工程などで実施される。
図10の画素配列パターンの場合、R画素と、G画素に与える画素信号の利得は、それぞれ例えば“2”とする。そして、B1画素と、B2画素に与える画素信号の利得は、それぞれ例えば“1”とする。これにより、複合色画素の単位のエリアにおいて、RGBのバランスを観察することができる。この場合も、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得は、必要に応じて補正値が可変されることにより、調整されてもよい。この調整は、例えば駆動ICチップCPの製造工程、テスト工程などで実施される。
また、図11の画素配列パターンの場合、例えばR画素と、G画素に与える画素信号の利得は、例えば“1”とされる。そして、このとき、B2画素に与える画素信号の利得が2/4、B1画素に与える画素信号に与える画素信号の利得が6/4とされる。これにより、複合色画素の単位のエリア内では、赤色画素、緑色画素、青色画素の各画素信号の利得が2となるように制御することができる。
さらにまた図12の画素配列パターンの場合、例えばR画素と、B画素に与える画素信号の利得は、例えば“1”とされる。このとき、B2画素に与える画素信号の利得が2/4、B1画素に与える画素信号に与える画素信号の利得が6/4とされる。これにより、複合色画素の単位のエリア内では、赤色画素、緑色画素、青色画素の各画素信号の利得が2となるように制御することができる。
上記の各実施形態の場合も、B1画素とB2画素に与える画素信号の利得は、必要に応じて補正値が可変されることにより、調整されてもよい。この調整は、例えば駆動ICチップCPの製造工程、テスト工程などで実施される。B1画素とB2画素に与える画素信号の利得の配分は、フィルタの光透過率により調整されてもよい。したがって、実施形態の表示装置によれば、少なくともB1画素とB2画素に供給する画素信号の利得の配分を調整できる調整回路を備える。
図17は、更に他の実施形態であり、液晶表示装置LCDの代わりに有機EL素子が用いられた表示装置を用いた場合の表示装置の断面構造を概略的に示す図である。なお、有機EL素子は自発光であるので、図17に示す表示装置は、有機EL素子とは別の光源は設けない。
図17は、更に他の実施形態であり、液晶表示装置LCDの代わりに有機EL素子が用いられた表示装置を用いた場合の表示装置の断面構造を概略的に示す図である。なお、有機EL素子は自発光であるので、図17に示す表示装置は、有機EL素子とは別の光源は設けない。
第1基板SUB1と第2基板SUB2が対向している。第1基板SUB1は、第2基板SUB2側に、第1絶縁基板110、第2絶縁膜112、第3絶縁膜113、リブ115などを備えている。
第1基板SUB1は、第1絶縁基板110の第2基板SUB2と対向する側に、スイッチング素子SW1、SW2、SW3・・・、有機EL素子OLED1、OLED2、OLED3・・・などを備えている。図16では、3つのスイッチング素子SW1−SW3、有機EL素子OLED1−OLED3を代表して示している。スイッチング素子SW1−SW3は、第1絶縁基板110の上に配置されている。スイッチング素子SW1−SW3は、例えば、それぞれ半導体層SCを備えた薄膜トランジスタ(TFT)である。スイッチング素子SW1−SW3は、いずれも同一構造であるが、ここでは、スイッチング素子SW1に着目してその構造をより具体的に説明する。
第1基板SUB1は、第1絶縁基板110の第2基板SUB2と対向する側に、スイッチング素子SW1、SW2、SW3・・・、有機EL素子OLED1、OLED2、OLED3・・・などを備えている。図16では、3つのスイッチング素子SW1−SW3、有機EL素子OLED1−OLED3を代表して示している。スイッチング素子SW1−SW3は、第1絶縁基板110の上に配置されている。スイッチング素子SW1−SW3は、例えば、それぞれ半導体層SCを備えた薄膜トランジスタ(TFT)である。スイッチング素子SW1−SW3は、いずれも同一構造であるが、ここでは、スイッチング素子SW1に着目してその構造をより具体的に説明する。
スイッチング素子SW1は、トップゲート型であるが、ボトムゲート型であっても良い。半導体層SCは、第1絶縁基板110の上に形成され、第1絶縁膜111によって覆われている。第1絶縁膜111は、第1絶縁基板110の上にも配置されている。第1絶縁膜111の上には、スイッチング素子SW1のゲート電極WGが形成されている。ゲート電極WGは、第2絶縁膜112によって覆われている。第2絶縁膜112は、第1絶縁膜111の上にも配置されている。第2絶縁膜112の上には、スイッチング素子SW1のソース電極WS及びドレイン電極WDが形成されている。ソース電極WS及びドレイン電極WDは、それぞれ半導体層SCにコンタクトしている。ソース電極WS及びドレイン電極WDは、第3絶縁膜113によって覆われている。第3絶縁膜113は、第2絶縁膜112の上にも配置されている。
有機EL素子OLED1−OLED3は、第3絶縁膜113の上に配置されている。有機EL素子OLED1はスイッチング素子SW1と電気的に接続され、有機EL素子OLED2はスイッチング素子SW2と電気的に接続され、有機EL素子OLED3はスイッチング素子SW3と電気的に接続されている。有機EL素子OLED1−OLED3は、いずれも第2基板SUBに向かって白色光を放射するトップエミッションタイプとして構成されている。このような有機EL素子OLED1−OLED3は、いずれも同一構造である。
有機EL素子OLED1は、第3絶縁膜113の上に形成された画素電極PE1を備えている。画素電極PE1は、スイッチング素子SW1のドレイン電極WDとコンタクトし、スイッチング素子SW1と電気的に接続されている。同様に、有機EL素子OLED2はスイッチング素子SW2と電気的に接続された画素電極PE2を備え、有機EL素子OLED3はスイッチング素子SW3と電気的に接続された画素電極PE3を備えている。
有機EL素子OLED1−OLED3は、さらに、有機発光層ORG及び共通電極CEを備えている。有機発光層ORGは、白色に発光する白色発光層であり、画素電極PE1−PE3の上にそれぞれ位置している。この有機発光層ORGは、例えば有機EL素子OLED1−OLED3に亘って途切れることなく連続的に形成されている。共通電極CEは、有機発光層ORGの上に位置している。この共通電極CEは、有機EL素子OLED1−OLED3に亘って途切れることなく連続的に形成されている。
つまり、有機EL素子OLED1は、画素電極PE1、有機発光層ORG、及び、共通電極CEによって構成されている。同様に、有機EL素子OLED2は、画素電極PE2、有機発光層ORG、及び、共通電極CEによって構成され、また、有機EL素子OLED3は、画素電極PE3、有機発光層ORG、及び、共通電極CEによって構成されている。
なお、有機EL素子OLED1−OLED3において、画素電極PE1乃至PE3の各々と有機発光層ORGとの間には、さらに、ホール注入層やホール輸送層が介在していても良いし、また、有機発光層ORGと共通電極CEとの間には、さらに、電子注入層や電子輸送層が介在していても良い。
有機EL素子OLED1−OLED3は、それぞれリブ115によって区画されている。リブ115は、第3絶縁膜113の上に形成され、画素電極PE1−PE3のそれぞれのエッジをカバーしている。なお、リブ115については、詳述しないが、例えば、第3絶縁膜113の上において格子状またはストライプ状に形成されている。
なお、図示しないが、有機EL素子OLED1−OLED3は、透明な封止膜によって封止されていることが望ましい。封止膜としては、透明な無機系材料(例えば、シリコン窒化物やシリコン酸化物など)の単層膜あるいは積層体が適用可能であり、無機系材料の薄膜と有機系材料の薄膜とを交互に積層した積層体も適用可能である。
第2基板SUB2は、第2絶縁基板120の第1基板SUB1と対向する側に、色フィルタCF1−CF3などを備えている。色フィルタCF1は、有機EL素子OLED1と対向し、白色のうちの赤色波長の光を透過する赤色(R)フィルタである。色フィルタCF2は、有機EL素子OLED2と対向し、白色のうちの緑色波長の光を透過する緑色(G)フィルタである。色フィルタCF3は、有機EL素子OLED3と対向し、白色のうちの青色波長の光を透過する青色(B1又はB2)フィルタである。
このような第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、透明な接着剤(あるいは充填材など)130によって接着されている。
この表示装置においては、有機EL素子OLED1−OLED3のそれぞれが発光した際、それぞれの放射光(白色光)は、色フィルタCF1、色フィルタCF2、色フィルタCF3を介してそれぞれ外部に出射される。このとき、有機EL素子OLED1から放射された白色光のうち、赤色波長の光が色フィルタCF1を透過する。また、有機EL素子OLED2から放射された白色光のうち、緑色波長の光が色フィルタCF2を透過する。また、有機EL素子OLED3から放射された白色光のうち、青色波長の光が色フィルタCF3を透過する。これにより、カラー表示が実現される。
この表示装置においては、有機EL素子OLED1−OLED3のそれぞれが発光した際、それぞれの放射光(白色光)は、色フィルタCF1、色フィルタCF2、色フィルタCF3を介してそれぞれ外部に出射される。このとき、有機EL素子OLED1から放射された白色光のうち、赤色波長の光が色フィルタCF1を透過する。また、有機EL素子OLED2から放射された白色光のうち、緑色波長の光が色フィルタCF2を透過する。また、有機EL素子OLED3から放射された白色光のうち、青色波長の光が色フィルタCF3を透過する。これにより、カラー表示が実現される。
上記した表示装置においても画素の配列を図9乃至図12の画素配列パターンとすることができる。この表示装置においても波長460nm付近にピークをもつ光の出力を抑圧する表示装置を実現することができた。
開示する発明の一態様は、以下の通りである。
(1)第1基板が、第1、第2、第3そして第4画素電極を備え、
色フィルタの層が、前記第1画素電極と対向する赤色フィルタ、前記第2画素電極と対向する緑色フィルタ、前記第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色フィルタ、そして前記第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色フィルタ、を備える表示装置、に関する。
(2)前記色フィルタの層は、前記第1の基板に対向した第2の基板に形成されている、(1)に記載の表示装置。
(3)前記色フィルタの層は、前記第1の基板に形成されている、(1)に記載の表示装置。
(4)前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、前記第1基板の背面側に配置されたバックライトユニットとを備え、前記バックライトユニットは、前記第1基板と対向する出射面及び前記出射面と交差する入射面を有する導光板と、前記入射面に対向し波長460nmよりも短波長側に発光スペクトルのピークを有する第1白色光源と、前記入射面に対向し波長460nmよりも長波長側に発光スペクトルのピークを有する第2白色光源とを備える、(1)に記載の表示装置である。
(5)前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、青色発光ダイオードと、黄色の蛍光体とを備えた、(4)に記載の表示装置である。
(6)前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、量子ドットである、(4)に記載の表示装置である。
(7)前記第1基板は、前記第1乃至第4画素電極上に位置する白色発光層と、前記白色発光層上に位置する共通電極と、を備えた、(1)に記載の表示装置である。
(8)前記赤色フィルタが第1方向の第1列、前記緑色フィルタが前記第1方向の第2列、及び、前記第1青色フィルタと第2の青色フィルタが前記第1方向の第3列に並び、さらに前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタは、前記第1方向に交差する第2方向に並んだ、(1)に記載の表示装置である。
(9)前記赤色フィルタ及び前記緑色フィルタは、前記第1方向であって第1列に交互に並び、且つ、前記第1青色フィルタと前記第2青色フィルタは、前記第1の方向であって第2列に並んだ、(1)に記載の表示装置である。
(10)第1方向に配列され、複数の前記赤フィルタを有する第1列と、前記第1方向に配列され、複数の前記緑フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、前記第1方向に配列され、複数の前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタを有し、前記第2列の次列に配列された第3列と、を有し、前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ、(1)に記載の表示装置である。
(11)第1方向に配列され、複数の前記赤フィルタ及び複数の前記緑フィルタを有する第1列と、前記第1方向に配列され、複数の前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、を有し、前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ、(1)に記載の表示装置である。
(12)前記第1青色フィルタは、前記第2青色フィルタよりも大きな面積を有する、(1)に記載の表示装置である。
(13)前記第1画素電極を含む赤色画素、前記第2画素電極を含む緑色画素、前記第3画素電極を含む第1青色画素、及び前記第4画素電極を含む第2青色画素と、前記赤色画素、緑色画素、第1青色画素、及び第2青色画素にそれぞれ画素信号を供給する駆動回路を備え、前記駆動回路は、少なくとも前記第1青色画素と第2青色画素に供給する画素信号の利得を調整する回路を備える、(1)に記載の表示装置である。
開示する発明の一態様は、以下の通りである。
(1)第1基板が、第1、第2、第3そして第4画素電極を備え、
色フィルタの層が、前記第1画素電極と対向する赤色フィルタ、前記第2画素電極と対向する緑色フィルタ、前記第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色フィルタ、そして前記第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色フィルタ、を備える表示装置、に関する。
(2)前記色フィルタの層は、前記第1の基板に対向した第2の基板に形成されている、(1)に記載の表示装置。
(3)前記色フィルタの層は、前記第1の基板に形成されている、(1)に記載の表示装置。
(4)前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、前記第1基板の背面側に配置されたバックライトユニットとを備え、前記バックライトユニットは、前記第1基板と対向する出射面及び前記出射面と交差する入射面を有する導光板と、前記入射面に対向し波長460nmよりも短波長側に発光スペクトルのピークを有する第1白色光源と、前記入射面に対向し波長460nmよりも長波長側に発光スペクトルのピークを有する第2白色光源とを備える、(1)に記載の表示装置である。
(5)前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、青色発光ダイオードと、黄色の蛍光体とを備えた、(4)に記載の表示装置である。
(6)前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、量子ドットである、(4)に記載の表示装置である。
(7)前記第1基板は、前記第1乃至第4画素電極上に位置する白色発光層と、前記白色発光層上に位置する共通電極と、を備えた、(1)に記載の表示装置である。
(8)前記赤色フィルタが第1方向の第1列、前記緑色フィルタが前記第1方向の第2列、及び、前記第1青色フィルタと第2の青色フィルタが前記第1方向の第3列に並び、さらに前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタは、前記第1方向に交差する第2方向に並んだ、(1)に記載の表示装置である。
(9)前記赤色フィルタ及び前記緑色フィルタは、前記第1方向であって第1列に交互に並び、且つ、前記第1青色フィルタと前記第2青色フィルタは、前記第1の方向であって第2列に並んだ、(1)に記載の表示装置である。
(10)第1方向に配列され、複数の前記赤フィルタを有する第1列と、前記第1方向に配列され、複数の前記緑フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、前記第1方向に配列され、複数の前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタを有し、前記第2列の次列に配列された第3列と、を有し、前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ、(1)に記載の表示装置である。
(11)第1方向に配列され、複数の前記赤フィルタ及び複数の前記緑フィルタを有する第1列と、前記第1方向に配列され、複数の前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、を有し、前記第1青フィルタ及び前記第2青フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ、(1)に記載の表示装置である。
(12)前記第1青色フィルタは、前記第2青色フィルタよりも大きな面積を有する、(1)に記載の表示装置である。
(13)前記第1画素電極を含む赤色画素、前記第2画素電極を含む緑色画素、前記第3画素電極を含む第1青色画素、及び前記第4画素電極を含む第2青色画素と、前記赤色画素、緑色画素、第1青色画素、及び第2青色画素にそれぞれ画素信号を供給する駆動回路を備え、前記駆動回路は、少なくとも前記第1青色画素と第2青色画素に供給する画素信号の利得を調整する回路を備える、(1)に記載の表示装置である。
LCD・・・液晶表示装置、PNL・・・液晶表示パネル、TP・・・両面テープ、OS・・・光学シート、FR・・・フレーム、LG・・・導光板、LU・・・光源ユニット、RS・・・反射シート、BZ・・・ベゼル、LG・・・光源ユニット、LD・・・発光ダイオード、SUB1・・・第1基板、SUB2・・・第2基板、DA・・・表示エリア、CP・・・駆動ICチップ、LQ・・・液晶層、G(G1〜Gn)・・・ゲート配線、S(S1〜Sm)・・・ソース配線、CE1・・・共通電極、PE・・・画素電極、GD・・・第1駆動回路、SD・・・第2駆動回路、PX・・・画素、R・・・赤色、G・・・緑色、B1・・・第1青色、B2・・・第2青色、C11・・・第1の列、C12・・・第2の列、C13a、C13b・・・第3の列、COL1、COL2、COL3・・複合単位画素の列。
Claims (13)
- 第1基板が、第1、第2、第3そして第4画素電極を備え、
色フィルタの層が、前記第1画素電極と対向する赤色フィルタ、前記第2画素電極と対向する緑色フィルタ、前記第3画素電極と対向し波長460nmよりも短波長側に透過率のピークを有する第1青色フィルタ、そして前記第4画素電極と対向し波長460nmよりも長波長側に透過率のピークを有する第2青色フィルタ、を備える表示装置。 - 前記色フィルタの層は、前記第1の基板に対向した第2の基板に形成されている、請求項1に記載の表示装置。
- 前記色フィルタの層は、前記第1の基板に形成されている、請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、
前記第1基板の背面側に配置されたバックライトユニットと, を備え、
前記バックライトユニットは、
前記第1基板と対向する出射面及び前記出射面と交差する入射面を有する導光板と、
前記入射面に対向し波長460nmよりも短波長側に発光スペクトルのピークを有する第1白色光源と、
前記入射面に対向し波長460nmよりも長波長側に発光スペクトルのピークを有する第2白色光源と、を備える請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、青色発光ダイオードと、黄色の蛍光体とを備える請求項4に記載の表示装置。
- 前記第1白色光源及び前記第2白色光源は、量子ドットである、請求項4に記載の表示装置。
- 前記第1基板は、前記第1乃至第4画素電極上に位置する白色発光層と、前記白色発光層上に位置する共通電極と、を備える請求項1に記載の表示装置。
- 前記赤色フィルタが第1方向の第1列、前記緑色フィルタが前記第1方向の第2列、及び、前記第1青色フィルタと第2の青色フィルタが前記第1方向の第3列に並び、
さらに前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタは、前記第1方向に交差する第2方向に並んでいる、請求項1に記載の表示装置。 - 前記赤色フィルタ及び前記緑色フィルタは、第1の方向であって第1列に交互に並び、且つ、前記第1青色フィルタと前記第2青色フィルタは、前記第1の方向であって第2列に並んでいる、請求項1に記載の表示装置。
- 第1方向に配列され、複数の前記赤色フィルタを有する第1列と、
前記第1方向に配列され、複数の前記緑色フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、
前記第1方向に配列され、複数の前記第1青色フィルタ及び前記第2青フィルタを有し、前記第2列の次列に配列された第3列と、
を有し、
前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並んでいる、請求項1に記載の表示装置。 - 第1方向に配列され、複数の前記赤色フィルタ及び複数の前記緑色フィルタを有する第1列と、
前記第1方向に配列され、複数の前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタを有し、前記第1列の次列に配列された第2列と、
を有し、
前記第1青色フィルタ及び前記第2青色フィルタは、前記第1方向と交差する第2方向に並んでいる、請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1青色フィルタは、前記第2青色フィルタよりも大きな面積を有する、請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1画素電極を含む赤色画素、前記第2画素電極を含む緑色画素、前記第3画素電極を含む第1青色画素、及び前記第4画素電極を含む第2青色画素と、
前記赤色画素、緑色画素、第1青色画素、及び第2青色画素にそれぞれ画素信号を供給する駆動回路を備え、
前記駆動回路は、少なくとも前記第1青色画素と第2青色画素に供給する画素信号の利得を調整する回路を備える、請求項1に記載の表示装置。
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