JP2013077732A - Ultraviolet light irradiation device - Google Patents

Ultraviolet light irradiation device Download PDF

Info

Publication number
JP2013077732A
JP2013077732A JP2011217342A JP2011217342A JP2013077732A JP 2013077732 A JP2013077732 A JP 2013077732A JP 2011217342 A JP2011217342 A JP 2011217342A JP 2011217342 A JP2011217342 A JP 2011217342A JP 2013077732 A JP2013077732 A JP 2013077732A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet
substrate
laser diodes
irradiation
substrates
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011217342A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Tanaka
隆 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2011217342A priority Critical patent/JP2013077732A/en
Publication of JP2013077732A publication Critical patent/JP2013077732A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet light irradiation device capable of suppressing intensity variation within a width of a line and also suppressing even intensity variation due to the distance variation to an object when irradiating a surface of the object linearly with ultraviolet light.SOLUTION: An ultraviolet light irradiation device 1 includes two substrates 3 on which a plurality of laser diodes 2 are mounted side by side. On one surface of the substrate 3, laser diodes 2 are mounted in columns along a length direction. The substrates 3 are arranged having their length directions in parallel. Ultraviolet light emitted from a laser diode 2 has its propagation direction controlled by a diffraction optical element 5 so that the emission range spreads only in the length directions of the substrates 3. The ultraviolet light emitted from the laser diode 2 is diffracted by the diffraction optical element 5 to form a linear irradiation region on a predetermined irradiation surface, and irradiation regions that the laser diodes 2 arranged on the respective substrates 3 form overlap with one another on the irradiation surfaces.

Description

本発明は、対象物の表面に紫外線をライン状に照射する紫外線照射装置に関するものである。   The present invention relates to an ultraviolet irradiation device that irradiates the surface of an object with ultraviolet rays in a line shape.

従来から、様々な対象物への印刷や塗装にあたって、紫外線硬化インクや紫外線硬化塗料が採用されている。紫外線硬化インクや紫外線硬化塗料を硬化させるには紫外線照射装置が必要である。ここに、印刷や塗装の対象物は、紙や布からなるシート状の印刷原反、セメントを抄造した建築用板などであって、多くの場合、印刷や塗装の対象となる表面は一定の幅を有している。   Conventionally, ultraviolet curable inks and ultraviolet curable coatings have been used for printing and painting on various objects. An ultraviolet irradiation device is required to cure the ultraviolet curable ink and the ultraviolet curable paint. Here, the object of printing or painting is a sheet-like printing raw material made of paper or cloth, a building board made of cement, etc. In many cases, the surface to be printed or painted is constant. It has a width.

したがって、対象物の表面に紫外線をライン状に照射する紫外線照射装置を用い、対象物と紫外線照射装置とを対象物の表面に沿って相対的に変位させることによって、対象物の所要領域に紫外線を照射する構成が広く採用されている。一般的には、対象物を一定幅である方向に対して直交する方向に搬送し、対象物の表面に沿う面内で対象物が搬送される方向に交差するラインを形成するように紫外線照射装置を配置する構成が採用されている。   Accordingly, by using an ultraviolet irradiation device that irradiates the surface of the object with ultraviolet rays in a line shape, the target and the ultraviolet irradiation device are relatively displaced along the surface of the object, so that the ultraviolet ray is applied to a required region of the object. The structure which irradiates is widely adopted. In general, the object is conveyed in a direction perpendicular to the direction having a constant width, and ultraviolet irradiation is performed so as to form a line that intersects the direction in which the object is conveyed in a plane along the surface of the object. The structure which arrange | positions an apparatus is employ | adopted.

紫外線照射装置に用いる光源には、キセノンランプのような高輝度の紫外線ランプがあるが、近年では、消費電力の抑制などを目的として、光源に発光ダイオード(以下、「LED」と略称する)を用いることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。LEDを用いた紫外線照射装置は、対象物の表面に沿って対象物が搬送される方向に交差する方向に複数個のLEDを配列することにより、紫外線を対象物にライン状に照射できるように構成されている。   As a light source used for an ultraviolet irradiation device, there is a high-intensity ultraviolet lamp such as a xenon lamp. In recent years, a light emitting diode (hereinafter abbreviated as “LED”) is used as a light source for the purpose of reducing power consumption. It has been proposed to use (see, for example, Patent Document 1). The ultraviolet irradiation device using LEDs can irradiate the object in a line shape by arranging a plurality of LEDs in a direction intersecting the direction in which the object is conveyed along the surface of the object. It is configured.

特開2011−146646号公報JP 2011-146646 A

ところで、紫外線硬化インクや紫外線硬化塗料は、照射される紫外線の強度と紫外線の照射時間とにより決まる光量が多いほど硬化が促進されると考えられる。したがって、単位時間当たりの処理数を増加させるには、対象物に照射される紫外線の強度を高めることが要求される。また、対象物と紫外線照射装置との距離が変化する場合、例えば、対象物が外壁に用いる建築用板であって表面に凹凸があるような場合、対象物の表面において紫外線照射装置からの距離が最大になる部位に照射される光量によって、対象物の搬送速度が制限されることになる。   By the way, it is considered that the curing of the ultraviolet curable ink or the ultraviolet curable coating is accelerated as the amount of light determined by the intensity of the irradiated ultraviolet ray and the irradiation time of the ultraviolet ray increases. Therefore, in order to increase the number of processes per unit time, it is required to increase the intensity of the ultraviolet rays irradiated to the object. Also, when the distance between the object and the ultraviolet irradiation device changes, for example, when the object is a building board used for the outer wall and the surface is uneven, the distance from the ultraviolet irradiation device on the surface of the object The conveyance speed of the object is limited by the amount of light irradiated to the region where the maximum is.

上述のような観点から、紫外線照射装置に用いる光源の輝度は高いほうがよいと考えられるが、現状の技術ではLEDを光源に用いた紫外線照射装置で上述の要求に応える程度に輝度を高めることは容易ではない。   From the above viewpoint, it is considered that the luminance of the light source used in the ultraviolet irradiation device should be high. However, in the current technology, it is not possible to increase the luminance to the extent that the ultraviolet ray irradiation device using the LED as the light source meets the above requirements. It's not easy.

また、上述したように、紫外線硬化インクや紫外線硬化塗料を硬化させる光量を得るには、光源の輝度だけではなく、対象物を搬送する方向において紫外線を照射する時間を考慮する必要がある。したがって、対象物に紫外線をライン状に照射する場合に、対象物が搬送される方向におけるラインの寸法(つまり、ライン状の照射領域の幅寸法)を考慮しなければならない。また、対象物が紫外線の照射領域を通過する間に、紫外線硬化インクや紫外線硬化塗料の硬化を終了させるためにも、対象物が搬送される方向におけるラインの幅寸法について考慮する必要がある。   Further, as described above, in order to obtain a light amount for curing the ultraviolet curable ink or the ultraviolet curable paint, it is necessary to consider not only the luminance of the light source but also the time for irradiating the ultraviolet rays in the direction of conveying the object. Therefore, when the object is irradiated with ultraviolet rays in a line shape, the dimension of the line in the direction in which the object is conveyed (that is, the width dimension of the line-shaped irradiation region) must be taken into consideration. Further, in order to complete the curing of the ultraviolet curable ink or the ultraviolet curable paint while the object passes through the ultraviolet irradiation region, it is necessary to consider the width dimension of the line in the direction in which the object is conveyed.

紫外線ランプやLEDを光源に用いた紫外線照射装置では、レンズのような光学要素を用いて、ライン状の照射領域が形成されている。しかし、紫外線ランプやLEDから放射される紫外線の配光を光学要素によって制御しても、ラインの幅内において紫外線の強度は中央部よりも周辺部の強度が小さくなる。そのため、対象物を搬送する速度は、ラインの幅内における周辺部の強度に合わせて設定することになる。このことが、対象物を搬送する速度を低下させる一因になっている。   In an ultraviolet irradiation device using an ultraviolet lamp or LED as a light source, a linear irradiation region is formed using an optical element such as a lens. However, even if the distribution of ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp or LED is controlled by an optical element, the intensity of ultraviolet rays is smaller in the peripheral portion than in the central portion within the width of the line. Therefore, the speed at which the object is conveyed is set in accordance with the strength of the peripheral part within the width of the line. This contributes to a decrease in the speed at which the object is conveyed.

本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、紫外線を対象物の表面にライン状に照射するにあたって、ラインの幅内の強度変化を抑制するとともに、対象物との距離変化による強度変化も抑制することができる紫外線照射装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above reasons, and in irradiating the surface of an object with ultraviolet rays in a line shape, while suppressing an intensity change within the width of the line, an intensity change due to a distance change with the object It is an object of the present invention to provide an ultraviolet irradiation device that can suppress the above.

本発明の紫外線照射装置は、複数枚の基板と、発光波長が紫外領域であって基板ごとに複数個ずつ列をなすように並べて配置されたレーザダイオードと、レーザダイオードから放射される紫外線を回折させる回折光学素子とを備え、回折光学素子は、基板上でレーザダイオードが並ぶ方向に紫外線を回折させる機能を有し、基板は、レーザダイオードが並ぶ方向が互いに平行になるように配置され、かつ各基板から放射された紫外線が1つのライン上で重複するように、レーザダイオードが並ぶ方向に直交する面内において互いに傾斜していることを特徴とする。   The ultraviolet irradiation apparatus of the present invention includes a plurality of substrates, a laser diode having a light emission wavelength in the ultraviolet region and arranged in a row for each substrate, and diffracting ultraviolet rays emitted from the laser diode. A diffractive optical element, the diffractive optical element has a function of diffracting ultraviolet rays in the direction in which the laser diodes are arranged on the substrate, the substrate is arranged so that the directions in which the laser diodes are arranged are parallel to each other, and It is characterized in that they are inclined with respect to each other in a plane perpendicular to the direction in which the laser diodes are arranged so that the ultraviolet rays emitted from the respective substrates overlap on one line.

この紫外線照射装置において、発光波長が紫外領域であって前記基板とは異なる実装基板に複数個が列をなすように並べて配置された発光ダイオードをさらに備えていることが望ましい。   The ultraviolet irradiation device preferably further includes light emitting diodes arranged in a plurality of rows in a mounting substrate having a light emission wavelength in the ultraviolet region and different from the substrate.

この紫外線照射装置において、1枚の基板に前記ラインを形成する複数のグループのレーザダイオードが配置され、グループごとに点灯と消灯とのタイミングが異なることがより望ましい。   In this ultraviolet irradiation device, it is more desirable that a plurality of groups of laser diodes for forming the lines are arranged on a single substrate, and that the timing of turning on and off is different for each group.

この紫外線照射装置において、1枚の基板に前記ラインを形成する複数のグループのレーザダイオードが配置され、グループごとに発光波長が異なることがより望ましい。   In this ultraviolet irradiation apparatus, it is more desirable that a plurality of groups of laser diodes for forming the lines are arranged on a single substrate, and that the emission wavelength differs for each group.

この紫外線照射装置において、レーザダイオードと回折光学素子との間にレーザダイオードから放射された紫外線の広がり範囲を制御するレンズをさらに備えることがより望ましい。   In this ultraviolet irradiation apparatus, it is more desirable to further include a lens for controlling the spread range of ultraviolet rays emitted from the laser diode between the laser diode and the diffractive optical element.

本発明は、紫外線を対象物にライン状に照射するにあたって、ラインの幅内の強度変化を抑制するとともに、対象物との距離変化による強度変化を抑制することが可能になるという利点がある。   The present invention has an advantage that, when irradiating an object with ultraviolet rays in a line shape, it is possible to suppress an intensity change within the width of the line and to suppress an intensity change due to a distance change from the object.

基本構成を示し、(a)は平面図、(b)は側面図である。A basic structure is shown, (a) is a top view, (b) is a side view. 同上に用いるレーザダイオードを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the laser diode used for the same as the above. (a)は同上におけるレーザダイオードと回折光学素子との配置を示す側面図、(b)は同上におけるレーザダイオードと回折光学素子とレンズとの配置を示す側面図、(c)は1個のレーザダイオードによる対象物の表面への照射範囲を示す図である。(A) is a side view showing the arrangement of the laser diode and the diffractive optical element in the above, (b) is a side view showing the arrangement of the laser diode, the diffractive optical element and the lens in the above, and (c) is one laser. It is a figure which shows the irradiation range to the surface of the target object by a diode. 同上に用いる1枚の基板に関する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing regarding the one board | substrate used for the same as the above. (a)は同上に用いるレーザダイオードの配光を示す側面図、(b)は同図(a)について所定距離での紫外線の強度分布を示す図である。(A) is a side view showing the light distribution of the laser diode used in the above, and (b) is a diagram showing the intensity distribution of ultraviolet rays at a predetermined distance in FIG. 実施形態1における配置例を示す側面図である。3 is a side view illustrating an arrangement example in Embodiment 1. FIG. 図6に示した配置例での紫外線の強度分布を示す図である。It is a figure which shows the intensity distribution of the ultraviolet-ray in the example of arrangement | positioning shown in FIG. 実施形態2における配置例を示す側面図である。FIG. 10 is a side view showing an arrangement example in Embodiment 2. 図8に示した配置例での紫外線の強度分布を示す図である。It is a figure which shows the intensity distribution of the ultraviolet-ray in the example of arrangement | positioning shown in FIG. (a)は同上に用いる発光ダイオードの配光を示す側面図、(b)は同図(a)について所定距離での紫外線の強度分布を示す図である。(A) is a side view which shows the light distribution of the light emitting diode used for the above, (b) is a figure which shows intensity distribution of the ultraviolet-ray at a predetermined distance about the figure (a). 同上の使用例を示す動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which shows the usage example same as the above. 実施形態3の動作説明図である。FIG. 10 is an operation explanatory diagram of the third embodiment.

以下では、紫外線照射装置を印刷装置に用いる場合を例として説明する。印刷装置は、紙や布のようなシート状の印刷原反に紫外線硬化インクによる印刷を施した後に、紫外線照射装置から印刷原反に紫外線を照射することにより紫外線硬化インクを硬化させるように構成される。   Below, the case where an ultraviolet irradiation device is used for a printing apparatus is demonstrated as an example. The printing device is configured to cure the ultraviolet curable ink by irradiating the printing raw material with ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device after printing on the sheet-like printing raw material such as paper or cloth with the ultraviolet curable ink. Is done.

(基本構成)
紫外線照射装置1は、図1に示すように、短冊状の複数枚の基板3を備え、基板3ごとに厚み方向の一面に複数個のレーザダイオード2が並べて実装される。ここでは、基本的な構成について説明するために基板3が2枚である場合を例とする。また、レーザダイオード2は1枚の基板3に2列以上配置することが可能であるが、図示例では1枚の基板3にレーザダイオード2を1列だけ配置してある。
(Basic configuration)
As shown in FIG. 1, the ultraviolet irradiation device 1 includes a plurality of strip-shaped substrates 3, and a plurality of laser diodes 2 are mounted side by side on one surface in the thickness direction for each substrate 3. Here, in order to explain the basic configuration, the case where there are two substrates 3 is taken as an example. Further, two or more rows of laser diodes 2 can be arranged on one substrate 3, but in the illustrated example, only one row of laser diodes 2 is arranged on one substrate 3.

レーザダイオード2は、図2に示すように、円柱状のパッケージ21を備える。パッケージ21の一端面には紫外線を放射させる発光窓22が形成され、パッケージ21の他端面からは端子23が突設される。   As shown in FIG. 2, the laser diode 2 includes a cylindrical package 21. A light emitting window 22 that emits ultraviolet rays is formed on one end surface of the package 21, and a terminal 23 projects from the other end surface of the package 21.

レーザダイオード2の発光窓22に対向する部位には、回折を利用して紫外線の伝播方向を制御する回折光学素子5が配置される。回折光学素子5は、レーザダイオード2から放射された紫外線を回折させることにより、レーザダイオード2から放射された紫外線の放射範囲を一方向に広げるように回折パターンが形成されている。したがって、レーザダイオード2が放射した紫外線は、回折光学素子5によってスリット光のように扇状に広げられる。   A diffractive optical element 5 that controls the propagation direction of ultraviolet rays using diffraction is disposed at a portion of the laser diode 2 that faces the light emission window 22. The diffractive optical element 5 has a diffraction pattern formed so as to widen the radiation range of the ultraviolet light emitted from the laser diode 2 in one direction by diffracting the ultraviolet light emitted from the laser diode 2. Accordingly, the ultraviolet rays emitted from the laser diode 2 are spread in a fan shape like slit light by the diffractive optical element 5.

回折光学素子5は、レーザダイオード2から放射される紫外線の放射範囲が基板3の長手方向に沿う向きになるように回折パターンの向きを定めて配置される。したがって、レーザダイオード2から放射された紫外線の放射範囲(破線で示す範囲)は、図3(a)に示すように、主として基板3の長手方向(図3の左右方向)に広がる。また、レーザダイオード3から放射された紫外線の放射範囲は、基板3の短手方向にはほとんど広がらない。したがって、紫外線を照射する仮想の照射面91を回折光学素子5の前方に設定すると、照射面91に対する紫外線の照射領域200は、図3(c)のように、基板3の長手方向に広がり、基板3の短手方向にはほとんど広がらない矩形状になる。   The diffractive optical element 5 is arranged with the direction of the diffraction pattern determined so that the radiation range of ultraviolet rays emitted from the laser diode 2 is oriented along the longitudinal direction of the substrate 3. Therefore, the radiation range of ultraviolet rays emitted from the laser diode 2 (the range indicated by the broken line) extends mainly in the longitudinal direction of the substrate 3 (left-right direction in FIG. 3), as shown in FIG. Further, the radiation range of the ultraviolet rays emitted from the laser diode 3 hardly extends in the short direction of the substrate 3. Therefore, when the virtual irradiation surface 91 for irradiating ultraviolet rays is set in front of the diffractive optical element 5, the ultraviolet irradiation region 200 with respect to the irradiation surface 91 extends in the longitudinal direction of the substrate 3 as shown in FIG. The substrate 3 has a rectangular shape that hardly spreads in the short direction.

したがって、図4のように、基板3の長手方向に隣り合う各一対のレーザダイオード2に対応した照射領域200の一部を重複させるようにレーザダイオード2の配列ピッチを設定すると、照射面91(図3参照)にライン状の照射領域201が形成されることになる。レーザダイオード2の配列ピッチは、回折光学素子5の回折パターンなどの設計条件に依存するが、少なくとも隣接するレーザダイオード2を離間させる配置が可能である。レーザダイオード2の配列ピッチL2は、1個のレーザダイオード2の基板3の長手方向における寸法L1に対して、例えば、1.5〜2.5倍程度に設定することが可能になる。これにより、基板3の長手方向において単位長さ当たりに必要なレーザダイオード2の個数は、発光ダイオードを用いる場合よりも少なくなる。また、隣接するレーザダイオード2が離間していることにより、互いに他のレーザダイオード2の発熱による影響が抑制される。なお、図4に示すように、必要に応じて複数枚の基板3を長手方向に並べて配置してもよい。   Therefore, as shown in FIG. 4, when the arrangement pitch of the laser diodes 2 is set so as to overlap a part of the irradiation region 200 corresponding to each pair of laser diodes 2 adjacent in the longitudinal direction of the substrate 3, the irradiation surface 91 ( A line-shaped irradiation region 201 is formed in FIG. The arrangement pitch of the laser diodes 2 depends on design conditions such as the diffraction pattern of the diffractive optical element 5, but at least the adjacent laser diodes 2 can be arranged apart from each other. The arrangement pitch L2 of the laser diodes 2 can be set to, for example, about 1.5 to 2.5 times the dimension L1 of the single laser diode 2 in the longitudinal direction of the substrate 3. As a result, the number of laser diodes 2 required per unit length in the longitudinal direction of the substrate 3 is smaller than when a light emitting diode is used. Further, since the adjacent laser diodes 2 are separated from each other, the influence of heat generated by the other laser diodes 2 is suppressed. As shown in FIG. 4, a plurality of substrates 3 may be arranged in the longitudinal direction as necessary.

上述したように、レーザダイオード2から放射され回折光学素子5により回折された紫外線の放射範囲は、基板3の短手方向には大きく広がらない。図5(a)には放射範囲の広がりを強調して記載しているが、実際には、レーザダイオード2からの距離D1の変化に対して照射領域200の変化は比較的少ない。また、レーザダイオード2から放射されるレーザ光の属性として放射範囲内での強度の変化は比較的少ない。すなわち、図5(b)に示すように、基板3の短手方向において照射領域200の範囲では均一な強度(照度)が得られる。   As described above, the radiation range of the ultraviolet rays emitted from the laser diode 2 and diffracted by the diffractive optical element 5 does not widen greatly in the short direction of the substrate 3. In FIG. 5A, the spread of the radiation range is emphasized, but actually, the change of the irradiation region 200 is relatively small with respect to the change of the distance D1 from the laser diode 2. Further, as an attribute of the laser light emitted from the laser diode 2, the intensity change within the emission range is relatively small. That is, as shown in FIG. 5B, uniform intensity (illuminance) is obtained in the range of the irradiation region 200 in the short direction of the substrate 3.

ところで、紫外線照射装置1として用いるレーザダイオード2は出力が大きいから、放熱対策が必要である。そのため、基板3には、図1に示すように、放熱部材4が取り付けられる。図示する放熱部材4は水のような冷媒によって放熱を行う構成であって、放熱部材4は冷媒を通過させる流路44,45を備えた中空状に形成されている。基板3は、放熱部材4における図1(b)の上面に配置される。図1(b)における放熱部材4の上面は、左右方向における中央部の中央面43と、中央面43の左右にそれぞれ連続し互いに離れる向きに上り傾斜した2つの傾斜面41,42とを備える。   By the way, since the laser diode 2 used as the ultraviolet irradiation device 1 has a large output, it is necessary to take measures against heat dissipation. Therefore, the heat radiating member 4 is attached to the substrate 3 as shown in FIG. The illustrated heat radiating member 4 is configured to radiate heat using a coolant such as water, and the heat radiating member 4 is formed in a hollow shape having flow paths 44 and 45 through which the refrigerant passes. The substrate 3 is arranged on the upper surface of FIG. The upper surface of the heat radiating member 4 in FIG.1 (b) is provided with the center surface 43 of the center part in the left-right direction, and the two inclined surfaces 41 and 42 which continued to the left and right of the center surface 43, and went up in the direction away from each other. .

上述したように2枚の基板3を設けているから、傾斜面41,42ごとに基板3が載せられ、両基板3は長手方向が平行になるように配置される。また、基板3と放熱部材4とは熱的に結合される。2枚の基板3が上述のように配置されるから、各基板3に設けたレーザダイオード2によって所望の照射面91において形成されるライン状の照射領域201(図4参照)を重ね合わせることが可能である。すなわち、所望の照射面91に対する傾斜面41,42の傾き角度および基板3から照射面91までの距離を調節することにより、2枚の基板3を用いて照射面91にライン状の照射領域201を形成することが可能になる。この構成では、2枚の基板3から紫外線を照射しているから、他の条件が同じであれば、1枚の基板3のみで紫外線を照射する場合に比較すると、照射領域201に対して2倍近い強度の紫外線を照射することが可能になる。   Since the two substrates 3 are provided as described above, the substrate 3 is placed on each of the inclined surfaces 41 and 42, and both the substrates 3 are arranged so that their longitudinal directions are parallel to each other. Moreover, the board | substrate 3 and the thermal radiation member 4 are couple | bonded thermally. Since the two substrates 3 are arranged as described above, the line-shaped irradiation region 201 (see FIG. 4) formed on the desired irradiation surface 91 can be overlaid by the laser diode 2 provided on each substrate 3. Is possible. That is, by adjusting the inclination angle of the inclined surfaces 41 and 42 with respect to the desired irradiation surface 91 and the distance from the substrate 3 to the irradiation surface 91, the linear irradiation region 201 is formed on the irradiation surface 91 using the two substrates 3. Can be formed. In this configuration, since the ultraviolet rays are irradiated from the two substrates 3, if the other conditions are the same, the irradiation region 201 is 2 in comparison with the case where the ultraviolet rays are irradiated only by the single substrate 3. It becomes possible to irradiate ultraviolet rays with twice the intensity.

上述の例では、レーザダイオード2から放射された紫外線の伝播方向(配光)を回折光学素子5のみで制御しているが、図3(b)に示すように、回折光学素子5に加えてレンズ51を設けてもよい。レンズ51は、レーザダイオード2と回折光学素子5との間に配置すればよい。レンズ51は、例えば、入射した光を平行光にして出射させるコリメートレンズ、照射領域201に形成されるラインの幅を調節するためのレンズなどを用いることが可能である。   In the above-described example, the propagation direction (light distribution) of the ultraviolet rays emitted from the laser diode 2 is controlled only by the diffractive optical element 5, but in addition to the diffractive optical element 5, as shown in FIG. A lens 51 may be provided. The lens 51 may be disposed between the laser diode 2 and the diffractive optical element 5. As the lens 51, for example, a collimating lens that emits incident light as parallel light and a lens for adjusting the width of a line formed in the irradiation region 201 can be used.

(実施形態1)
基本構成としては、2枚の基板3を用いた紫外線照射装置1を例示したが、以下では、図6に示すように、4枚の基板3(31,32,33,34)を用いる場合を例として説明する。
(Embodiment 1)
As an example of the basic configuration, the ultraviolet irradiation apparatus 1 using two substrates 3 is illustrated. However, in the following, as shown in FIG. 6, the case where four substrates 3 (31, 32, 33, 34) are used is used. This will be described as an example.

4枚の基板31,32,33,34は、長手方向が平行になるように配置され、かつ基板3の長手方向に直交する面内では照射面91(図3参照)に対する傾斜角度を互いに異ならせるように配置される。基板31,32,33,34ごとの傾斜角度は、基板31,32,33,34ごとに照射面91に形成されるライン状の照射領域201が互いに一致して重なり合うように設定される。照射面91が図6に符号A1で示す位置であるとき、各基板31,32,33,34により形成されるライン状の照射領域201を重ね合わせるために、両端部の基板31,34の照射面91に対する傾斜角度は、中央部の基板32,33の照射面91に対する傾斜角度よりも大きく設定される。   The four substrates 31, 32, 33, and 34 are arranged so that the longitudinal directions thereof are parallel to each other, and the inclination angles with respect to the irradiation surface 91 (see FIG. 3) are different from each other in a plane orthogonal to the longitudinal direction of the substrate 3. It is arranged to let you. The inclination angle for each of the substrates 31, 32, 33, and 34 is set so that the linear irradiation areas 201 formed on the irradiation surface 91 for each of the substrates 31, 32, 33, and 34 coincide with each other and overlap each other. When the irradiation surface 91 is at the position indicated by reference numeral A1 in FIG. 6, irradiation of the substrates 31, 34 at both ends is performed in order to overlap the linear irradiation regions 201 formed by the substrates 31, 32, 33, 34. The inclination angle with respect to the surface 91 is set to be larger than the inclination angle with respect to the irradiation surface 91 of the central substrates 32 and 33.

基板31,32,33,34を図6のように配置した場合、符号A1で示す位置では、ライン状の照射領域201が重なり合っているから、図7(a)に示すように、照射領域201において強度がほぼ一定になる。一方、図6に符号B1で示す位置(符号A1で示す位置よりも基板31,32,33,34に近い位置)では、各基板31,32,33,34から放射された紫外線の放射範囲が重なり合う領域と重なり合わない領域とが生じる。放射範囲が重なっている領域では紫外線の強度が大きくなり、放射範囲が重なっていない領域では相対的に紫外線の強度が小さくなる。したがって、符号B1で示す位置では、図7(b)に示すように、基板3の長手方向に直交する面内において紫外線の強度が一様にならない。なお、図7(b)は紫外線の強度を模式的に示してあり、実際の強度分布を示してはいない。   When the substrates 31, 32, 33, and 34 are arranged as shown in FIG. 6, the line-shaped irradiation areas 201 are overlapped at the position indicated by reference numeral A <b> 1, and as shown in FIG. The strength becomes almost constant at. On the other hand, at the position indicated by reference numeral B1 in FIG. 6 (positions closer to the substrates 31, 32, 33, and 34 than the position indicated by reference numeral A1), the radiation range of ultraviolet rays emitted from the respective substrates 31, 32, 33, and 34 is as follows. Overlapping areas and non-overlapping areas occur. In the region where the radiation ranges overlap, the intensity of the ultraviolet light increases, and in the region where the radiation ranges do not overlap, the ultraviolet light intensity decreases relatively. Accordingly, at the position indicated by reference numeral B1, the intensity of ultraviolet rays is not uniform in a plane orthogonal to the longitudinal direction of the substrate 3, as shown in FIG. 7B. FIG. 7B schematically shows the intensity of ultraviolet rays, and does not show the actual intensity distribution.

本実施形態の構成では、紫外線の強度が均一になる位置(図6に符号A1で表された位置)では、ライン状の照射領域201における紫外線の強度が、4枚の基板31,32,33,34からの紫外線の合算になる。そのため、紫外線の強度を基本構成よりもさらに高めることが可能である。   In the configuration of the present embodiment, at the position where the intensity of the ultraviolet light becomes uniform (the position indicated by the symbol A1 in FIG. 6), the intensity of the ultraviolet light in the linear irradiation region 201 is four substrates 31, 32, 33. , 34 is the sum of ultraviolet rays. Therefore, it is possible to further increase the intensity of the ultraviolet light as compared with the basic configuration.

(実施形態2)
実施形態1は、レーザダイオード2のみを光源に用いる例を示したが、本実施形態は、発光ダイオードを合わせて光源に用いる構成例について説明する。
(Embodiment 2)
Although Embodiment 1 showed the example which uses only the laser diode 2 for a light source, this embodiment demonstrates the structural example used for a light source combining a light emitting diode.

図8に示すように、本実施形態の紫外線照射装置1は、実施形態1の基板32,33に代えて、発光波長が紫外線領域である発光ダイオード6を実装した短冊状の実装基板81,82を備える。   As shown in FIG. 8, the ultraviolet irradiation device 1 of the present embodiment is a strip-shaped mounting substrate 81, 82 on which a light emitting diode 6 having an emission wavelength in the ultraviolet region is mounted instead of the substrates 32, 33 of the first embodiment. Is provided.

発光ダイオード6は、レーザダイオード2と同様に、回折を利用して紫外線の伝播方向を制御する回折光学素子7と組み合わせて用いられる。回折光学素子7は、回折光学素子5と同様に、発光ダイオード6から放射された紫外線を一方向に広げるように回折パターンが形成されている。また、発光ダイオード6は、実装基板81,82の厚み方向の一面に長手方向に沿って1列に並んで配置され、回折光学素子7は、発光ダイオード6から放射された紫外線の放射範囲を、実装基板81,82の長手方向に広げるように配置される。   Like the laser diode 2, the light emitting diode 6 is used in combination with a diffractive optical element 7 that uses diffraction to control the propagation direction of ultraviolet rays. Similar to the diffractive optical element 5, the diffractive optical element 7 has a diffraction pattern formed so as to spread the ultraviolet rays emitted from the light emitting diode 6 in one direction. The light-emitting diodes 6 are arranged in a line along the longitudinal direction on one surface in the thickness direction of the mounting substrates 81 and 82, and the diffractive optical element 7 has a radiation range of ultraviolet rays radiated from the light-emitting diodes 6, The mounting boards 81 and 82 are arranged so as to extend in the longitudinal direction.

本実施形態は、発光ダイオード6の輝度がレーザダイオード2の輝度よりも低いことを前提にしている。したがって、紫外線硬化インクを硬化させるのに必要な強度の紫外線を照射することができる距離は、発光ダイオード6のほうがレーザダイオード2よりも短くなる。すなわち、発光ダイオード6について、紫外線硬化インクの硬化に必要な強度の紫外線を照射可能な最大距離をD2(図10参照)とすると、レーザダイオード2について同じ強度の紫外線を照射可能な最大距離はD2よりも大きくなる。ここでは、図5に示した距離D1が距離D2に対応すると仮定する(D2<D1)。また、実装基板8の長手方向に直交する断面において、距離D2の位置に仮の照射面92を設定した場合の照射領域202は、レーザダイオード2において距離D1の位置に照射面91を設定した場合の照射領域201よりも広くなると仮定する。これらの仮定は、レーザダイオード2および発光ダイオード6の属性から合理的であると言える。また、発光ダイオード6から放射された紫外線は、照射領域202において強度が一様にならず、図10(b)に示すように、照射領域202の中央部から両端部に向かって強度が次第に低下する。   This embodiment is based on the premise that the luminance of the light emitting diode 6 is lower than the luminance of the laser diode 2. Therefore, the distance at which the ultraviolet ray having the intensity required to cure the ultraviolet curable ink can be irradiated is shorter in the light emitting diode 6 than in the laser diode 2. That is, assuming that the maximum distance that can irradiate the ultraviolet light having the intensity required for curing the ultraviolet curable ink with respect to the light emitting diode 6 is D2 (see FIG. 10), the maximum distance that the laser diode 2 can be irradiated with the ultraviolet light with the same intensity is D2. Bigger than. Here, it is assumed that the distance D1 shown in FIG. 5 corresponds to the distance D2 (D2 <D1). Further, in the cross section orthogonal to the longitudinal direction of the mounting substrate 8, the irradiation region 202 when the provisional irradiation surface 92 is set at the position of the distance D 2 is the case where the irradiation surface 91 is set at the position of the distance D 1 in the laser diode 2. It is assumed that the area is wider than the irradiation area 201 of FIG. These assumptions can be said to be reasonable from the attributes of the laser diode 2 and the light emitting diode 6. Further, the intensity of the ultraviolet light emitted from the light emitting diode 6 does not become uniform in the irradiation region 202, and the intensity gradually decreases from the central portion of the irradiation region 202 toward both ends as shown in FIG. 10B. To do.

基板31,34に配置されたレーザダイオード2からの紫外線と、実装基板81,82に配置された発光ダイオード6からの紫外線との配光の関係から、本実施形態では、照射面91,92までの距離による紫外線の強度の変化が抑制される。すなわち、レーザダイオード2により形成されるライン状の照射領域201(図3参照)が重なり合う位置(図8の符号A2の位置)では、主としてレーザダイオード2からの紫外線の強度によって照射領域201の強度分布が決まる。また、発光ダイオード6からの紫外線が紫外線硬化インクの硬化に有効に寄与する位置(図8の符号B2の位置)では、レーザダイオード2からの紫外線と発光ダイオード6からの紫外線とが合成されて照射領域202の強度分布が決まる。その結果、図9(a)のように、位置A2において紫外線の強度がほぼ一様になるだけではなく、図9(b)のように、位置B2においても紫外線の強度がほぼ一様になる。なお、基板31,32に直交する面内において、位置A2における紫外線の照射領域201に比較して、位置B2における紫外線の照射領域202は広くなる。   In this embodiment, from the relationship between the light distribution of the ultraviolet rays from the laser diode 2 arranged on the substrates 31 and 34 and the ultraviolet rays from the light emitting diode 6 arranged on the mounting substrates 81 and 82, the irradiation surfaces 91 and 92 are reached. The change in the intensity of ultraviolet rays due to the distance is suppressed. That is, at the position where the linear irradiation area 201 (see FIG. 3) formed by the laser diode 2 overlaps (position A2 in FIG. 8), the intensity distribution of the irradiation area 201 is mainly based on the intensity of the ultraviolet rays from the laser diode 2. Is decided. Further, at the position where the ultraviolet rays from the light emitting diode 6 effectively contribute to the curing of the ultraviolet curable ink (position B2 in FIG. 8), the ultraviolet rays from the laser diode 2 and the ultraviolet rays from the light emitting diode 6 are combined and irradiated. The intensity distribution of the region 202 is determined. As a result, the intensity of the ultraviolet rays is not only substantially uniform at the position A2 as shown in FIG. 9 (a), but also the intensity of the ultraviolet rays is substantially uniform at the position B2 as shown in FIG. 9 (b). . In the plane orthogonal to the substrates 31 and 32, the ultraviolet irradiation region 202 at the position B2 is wider than the ultraviolet irradiation region 201 at the position A2.

上述したように、本実施形態では、レーザダイオード2と発光ダイオード6とを併用することにより、照射面91,92までの距離の変化に対する紫外線の強度の変化が抑制される。   As described above, in the present embodiment, by using the laser diode 2 and the light emitting diode 6 in combination, the change in the intensity of the ultraviolet light with respect to the change in the distance to the irradiation surfaces 91 and 92 is suppressed.

ところで、印刷装置では、図11に示すように、紫外線を照射する対象である印刷原反9を圧胴10に沿って搬送する構成が知られている。たとえば、オフセット印刷を行う印刷装置では、印刷原反9を圧胴10に沿って搬送するから、紫外線照射装置1は、圧胴10の周囲に配置される。印刷原反8の端部93,94には張力が作用しないから、端部93,94は圧胴10から浮き上がりやすい傾向がある。そのため、印刷原反9の端部93,94は、レーザダイオード2のみによりライン状の照射領域201が形成される位置よりも近い位置を通過する可能性がある。本実施形態の構成では、符号A2で示す位置よりも近い位置(符号B2で示す位置)であっても、発光ダイオード6により紫外線の強度が補償されるから、印刷原反9の端部93,94においても紫外線の強度を均一化することが可能になる。また、実施形態1の構成であってもレーザ光の強度が高いから、距離変化に対応可能である。なお、本実施形態では、発光ダイオード6をレーザダイオード2を配置した基板3とは別に設けた実装基板8に実装しているが、発光ダイオード6をレーザダイオード2と同じ基板3に配置してもよい。他の構成および機能は実施形態1と同様である。   By the way, in the printing apparatus, as shown in FIG. 11, the structure which conveys the printing original fabric 9 which is the object which irradiates an ultraviolet ray along the impression cylinder 10 is known. For example, in a printing apparatus that performs offset printing, the printing original fabric 9 is transported along the impression cylinder 10, so the ultraviolet irradiation device 1 is disposed around the impression cylinder 10. Since no tension acts on the end portions 93 and 94 of the printing raw fabric 8, the end portions 93 and 94 tend to be lifted from the impression cylinder 10. Therefore, the end portions 93 and 94 of the printing original fabric 9 may pass through a position closer to the position where the line-shaped irradiation region 201 is formed only by the laser diode 2. In the configuration of the present embodiment, since the intensity of ultraviolet rays is compensated for by the light emitting diode 6 even at a position closer to the position indicated by reference numeral A2 (position indicated by reference numeral B2), the end portions 93, In 94, the intensity of ultraviolet rays can be made uniform. Further, even with the configuration of the first embodiment, since the intensity of the laser beam is high, it is possible to cope with a change in distance. In the present embodiment, the light emitting diode 6 is mounted on the mounting substrate 8 provided separately from the substrate 3 on which the laser diode 2 is disposed, but the light emitting diode 6 may be disposed on the same substrate 3 as the laser diode 2. Good. Other configurations and functions are the same as those of the first embodiment.

(実施形態3)
実施形態1は、紫外線照射装置1の光源に用いるすべてのレーザダイオード2に同仕様のものを用い、また、すべてのレーザダイオード2について同制御を行っているが、本実施形態では、レーザダイオード2について異なる制御を行う場合と、仕様の異なるレーザダイオード2を組み合わせて用いる場合とについて説明する。
(Embodiment 3)
In the first embodiment, the same specifications are used for all the laser diodes 2 used as the light source of the ultraviolet irradiation device 1, and the same control is performed for all the laser diodes 2, but in this embodiment, the laser diode 2 is used. A description will be given of a case where different control is performed on the case 2 and a case where laser diodes 2 having different specifications are used in combination.

ここでは、図12に示すように、6個のレーザダイオード2が、1枚の基板3に配置されている場合を例として説明する。また、1枚の基板3に複数のグループ(本実施形態では2グループについて説明する)のレーザダイオード2a,2bを配置する。第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとは、基板3の長手方向において交互に配置される。   Here, as shown in FIG. 12, a case where six laser diodes 2 are arranged on one substrate 3 will be described as an example. In addition, a plurality of groups of laser diodes 2 a and 2 b (two groups will be described in this embodiment) are arranged on one substrate 3. The first group of laser diodes 2 a and the second group of laser diodes 2 b are alternately arranged in the longitudinal direction of the substrate 3.

第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとは異なる制御が行われる。具体的には、図12(a)のように、第1グループのレーザダイオード2aが点灯する状態と、図12(b)のように、第2グループのレーザダイオード2bが点灯する状態とを交互に入れ換える。第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとのどちらが点灯している状態であっても、照射領域201がライン状になるように、グループごとのレーザダイオード2a,2bは、点灯時に照射領域200が連続するように配置される。   The first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b are controlled differently. Specifically, the state where the first group of laser diodes 2a is lit as shown in FIG. 12A and the state where the second group of laser diodes 2b are lit as shown in FIG. Replace with. Regardless of which of the first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b is lit, the laser diodes 2a and 2b for each group are lit so that the irradiation region 201 is in a line shape. Sometimes the irradiation area 200 is arranged to be continuous.

第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとを交互に点灯させることによって、第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとの一方に、紫外線を放射しない休止期間を設けることが可能になる。したがって、基板3に配置したすべてのレーザダイオード2a,2bを一斉に点灯させる場合に比較して発熱量の低減が可能になり、レーザダイオード2a,2bの特性の変化や寿命の低下が抑制される。また、第1グループと第2グループとのレーザダイオード2a,2bを交互に点灯させるから、レーザダイオード2a,2bを一斉に点灯させる場合に比較すると、寿命が約2倍になる。   By alternately lighting the first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b, a rest period in which no ultraviolet rays are emitted to one of the first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b. Can be provided. Accordingly, it is possible to reduce the amount of heat generation as compared with the case where all the laser diodes 2a and 2b arranged on the substrate 3 are turned on all at once, and the change in the characteristics and the life of the laser diodes 2a and 2b are suppressed. . Further, since the laser diodes 2a and 2b of the first group and the second group are alternately turned on, the lifetime is approximately doubled compared to the case where the laser diodes 2a and 2b are turned on all at once.

第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとは、交互に点灯させる代わりに、発光波長を異ならせてもよい。例えば、第1グループのレーザダイオード2aの発光波長を365nmとし、第2グループのレーザダイオード2bの発光波長を385nmとする。この構成では、第1グループのレーザダイオード2aと第2グループのレーザダイオード2bとを同時に点灯させることにより、紫外線照射装置1から異なる波長の紫外線を同時に放射することが可能になる。例えば、紫外線硬化インクの成分や色によって硬化に適した波長が異なる場合には、この構成の紫外線照射装置1を用いることにより、紫外線硬化インクの特性に合わせた複数の波長の紫外線を照射することが可能になる。   The first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b may have different emission wavelengths instead of being alternately turned on. For example, the emission wavelength of the first group of laser diodes 2a is 365 nm, and the emission wavelength of the second group of laser diodes 2b is 385 nm. In this configuration, by turning on the first group of laser diodes 2a and the second group of laser diodes 2b at the same time, it becomes possible to simultaneously emit ultraviolet rays of different wavelengths from the ultraviolet irradiation device 1. For example, when the wavelength suitable for curing differs depending on the components and colors of the ultraviolet curable ink, the ultraviolet irradiating device 1 having this configuration is used to irradiate ultraviolet rays having a plurality of wavelengths according to the characteristics of the ultraviolet curable ink. Is possible.

なお、本実施形態は1枚の基板3に2つのグループのレーザダイオード2a,2bを配置した例を示したが、3以上のグループのレーザダイオードを配置してもよい。他の構成および機能は基本構成と同様である。   In this embodiment, an example in which two groups of laser diodes 2a and 2b are arranged on one substrate 3 is shown, but three or more groups of laser diodes may be arranged. Other configurations and functions are the same as the basic configuration.

上述した各実施形態では、レーザダイオード2ごとに矩形状の照射領域を形成する回折光学素子5,7を用いているが、異なる回折パターンの回折光学素子5,7を用いることにより、レーザダイオード2ごとの照射領域の形状を正方形、三角形、円などの各種の形状に形成することが可能となる。また、局所的な領域にスポットを照射するように回折パターンを形成した回折光学素子5,7を用いることも可能となる。さらに、各レーザダイオード2に対してそれぞれ回折光学素子5を設ける構成例を説明したが、1枚の基板3に配置されたレーザダイオード2の全体に跨る1枚のシート状の回折光学素子を用いることも可能である。   In each of the above-described embodiments, the diffractive optical elements 5 and 7 that form a rectangular irradiation region for each laser diode 2 are used. However, by using the diffractive optical elements 5 and 7 having different diffraction patterns, the laser diode 2 can be used. Each irradiation region can be formed in various shapes such as a square, a triangle, and a circle. It is also possible to use the diffractive optical elements 5 and 7 in which a diffraction pattern is formed so as to irradiate a spot on a local region. Further, the configuration example in which the diffractive optical element 5 is provided for each laser diode 2 has been described. However, a single sheet-like diffractive optical element that extends over the entire laser diode 2 disposed on the single substrate 3 is used. It is also possible.

また、上述した実施形態では、紫外線照射装置1を印刷原反9に印刷する印刷装置に用いる場合を想定して説明したが、建築用板に紫外線硬化塗料を塗布する装置など、他の装置であっても上述した技術を採用することが可能である。   Further, in the above-described embodiment, the case where the ultraviolet irradiation device 1 is used for a printing device that prints on the printing original fabric 9 has been described. However, in other devices such as a device that applies an ultraviolet curable paint to a building board. Even if it exists, it is possible to employ | adopt the technique mentioned above.

1 紫外線照射装置
2 レーザダイオード
3 基板
5 回折光学素子
6 発光ダイオード
7 回折光学素子
51 レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ultraviolet irradiation device 2 Laser diode 3 Substrate 5 Diffractive optical element 6 Light emitting diode 7 Diffractive optical element 51 Lens

Claims (5)

複数枚の基板と、発光波長が紫外領域であって前記基板ごとに複数個ずつ列をなすように並べて配置されたレーザダイオードと、前記レーザダイオードから放射される紫外線を回折させる回折光学素子とを備え、前記回折光学素子は、前記基板上で前記レーザダイオードが並ぶ方向に紫外線を回折させる機能を有し、前記基板は、前記レーザダイオードが並ぶ方向が互いに平行になるように配置され、かつ各前記基板から放射された紫外線が1つのライン上で重複するように、前記レーザダイオードが並ぶ方向に直交する面内において互いに傾斜していることを特徴とする紫外線照射装置。   A plurality of substrates; a laser diode having an emission wavelength in the ultraviolet region and arranged in a row for each of the substrates; and a diffractive optical element that diffracts ultraviolet rays emitted from the laser diode. The diffractive optical element has a function of diffracting ultraviolet rays in the direction in which the laser diodes are arranged on the substrate, and the substrate is arranged so that the directions in which the laser diodes are arranged are parallel to each other, and An ultraviolet irradiation device, wherein the ultraviolet rays emitted from the substrate are inclined with respect to each other in a plane perpendicular to the direction in which the laser diodes are arranged so that the ultraviolet rays emitted from one substrate overlap each other. 発光波長が紫外領域であって前記基板とは異なる実装基板に複数個が列をなすように並べて配置された発光ダイオードをさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。   2. The ultraviolet irradiation apparatus according to claim 1, further comprising: a light emitting diode having a light emission wavelength in an ultraviolet region, and a plurality of light emitting diodes arranged in a row on a mounting substrate different from the substrate. 1枚の基板に前記ラインを形成する複数のグループの前記レーザダイオードが配置され、前記グループごとに点灯と消灯とのタイミングが異なることを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。   The ultraviolet irradiation apparatus according to claim 1, wherein the laser diodes of a plurality of groups forming the line are arranged on a single substrate, and the timing of turning on and off is different for each group. 1枚の基板に前記ラインを形成する複数のグループの前記レーザダイオードが配置され、前記グループごとに発光波長が異なることを特徴とする請求項1または請求項3に記載の紫外線照射装置。   4. The ultraviolet irradiation apparatus according to claim 1, wherein the laser diodes of a plurality of groups forming the line are arranged on a single substrate, and the emission wavelength is different for each group. 5. 前記レーザダイオードと前記回折光学素子との間に前記レーザダイオードから放射された紫外線の広がり範囲を制御するレンズをさらに備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。   The ultraviolet irradiation according to any one of claims 1 to 4, further comprising a lens that controls a spread range of ultraviolet rays radiated from the laser diode between the laser diode and the diffractive optical element. apparatus.
JP2011217342A 2011-09-30 2011-09-30 Ultraviolet light irradiation device Withdrawn JP2013077732A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011217342A JP2013077732A (en) 2011-09-30 2011-09-30 Ultraviolet light irradiation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011217342A JP2013077732A (en) 2011-09-30 2011-09-30 Ultraviolet light irradiation device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013077732A true JP2013077732A (en) 2013-04-25

Family

ID=48480986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011217342A Withdrawn JP2013077732A (en) 2011-09-30 2011-09-30 Ultraviolet light irradiation device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013077732A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160016571A (en) * 2014-08-02 2016-02-15 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 Light source device and exposure device
JP2019023748A (en) * 2018-10-11 2019-02-14 株式会社アドテックエンジニアリング Illuminance ratio changing method and light exposure method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160016571A (en) * 2014-08-02 2016-02-15 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 Light source device and exposure device
KR102407563B1 (en) * 2014-08-02 2022-06-10 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 Irradiance proportion change method and exposure method
JP2019023748A (en) * 2018-10-11 2019-02-14 株式会社アドテックエンジニアリング Illuminance ratio changing method and light exposure method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI613093B (en) Light irradiation device
WO2014065081A1 (en) Light radiation device
JP2010118531A (en) White lighting system and lighting fixture for vehicle
JP6094663B2 (en) Light emitting device
JP2016157889A (en) Light irradiation element and linear light irradiation device
TWI615575B (en) Light sources, methods of irradiating light and lighting systems
JP2010205860A (en) Light irradiation device
JP2013077732A (en) Ultraviolet light irradiation device
US9625119B2 (en) Non-uniform lens array for illumination profile modification
JP2017183554A (en) Light irradiation device
JP2013171874A (en) Reflection plate array and light-irradiation device equipped with the same
KR200485846Y1 (en) Wrap-around window for lighting module
JP2012182401A (en) Light-emitting device and manufacturing method thereof
JP6413570B2 (en) Light source device
JP4971385B2 (en) Reflector, lamp unit and lamp panel
JP6533501B2 (en) Light irradiation device
WO2020121961A1 (en) Circuit board and vehicle light
KR200482698Y1 (en) Differential ultraviolet curing using external optical elements
JP2009064979A (en) Light source using light-emitting diode
JP6174938B2 (en) lighting equipment
JP5382373B2 (en) Light irradiation device
JP2011046125A (en) Ultraviolet irradiation device
JP2018187774A (en) Light irradiation device
KR101372346B1 (en) Led borads which form a pattern on rear
WO2017158937A1 (en) Pattern formation body manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20141202