JP2016035509A - Light source device and exposure apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、プリント基板、半導体ウェハ、液晶ディスプレイなどフォトリソグラフィ法による露光工程で用いられる直接描画方法に用いるのに適した光源装置及び露光装置に関する。 The present invention relates to a light source device and an exposure apparatus suitable for use in a direct drawing method used in an exposure process by a photolithography method such as a printed board, a semiconductor wafer, and a liquid crystal display.
従来、フォトリソグラフィ法を用いた回路パターニング、いわゆる露光工程にはフォトマスクを用いた密着式露光装置が広く使われてきたが、近年、回路の高精細、高密度化に合わせるため、フォトマスクを用いないDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス, digital micro mirror device)等の光変調素子を用いて光を変調して露光する直描式露光装置が用いられるようになってきている(特許文献1)。
しかし、この直描式露光装置に用いられる光源は、高精細なパターニングを可能にするため単波長の場合が多い。一方、露光されるレジストには広波長域の感度を有するものがあり、単波長では十分に硬化しない場合や露光時間が長くなる場合もあった。
そのため、特許文献2に示すように複数の異なる波長特性を有する光源を用いて、レンズにより集光する構成の光源装置が提案されている。
Conventionally, a contact type exposure apparatus using a photomask has been widely used for circuit patterning using a photolithography method, that is, a so-called exposure process. However, in recent years, in order to meet the high definition and high density of a circuit, a photomask is used. A direct-drawing type exposure apparatus that uses light modulation elements such as DMD (digital micro mirror device) that is not used to modulate and expose light has been used (Patent Document 1). .
However, the light source used in this direct drawing type exposure apparatus is often a single wavelength in order to enable high-definition patterning. On the other hand, some exposed resists have a sensitivity in a wide wavelength range, and there are cases where a single wavelength does not sufficiently cure or the exposure time becomes long.
Therefore, as shown in Patent Document 2, a light source device having a configuration in which light is condensed by a lens using a plurality of light sources having different wavelength characteristics has been proposed.
しかし、異なる波長の複数の光源とレンズを用いる構成の場合、光源を所定の配列で厳密に配置した光源アレイとレンズアレイが必要であり、装置が複雑化する問題がある。
本発明はこのような従来技術の欠点を解決することを目的とする。
However, in the case of a configuration using a plurality of light sources and lenses having different wavelengths, a light source array and a lens array in which the light sources are strictly arranged in a predetermined arrangement are required, and there is a problem that the apparatus becomes complicated.
The object of the present invention is to overcome the drawbacks of the prior art.
上記目的を達成するために、本発明は、所定の波長特性を有するレーザ光を出射する1のレーザダイオードと、前記所定の波長特性と異なる他の波長特性を有するレーザ光を出射する他のレーザダイオードと、前記1のレーザダイオードからの出射光を入射端で入光し出射端で出射する1の第1光ファイバと、前記他のレーザダイオードからの出射光を入射端で入光し出射端で出射する他の第1光ファイバと、前記1と他の第1光ファイバの出射光を集積する第2光ファイバと、を有し、前記1の第1光ファイバと前記他の第1光ファイバの出射端側を所定の配列で束ね、該1と他の第1光ファイバの出射光を集積して前記第2光ファイバの入射端に入光させる、複数の第1ファイババンドルと、前記第2光ファイバの出射光を集積する第3光ファイバを有し、前記複数の第1ファイババンドル部の複数の第2光ファイバの出射端側を所定の配列で束ね、各第2光ファイバの出射光を集積して前記第3光ファイバの入射端に入光させる、第2ファイババンドルと、前記第3光ファイバの出力端と接続し、外部に出力するための出力部と、を有することを特徴とする。
前記レーザダイオードに、個別に、点灯、非点灯制御と出力制御の少なくとも1つを行う制御装置を備えることが望ましい。また前記レーザダイオードに、所定のグループごとに、点灯、非点灯制御と出力制御の少なくとも1つを行う制御装置を備えることが望ましい。
更に本発明の露光装置は、光源装置から発せられた光を、各々独立に変調する多数の画素部が配列された空間光変調素子によって変調し、その変調された光により感光材料を露光させる露光装置であって、上記光源装置を用いることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides one laser diode that emits laser light having a predetermined wavelength characteristic, and another laser that emits laser light having another wavelength characteristic different from the predetermined wavelength characteristic. A diode, one first optical fiber that receives light emitted from the first laser diode at the incident end and emits the light at the output end, and light emitted from the other laser diode is incident at the incident end and is emitted. A first optical fiber that emits light and a second optical fiber that integrates the light emitted from the first and other first optical fibers, the first optical fiber and the other first light. A plurality of first fiber bundles that bundle the emission end sides of the fibers in a predetermined arrangement, integrate the emission lights of the first and other first optical fibers, and enter the incident ends of the second optical fibers; and 3rd which integrates the emitted light of the 2nd optical fiber A plurality of first optical fiber bundle portions, the output end sides of the plurality of second optical fibers are bundled in a predetermined arrangement, and the output light of each second optical fiber is integrated to enter the third optical fiber. It has a 2nd fiber bundle made to enter into an end, and an output part for connecting with the output end of the 3rd optical fiber, and outputting outside.
It is desirable that the laser diode includes a control device that individually performs at least one of lighting / non-lighting control and output control. The laser diode preferably includes a control device that performs at least one of lighting / non-lighting control and output control for each predetermined group.
Further, the exposure apparatus of the present invention modulates the light emitted from the light source device by a spatial light modulation element in which a large number of pixel units each independently modulated is arranged, and exposes the photosensitive material with the modulated light. It is an apparatus, Comprising: The said light source device is used, It is characterized by the above-mentioned.
本発明の光源装置及び露光装置によれば、複数の波長を混合した露光波長の光源となるため、幅広いレジストに対応可能となる。また、光源を所定の配列で厳密に配置する必要がなく、またレンズアレイも不要であり、装置を簡略化できる。また、レーザダイオードの増設が簡単に行え、高照度化が簡単に行える。
更に制御装置を設けてレーザダイオードの点灯制御や出力制御を行えば、波長毎の照度割合を変更でき、最適な露光条件を提供できる、などの効果がある。
According to the light source device and the exposure apparatus of the present invention, it becomes a light source having an exposure wavelength obtained by mixing a plurality of wavelengths, so that it can cope with a wide range of resists. Further, it is not necessary to strictly arrange the light sources in a predetermined arrangement, and no lens array is required, so that the apparatus can be simplified. In addition, laser diodes can be easily added and high illuminance can be easily achieved.
Furthermore, if a control device is provided to control the lighting of the laser diode and the output control, the illuminance ratio for each wavelength can be changed, and an optimum exposure condition can be provided.
以下本発明の実施の形態を説明する。
この光源装置は、基本的に複数の異なった波長のレーザダイオードから出射される光を集光して光ファイバに導入し、個々に導いた後にその光路途中で数本を束にし、それより太い光ファイバにコネクタで接続して混合する構成になっている。
Embodiments of the present invention will be described below.
This light source device basically collects light emitted from a plurality of laser diodes of different wavelengths, introduces them into an optical fiber, bundles them in the middle of the optical path, and bundles them several times. The optical fiber is connected by a connector and mixed.
以下図1乃至3に基づいて詳細に説明する。
図1に示すように、光源装置Aは複数のLDモジュール1,2を備えている。各LDモジュール1,2は1つのレーザダイオード(LD:laser diode)と集光レンズを備えている。LDモジュール1とLDモジュール2は異なる波長(波長A、波長B)のレーザを出射するLDを備えており、この実施形態では波長AのLDモジュール1を3個と波長BのLDモジュール2を1個とを1組とし、合計3組、12個のLDモジュール1,2を備えており、各LDモジュール1,2をLD光ファイバ3でコネクタ4に導いている。
This will be described in detail below with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the light source device A includes a plurality of LD modules 1 and 2. Each of the LD modules 1 and 2 includes one laser diode (LD) and a condenser lens. The LD module 1 and the LD module 2 include LDs that emit lasers having different wavelengths (wavelength A and wavelength B). In this embodiment, three LD modules 1 having a wavelength A and one LD module 2 having a wavelength B are provided. Each group includes a total of 3 sets and 12 LD modules 1 and 2, and each LD module 1 and 2 is led to a
またLDモジュール1,2のLDの波長は190〜530nmの範囲の波長特性を有するものとするのが望ましい。
この実施形態では、LDモジュール1のLDの波長Aは、375nm付近にピークを有する波長特性を有しており、LDモジュール2のLDの波長Bは405nm付近にピークを有する波長特性を有している。
Further, it is desirable that the LD wavelengths of the LD modules 1 and 2 have wavelength characteristics in the range of 190 to 530 nm.
In this embodiment, the wavelength A of the LD of the LD module 1 has a wavelength characteristic having a peak near 375 nm, and the wavelength B of the LD of the LD module 2 has a wavelength characteristic having a peak near 405 nm. Yes.
各LDモジュール1,2のLDは制御装置99により制御されており、その点灯、非点灯及びその出力(照度)を制御されるように構成されている。LDモジュール1,2の各LDは制御装置99により個々に制御されるように構成しても良いし、グループごとに制御されるように構成することも可能である。
The LD of each of the LD modules 1 and 2 is controlled by the
各コネクタ4には第1ファイババンドル部b1の第1光ファイバ5が接続し、LDモジュール1,2のLDからの出射光を第1光ファイバ5の入射端で入光し、更にその出射端で出射させるように構成されている。第1ファイババンドル部b1は該第1光ファイバ5と第1コネクタ6及び第2光ファイバ7を備えている。
The first
第1ファイババンドル部b1には前記3個のLDモジュール1と1個のLDモジュール2の出射光が入力しており、4本の前記第1光ファイバ5を介して第1コネクタ6を経由して、1本の第2光ファイバ7に集積するように構成されている。
各LDモジュール1,2の第1光ファイバ5はその出射端側が所定の配列で束ねられており、第1コネクタ6を介して1個の第2光ファイバ7に接続している。
Light emitted from the three LD modules 1 and one LD module 2 is input to the first fiber bundle portion b1 and passes through the
The output ends of the first
第2光ファイバ7は第1光ファイバ5を4本束ねた状態での光出射領域と同等以上の大きさのコアを有しており、前述したように4つのLDモジュール1,2からの光を1本の第2光ファイバ7に集積している。
この実施形態では、3個の第1ファイババンドル部b1を備えており、合計12個のLDモジュール1,2を3個の第1ファイババンドル部b1において、3本の第2光ファイバ7に集積している。
The second
In this embodiment, three first fiber bundle portions b1 are provided, and a total of 12 LD modules 1 and 2 are integrated into three second
この第2光ファイバ7は、マルチモード光ファイバであり、ファイバ内での光の干渉やモード間の相互作用により均一化するように構成されている。
The second
3本の第2光ファイバ7は更に第2ファイババンドル部b2に導かれ、その出射端側が後述する露光ヘッド18内のDMD56への光照射領域の形状に応じた配列パターンで束ねられ第3光ファイバ9となっている。
The three second
この3本の第2光ファイバ7が束ねられた第3光ファイバ9はその出射端側が第2コネクタ10を介して入射光学系40に接続し、レーザ光を露光装置Bの露光ヘッド18に導くように構成されている。
なお上記実施形態では2種類の波長のレーザ光を使用した例を示したが、さらに複数の波長であってもよく、また適宜レーザモジュール1,2を増設することで装置の高出力化も可能である。
The third
In the above embodiment, an example in which laser beams of two types of wavelengths are used is shown. However, a plurality of wavelengths may be used, and the output of the apparatus can be increased by adding laser modules 1 and 2 as appropriate. It is.
以上説明した光源装置Aは、第1光ファイバ5、第2光ファイバ7の出射端側を束ねて、LDモジュール1,2からのレーザ光を合成しているため、LDモジュール1,2を所定の位置に配列する必要がなく、各LDモジュール1,2は独立的に配置することができる。そのためLDモジュール1,2の設置の自由度が向上する。
また制御装置99によりLDモジュール1,2のLDの点灯個数や出力を制御することにより、波長毎の照度割合を変更可能であり、必要とされる最適な露光条件を提供することが出来る。
Since the light source device A described above bundles the emission end sides of the first
Further, by controlling the number and output of the LDs of the LD modules 1 and 2 by the
図2により、上記光源装置Aを使用したデジタル露光装置(画像露光装置)Bの構成を説明する。
露光装置Bは略長方形の平板に形成され、水平配置されるベース11と、このベース11にスライド自在に取り付けられ、露光対象となる基板12を表面に吸着保持する移動ステージ13と、この移動ステージ13に保持された基板12に対して露光を行う露光部14とを備えている。
The configuration of a digital exposure apparatus (image exposure apparatus) B using the light source apparatus A will be described with reference to FIG.
The exposure apparatus B is formed in a substantially rectangular flat plate, and a
基板12は、例えば、表面に感光材料が塗布又は貼着されたプリント配線基板やフラットパネルディスプレイ用ガラス基板などである。このデジタル露光装置Bは、前述のような基板12に対して露光を行うことにより、例えば、配線パターンなどを基板12の感光材料にマスクレス
で記録する。なお、本実施形態では、移動ステージ13の移動方向をY方向、水平面上でY方向と直交する方向をX方向(基板12の幅方向)、水平面に直交する鉛直方向をZ方向として説明する。ベース11は、Y方向に長く形成されている。
The
ベース11は、四隅のそれぞれに取り付けられた脚部115によって支持されている。ベース11の上面11aには、Y方向に略平行な2本のガイドレール16が設けられている。移動ステージ13は、これらの各ガイドレール16を介してY方向にスライド自在にベース11に取り付けられている。また、移動ステージ13には、リニアモータなどによって構成される駆動機構(図示は省略)が接続されており、この駆動機構の駆動に応じてY方向に移動する。
The
露光部14は、ベース11のY方向中央部に1対の支柱17を介して取り付けられている。各支柱17は、ベース11のX方向両端部に固定されている。各支柱17は、移動ステージ13がY方向に移動した際に、露光部14の下を通過するように、ベース11の上面11aから所定の距離離して露光部14を保持する。露光部14は、16個の露光ヘッド18を有している。これらの各露光ヘッド18は、下を通過する基板12に対して光を照射する。
The
各露光ヘッド18は、X方向に8個ずつ2列で配列されている。2列目の各露光ヘッド18は、それぞれの中心が1列目の各露光ヘッド18の隣接するもの同士の中央付近に位置するように、1列目の各露光ヘッド18に対してX方向に1/2ピッチずらして配置されている。このようにずらして配置することにより、1列目の各露光ヘッド18によって露光できない部分が2列目の各露光ヘッド18によって露光され、基板12のX方向に隙間なく露光記録が行われる。なお、露光部14に設けられる露光ヘッド18の数や配列の仕方は、基板12のサイズなどに応じて適宜変更してよい。
Each
画像処理ユニット21には、基板12に記録する配線パターンなどに応じた画像データ(画像情報)が入力される。画像処理ユニット21は、入力された画像データを基に各露光ヘッド18毎のフレームデータを作成する。そして、画像処理ユニット21は、信号ケーブル22を介して各露光ヘッド18にフレームデータを入力する。フレームデータは、例えば、画像を構成する各画素の濃度を2値(ドットの記録の有無)で表したデータである。
Image data (image information) corresponding to a wiring pattern or the like recorded on the
各露光ヘッド18は、光源装置Aから入射されるレーザ光をフレームデータに基づいて変調し、移動ステージ13によって搬送される基板12に変調した光を投影する。これにより、画像処理ユニット21に入力された画像データに応じた画像が基板12に露光記録される。
Each
ベース11には、さらに、略コの字型に形成されたゲート23と、Y方向の一端部に取り付けられた一対の測長器24とが設けられている。ゲート23は、各ガイドレール16を跨ぐようにX方向と略平行にベース11に取り付けられている。ゲート23には、3台のカメラ25が取り付けられている。各カメラ25は、デジタル露光装置10全体を統括的に制御するコントローラ(図示は省略)に接続されている。
The
各カメラ25は、ゲート23を通過する移動ステージ13を撮影し、取得した画像データをコントローラに出力する。コントローラは、各カメラ25が取得した画像データを基に、移動ステージ13上の適正位置に対する基板12のX方向、Y方向、及びθ方向(Z方向を軸とした回転)のズレ量を算出する。算出されたズレ量は、画像処理ユニット21に入力され、フレームデータの補正に用いられる。なお、カメラ25の台数や配置間隔などは、基板12のサイズなどに応じて適宜変更してよい。また、ズレ量の算出は、周知の画像処理によって行えばよい。この際、ズレ量を算出し易いように、基板12にアライメントマークなどを設けることが好ましい。
Each
各測長器24は、各カメラ25と同様に、コントローラに接続されている。各測長器24は、移動ステージ13の側端面にレーザ光を照射し、その反射光を受光することによって、移動ステージ13の位置を測定する。そして、各測長器24は、測定した移動ステージ13の位置をコントローラに出力する。なお、本実施形態では、いわゆるレーザ干渉式の測長器24を示したが、これに限ることなく、例えば、超音波やステレオカメラを用いるものなど、移動ステージ13の位置を測定できるものであれば、他の如何なるものを用いてもよい。
Each
上記構成の露光装置Bの露光ヘッド18と光源装置Aの接続部分の詳細を図3により説明する。
露光ヘッド18は、入射光学系40と、光変調部41と、第1結像光学系42と、マイクロレンズアレイ(MLA:micro lens array)43と、アパーチャアレイ(APA:aperture array)44と、第2結像光学系(投影光学系)45とからなる。入射光学系40は、第2コネクタ10を介して光ファイバ9の出射端部と対面して配置される。この入射光学系40は、光ファイバ9から出射されたレーザ光(LB:laser beam)を集光する集光レンズ50と、集光レンズ50を通過したレーザ光LBの光路上に配置されたロッド状のオプティカルインテグレータ(optical integrator)51と、オプティカルインテグレータ51を通過したレーザ光LBを結像させる結像レンズ52と、結像レンズ52によって結像されたレーザ光LBを反射させて光変調部41に入射させるミラー53とを備えている。
Details of the connecting portion between the
The
オプティカルインテグレータ51は、例えば、四角柱状に形成された透光性ロッドである。オプティカルインテグレータ51は、全反射しながら内部を進行するレーザ光LBを、平行光に近くかつビーム断面内強度が均一化された光束にする。これにより、照明光強度のばらつきのない高精細な画像が、基板12に露光されるようになる。なお、オプティカルインテグレータ51の入射端面、及び出射端面には、透光率を高めるために、反射防止膜をコーティングすることが好ましい。
The
光変調部41は、TIR(全反射:total internal reflection)プリズム55と、空間光変調素子であるDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス:digital micro mirror device)56とを備えている。TIRプリズム55は、ミラー53を介して入射したレーザ光LBをDMD56に向けて反射させる。DMD56は、二次元的に配列されたSRAM(Static Random Access Memory)セル上に、画素を構成するマイクロミラーが支柱に支えられて傾斜自在に設けられてなるミラーデバイスである。
The
DMD56は、SRAMセルに書き込またデジタル信号に応じて、照射されたレーザ光LBが第1結像光学系42に向けて反射する状態と、照射されたレーザ光LBが図示を省略した光吸収体に向けて反射する状態とに、マイクロミラーの傾斜角度を変化させる。光変調部41は、画像処理ユニット21から入力されるフレームデータに応じてDMD56の各画素のマイクロミラーの傾きを制御することにより、フレームデータに応じた画像光を生成する。
The
第1結像光学系42は、レンズ57、58からなり、光変調部41によって生成された画像光を所定の倍率に拡大してMLA43上に結像する。
The first image-forming
MLA43は、例えば、石英ガラスによって略長方形の平板状に形成されている。また、MLA43には、DMD56の各画素に対応して二次元的に配列された複数のマイクロレンズ43aが形成されている。各マイクロレンズ43aは、上面が平面、下面が凸面の平凸レンズである。各マイクロレンズ43aは、DMD56の各マイクロミラーからの画像光をそれぞれ個別に結像し、第1結像光学系42で拡大された画像光を鮮鋭化する。なお、各マイクロレンズ43aの形状は、平凸レンズに限ることなく、例えば、両凸レンズなどでもよい。
The
APA44は、遮光性を有しており、画像光を通過させるためのアパーチャ44aが複数形成されている。各アパーチャ44aは、各マイクロレンズ43aと同様に、DMD56の各画素に対応して二次元的に配列されている。APA44は、各アパーチャ44aを各マイクロレンズ43aに対面させて配置され、各マイクロレンズ43aによって結像された画像光を、それぞれ個別に対応する各アパーチャ44aを通過させる。APA44は、DMD56の各マイクロミラーのチャタリングなどによって生じる不要光が通過することを防止し、露光画像の鮮鋭度をさらに向上させる。
The
第2結像光学系45は、レンズ60、61と、プリズムペア62とを備え、APA44を通過した画像光を基板12に投影する。各レンズ60、61は、APA44を通過した画像光を所定の倍率に拡大するか、あるいは等倍率でプリズムペア62に入射させる。プリズムペア62は、上下方向に移動自在に設けられており、上下に移動することによって、基板12上における画像光のピントを調節する。
The second imaging
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてDMD56を示したが、空間光変調素子は、これに限ることなく、例えば、液晶光シャッタなどであってもよい。さらに、上記実施形態では、露光対象として感光材料が塗布又は貼着された基板12を示したが、露光対象は、これに限ることなく、例えば、写真フイルムや印画紙などであってもよい。
In the above embodiment, the
1:LDモジュール、2:LDモジュール、3:LD光ファイバ、4:コネクタ、5:第1光ファイバ、6:第1コネクタ、7:第2光ファイバ、9:第3光ファイバ、10:第2コネクタ、12:基板(露光対象)、14:露光部、18:露光ヘッド、19:光源ユニット、40:入射光学系、41:光変調部、42:第1結像光学系、43:マイクロレンズアレイ、43a:マイクロレンズ、44:アパーチャアレイ、44a:アパーチャ、45:第2結像光学系(投影光学系)、56:DMD(空間光変調素子)、99:制御装置、b1:第1ファイババンドル部、b2:第2ファイババンドル部、A:光源装置、B:露光装置B。 1: LD module, 2: LD module, 3: LD optical fiber, 4: connector, 5: first optical fiber, 6: first connector, 7: second optical fiber, 9: third optical fiber, 10: first 2 connectors, 12: substrate (exposure target), 14: exposure unit, 18: exposure head, 19: light source unit, 40: incident optical system, 41: light modulation unit, 42: first imaging optical system, 43: micro Lens array, 43a: Micro lens, 44: Aperture array, 44a: Aperture, 45: Second imaging optical system (projection optical system), 56: DMD (spatial light modulation element), 99: Control device, b1: First Fiber bundle portion, b2: second fiber bundle portion, A: light source device, B: exposure device B.
Claims (7)
前記所定の波長特性と異なる他の波長特性を有するレーザ光を出射する他のレーザダイオードと、
前記1のレーザダイオードからの出射光を入射端で入光し出射端で出射する1の第1光ファイバと、前記他のレーザダイオードからの出射光を入射端で入光し出射端で出射する他の第1光ファイバと、前記1と他の第1光ファイバの出射光を集積する第2光ファイバと、を有し、前記1の第1光ファイバと前記他の第1光ファイバの出射端側を所定の配列で束ね、該1と他の第1光ファイバの出射光を集積して前記第2光ファイバの入射端に入光させる、複数の第1ファイババンドルと、
前記第2光ファイバの出射光を集積する第3光ファイバを有し、前記複数の第1ファイババンドル部の複数の第2光ファイバの出射端側を所定の配列で束ね、各第2光ファイバの出射光を集積して前記第3光ファイバの入射端に入光させる、第2ファイババンドルと、
前記第3光ファイバの出力端と接続し、外部に出力するための出力部と、
を有することを特徴とする光源装置。 One laser diode emitting laser light having a predetermined wavelength characteristic;
Other laser diodes that emit laser light having other wavelength characteristics different from the predetermined wavelength characteristics;
Light emitted from the first laser diode is incident at the incident end and emitted from the outgoing end, and light emitted from the other laser diode is incident at the incident end and emitted from the outgoing end. Another first optical fiber, and a second optical fiber that integrates the light emitted from the first and other first optical fibers, and the light emitted from the first first optical fiber and the other first optical fiber. A plurality of first fiber bundles that bundle the end sides in a predetermined arrangement, integrate the emitted light of the first optical fiber and the other first optical fiber, and enter the incident end of the second optical fiber;
Each of the second optical fibers includes a third optical fiber that integrates the light emitted from the second optical fiber, the output end sides of the plurality of second optical fibers of the plurality of first fiber bundle portions being bundled in a predetermined arrangement. A second fiber bundle that integrates the emitted light and enters the incident end of the third optical fiber;
An output unit for connecting to an output end of the third optical fiber and outputting the output to the outside;
A light source device comprising:
請求項1の光源装置。 The laser diode has a wavelength characteristic included in a wavelength region of 190 nm to 530 nm.
The light source device according to claim 1.
請求項1の光源装置。 The one laser diode has a wavelength characteristic having a peak around 375 nm, and the other laser diode has a wavelength characteristic having a peak around 405 nm.
The light source device according to claim 1.
請求項1乃至5のいずれか1に記載の光源装置を用いた露光装置。 An exposure apparatus that modulates light emitted from a light source device by a spatial light modulation element in which a large number of pixel units that are independently modulated are arranged, and exposes a photosensitive material with the modulated light,
An exposure apparatus using the light source device according to claim 1.
請求項6の露光装置 A microlens array in which a large number of microlenses that individually collect a large number of light beams modulated by the large number of pixel units are arranged;
The exposure apparatus according to claim 6.
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