JP2016027998A - ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 - Google Patents
ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016027998A JP2016027998A JP2012267963A JP2012267963A JP2016027998A JP 2016027998 A JP2016027998 A JP 2016027998A JP 2012267963 A JP2012267963 A JP 2012267963A JP 2012267963 A JP2012267963 A JP 2012267963A JP 2016027998 A JP2016027998 A JP 2016027998A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- honeycomb structure
- catalyst
- manufacturing
- corrugated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 15
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 15
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxin Chemical compound O1C=COC=C1 KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001548 drop coating Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/40—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of the pentasil type, e.g. types ZSM-5, ZSM-8 or ZSM-11, as exemplified by patent documents US3702886, GB1334243 and US3709979, respectively
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/024—Multiple impregnation or coating
- B01J37/0246—Coatings comprising a zeolite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
【課題】工程数が少なくて済み、かつ、高温かつ高圧などの特殊な仕様の装置が不要にすることを可能とする、ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法、およびハニカム触媒の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ガラスペーパーに無機バインダおよびゼオライトが担持されてなる、ハニカム構造体を作製するための基材、ガラスペーパーに、ゼオライトと水とシリカゾルとからなるスラリーを塗布する工程を含む、ハニカム構造体を作製するための基材を作製する方法、並びに、そのような基材からハニカム構造体を作製する方法、並びに、そのようにして作製されるハニカム構造体から作製されるハニカム触媒である。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は、ガラスペーパーに無機バインダおよびゼオライトが担持されてなる、ハニカム構造体を作製するための基材、ガラスペーパーに、ゼオライトと水とシリカゾルとからなるスラリーを塗布する工程を含む、ハニカム構造体を作製するための基材を作製する方法、並びに、そのような基材からハニカム構造体を作製する方法、並びに、そのようにして作製されるハニカム構造体から作製されるハニカム触媒である。
【選択図】図１
Description
本発明は、触媒として利用するのに適したハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法、およびハニカム触媒の作製方法に関する。
例えば窒素酸化物等を含む排ガスを触媒作用により処理することを目的として、従来から触媒担持ハニカム構造体が知られている。
このような触媒担持ハニカム構造体は、例えば、以下に示す手順（１）〜（３）に従って作製される；
（１）粉末の状態のゼオライトについてイオン交換を行うことによりゼオライトを担体とした触媒を調製し、これをバインダと混合することによりスラリーとする。
（１）粉末の状態のゼオライトについてイオン交換を行うことによりゼオライトを担体とした触媒を調製し、これをバインダと混合することによりスラリーとする。
（２）コージェライト等を基材としてハニカム構造体を作製する。このようなハニカム構造体は、例えば、平板状基材と、この平板状基材をコルゲート加工して得られる波板状基材とを交互に積層することにより作製される。
（３）（１）で得られたスラリーを、（２）で得られたハニカム構造体にコーティングする。
この方法は、例えば、特許文献１〜３に記載されている。
また、触媒担持ハニカム構造体を作製するための他の方法としては、上記（２）のハニカム構造体またはその基材にゼオライトの原料とテンプレートと呼ばれる有機化合物を担持させ、基材にこれらを担持させた場合には、これからハニカム構造体を作製し、その後、ハニカムの状態で水熱処理、乾燥、焼成等の処理を経てゼオライトを調製する、という方法がある。
この方法は、例えば、特許文献４に記載されている。
ハニカム構造体にゼオライトを主体としたスラリーをコーティングさせる方法により触媒担持ハニカム構造体（ハニカム触媒）を作製する場合、スラリーの濃度が高いと、その粘性によりスラリーによる目詰まりが発生しやすい。このため、希薄なスラリーを用いて何度もハニカム構造体にスラリーをコーティングさせるための操作を行う必要がある。また、スラリーの材料となる粉末触媒の調製が別途必要であり、特に、イオン交換時の固液分離に手間を要する。
一方、ハニカム構造体または基材上でゼオライト原料からゼオライトを生成させる方法の場合には、高温かつ高圧の条件を必要とするため製造設備が大掛かりになる。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、工程数が少なくて済み、かつ、高温かつ高圧などの特殊な仕様の装置が不要にすることを可能とする、ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法、およびハニカム触媒の作製方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は、成型可能なようにガラスペーパーに無機バインダおよびゼオライトが担持されてなる、ハニカム構造体を作製するための基材、または、ガラスペーパーに、ゼオライトと水とシリカゾルとからなるスラリーを塗布する工程を含む、ハニカム構造体を作製するための基材を作製する方法に関する。
また、本発明は、上記の基材を波形に加工して波板状基材を得る工程と、上記の基材を平板に加工して平板状基材を得る工程と、該波板状基材と該平板状基材と交互に積層してハニカム構造体を得る工程と、を含む、ハニカム構造体の作製方法、および、このような方法により作製されたハニカム構造体に関するものである。
さらに、本発明は、上記の方法により作製されたハニカム構造体に対して触媒金属種をイオン交換させる工程を含む、ハニカム触媒の作製方法、および上記の基材を波形に加工して波板状基材を得る工程と、上記の基材を平板に加工して平板状基材を得る工程と、該波板状基材に対し触媒金属種をイオン交換させて波板状触媒を得る工程と、該平板状基材に対し触媒金属種をイオン交換させて平板状触媒を得る工程と、該波板状触媒と該平板状触媒を交互に積層してハニカム触媒を得る工程と、を含む、ハニカム触媒の作製方法、およびこのような方法により作製されたハニカム触媒に関するものである。
本発明によると、ガラスペーパーに、シリカゾルなどの無機バインダを用いてゼオライトを固定し、これを成型することでハニカム構造体等の所望の形状のものを得ることができる。
従来方法のようにハニカム構造体とした後にコーティングを行う作製方法とは異なり、濃度の高いスラリーを用いても目詰まりが生じるおそれがないので、濃度の高いスラリーを用いることができゼオライトを担持させる操作は１回で済む。また、基材上でゼオライトを生成させる方法とは異なり、すでに調製されたゼオライトを担持させるためゼオライト生成に必要な高温、高圧条件を必要とせず、一般的な焼成炉であれば十分に作製可能である。
また、作製したゼオライトハニカムに触媒成分の金属を担持させる場合にも、成型された担体であるため固液分離が容易にできる利点がある。
図１は、本発明に関する基材の作製から最終的にハニカム触媒を作製するまでの実施例１に示す工程を概略的に説明している。以下、図１に示したような工程順に従って本発明を詳細に説明する。
（基材の調製）
まず、図１（ａ）に示すように、ゼオライト、水およびシリカゾルを混合してスラリーを作製する。
まず、図１（ａ）に示すように、ゼオライト、水およびシリカゾルを混合してスラリーを作製する。
ゼオライトとしては、触媒機能を有する金属を担持することができるものであれば、種々のものを用いることができ、例えば、そのようなゼオライトとして、ＭＦＩゼオライト、ＭＯＲゼオライトが挙げられる。
シリカゾルとしては、シリカを２０重量%程度含む酸性タイプのものを用いることが可能である。
また、スラリーを作製するに際して、ゼオライト、水、およびシリカゾルの重量比は、例えば、１００：１００：４６に調整される。
次いで、図１（ｂ）に示されるように、こうして得られたスラリーをガラスペーパーに塗布する。このようなスラリーに含まれるシリカゾルは無機バインダとして機能し、コルゲート加工した場合に、波形の形状を保持することが可能であり、目的とする、コルゲート加工が可能な、ハニカム構造体を作製するための基材を得ることができる。
ゼオライト、水およびシリカゾルを混合して得られるスラリーを塗布するに際しては、従来公知の任意の方法を用いてよいが、例えば、いわゆるどぶ漬け方法、刷毛塗り方法、スプレー塗り方法、滴下塗布方法等が挙げられる。
以上のようにしてゼオライトが担持された平板状の基材が得られる。このように平板状のガラスペーパーに対してスラリーを塗布するので、従来のようにハニカム構造体に対してスラリーを塗布するのと異なりスラリー濃度が高い場合に目詰まりが生じるおそれがないので、当初から高濃度のスラリーを塗布に用いることができ、１回の担持操作でゼオライト担持基材を得ることができる。
（基材の成型加工）
上記のようなゼオライト担持基材は、コルゲータを用いて波形に成型することが可能であり、他方で、スラリーを塗布することにより加えられるシリカゾル等の無機バインダがガラスペーパーのバインダの役目を果たすことになり、ガラスペーパーの成型後に波形を保持することが可能になる。したがって、上記のゼオライト担持基材は、ハニカム構造体を作製するのに適した材料である。
上記のようなゼオライト担持基材は、コルゲータを用いて波形に成型することが可能であり、他方で、スラリーを塗布することにより加えられるシリカゾル等の無機バインダがガラスペーパーのバインダの役目を果たすことになり、ガラスペーパーの成型後に波形を保持することが可能になる。したがって、上記のゼオライト担持基材は、ハニカム構造体を作製するのに適した材料である。
上記のゼオライト担持基材を用いてハニカム構造体を作製する場合、上記ゼオライト担持基材に対する加工処理として種々の方法が考えられるが、その一方法として、上記基材をコルゲート加工処理にて波形に成型してこれを波板状基材とし、複数の波板状基材と、成型加工処理を施していない平坦な表面形状を有する複数の平板状基材とを交互に積層するようにしてハニカム構造を形成するようにする方法が挙げられる。
上記のゼオライト担持基材を波板状にする方法としては従来公知の種々の方法が用いられてよいが、例えば、図１（ｃ）に示すように、波形の外周囲を有する歯車状の円盤上に上記のゼオライト担持基材を回転移動させることによりこの円盤が有する外周囲の波形形状に沿った波板を得ることができる。あるいは、所定の形状を有する凹溝を有する金属パネルよりなる金型を使用し、金型状に載置したゼオライト担持基材を、押さえ治具により金型の凹溝に沿って押さえつけて成型することも可能である。
次いで、成型後の波板状基材に対して乾燥処理工程を行う。その際の条件は、特に限定されるものではないが、例えば、空気雰囲気下１１０〜３００℃の温度に１時間〜３時間の期間にわたって置かれる。
上記のようにして得られた平板状基材および波板状基材は、焼成工程に付される。その際の条件は、特に限定されるものではないが、例えば、空気雰囲気下５００〜５５０℃の温度に３時間にわたって置かれる。
上記の乾燥後の平板用の基材を回転移動させる円盤は、ハニカム構造体を作製するに際しては、平板状基材と波板状基材が交互に配置されることになるので、波板用の円盤と並置させておくのが便利である。
上記のように加工された波板状基材と平板状基材とを交互に積層することによりハニカム構造体を得ることができる。このハニカム構造体において、各平板状基材と波板状基材とは互いに接触している状態を保っていればよく、接触面にて接着させておいても、接着させずに、ケーシング等に納めることによりその接触状態を維持するようにさせてもよい。
（ハニカム触媒の作製）
上記のようにして得られたハニカム構造体に触媒活性を有する金属を担持させることによりハニカム触媒を得ることができる。
上記のようにして得られたハニカム構造体に触媒活性を有する金属を担持させることによりハニカム触媒を得ることができる。
ハニカム構造体に含まれるゼオライトに担持される金属種を選択することにより、その金属種が有する触媒性能により各種の触媒を得ることができるが、例えば、脱硝触媒、脱硫触媒、ダイオキシン類分解触媒、アンモニア分解触媒等を挙げることができる。
例えば、脱硝触媒を作製するための金属種としてはナトリウム（Ｎａ）、コバルト（Ｃｏ）などが挙げられる。
上記のような触媒金属種をゼオライト上に担持させるためのイオン交換を行うに際して、上記のハニカム構造体は、図１（ｄ）に示すように、所定の金属種が溶解している溶液中に浸漬させられる。金属種が溶解している溶液は、従来から知られている任意のものでよいが、一般的には水溶液が挙げられる。
イオン交換を行う際の条件は、従来から知られている公知の条件が適用され得るが、例えば、硝酸コバルト３０重量％の水溶液を８０℃に加熱した液にハニカム構造体を一晩浸漬することにより行われる。
次に本発明を具体的に説明するための実施例を実施したので以下に説明する。
以下の（１）〜（９）の工程を順次行うことによって目的とするハニカム触媒を得た。
（１）ＭＦＩ型ゼオライト（ＨＳＺ−８３０ＮＨＡ，東ソー株式会社製）、イオン交換水、シリカゾル（シリカドール（登録商標），日本化学工業株式会社製）を重量比１００：１００：４６で混合しスラリーを得た。
（２）１００×１５０ｍｍに切り出したガラスペーパー（ＳＰＰ−１１０，オリベスト株式会社製）にスラリーを２０ｇ均一に広げ担持させた。
（３）スラリーを担持したガラスペーパーを１１０℃で１時間乾燥したのち５００℃で３時間焼成し、平板状基材を得た。
（４）１００×２３０ｍｍに切り出したガラスペーパー（ＳＰＰ−１１０，オリベスト）にスラリーを３１ｇ均一に広げ担持させた。
（５）凹凸のある金型上にスラリーを担持させたガラスペーパーを設置し、型に沿って波形に成型した。
（６）金型上で成型されたガラスペーパーをそのまま１１０℃で１時間乾燥したのち、型から外して５００℃で３時間焼成し波板状基材を得た。
（７）（２）から（６）の方法で各２０枚ずつの基材を作製したのち、波板状基材と平板状基材を交互に積層しハニカム構造体を得た。
（８）得られたハニカム構造体を８０℃に加熱した３０重量％の硝酸コバルト溶液５Ｌに６時間以上浸漬し、イオン交換した。
（９）イオン交換後、５Ｌのイオン交換水で水洗したのち、１１０℃で１時間乾燥し、ハニカム触媒を得た。
なお、実施例１ではハニカム構造体を硝酸コバルト溶液に浸漬し、イオン交換を行ってハニカム触媒を得たが、他の実施形態として、上記の波板状基材と平板状基材に対し先にイオン交換を行い、波板状触媒と平板状触媒としてから、それらを交互に積層してハニカム触媒を得るようにしてもよい。
Claims (7)
- ガラスペーパーに無機バインダおよびゼオライトが担持されてなる、ハニカム構造体を作製するための基材。
- ガラスペーパーに、ゼオライトと水とシリカゾルとからなるスラリーを塗布する工程を含む、ハニカム構造体を作製するための基材を作製する方法。
- 請求項１に記載の基材を波形に加工して波板状基材を得る工程と、
請求項１に記載の基材を平板に加工して平板状基材を得る工程と、
該波板状基材と該平板状基材と交互に積層してハニカム構造体を得る工程と、
を含む、ハニカム構造体の作製方法。 - 請求項３に記載の方法により作製されるハニカム構造体。
- 請求項３に記載の方法により作製されたハニカム構造体に対して触媒金属種をイオン交換させる工程を含む、ハニカム触媒の作製方法。
- 請求項１に記載の基材を波形に加工して波板状基材を得る工程と、
請求項１に記載の基材を平板に加工して平板状基材を得る工程と、
該波板状基材に対し触媒金属種をイオン交換させて波板状触媒を得る工程と、
該平板状基材に対し触媒金属種をイオン交換させて平板状触媒を得る工程と、
該波板状触媒と該平板状触媒を交互に積層してハニカム触媒を得る工程と
を含む、ハニカム触媒の作製方法。 - 請求項５または６に記載の方法により作製されたハニカム触媒。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012267963A JP2016027998A (ja) | 2012-12-07 | 2012-12-07 | ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 |
| PCT/JP2013/082757 WO2014088083A1 (ja) | 2012-12-07 | 2013-12-06 | ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012267963A JP2016027998A (ja) | 2012-12-07 | 2012-12-07 | ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016027998A true JP2016027998A (ja) | 2016-02-25 |
Family
ID=50883495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012267963A Pending JP2016027998A (ja) | 2012-12-07 | 2012-12-07 | ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2016027998A (ja) |
| WO (1) | WO2014088083A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110639622A (zh) * | 2019-08-22 | 2020-01-03 | 启源（西安）大荣环保科技有限公司 | 一种VOCs脱除催化剂用波纹式载体及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11319486A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Daikin Ind Ltd | 有害ガス分解装置 |
| WO2009141896A1 (ja) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体及び排ガス浄化装置 |
| EP2380663A4 (en) * | 2009-01-22 | 2017-05-10 | Mitsubishi Plastics, Inc. | Catalyst for removing nitrogen oxides and method for producing same |
| WO2013146729A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日立造船株式会社 | 燃焼排ガスの浄化方法、および脱硝触媒 |
-
2012
- 2012-12-07 JP JP2012267963A patent/JP2016027998A/ja active Pending
-
2013
- 2013-12-06 WO PCT/JP2013/082757 patent/WO2014088083A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2014088083A1 (ja) | 2014-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6397064B2 (ja) | ＮＯｘ還元のための新規の金属含有ゼオライトベータ | |
| US10052586B2 (en) | Processing apparatus equipped with catalyst-supporting honeycomb structure, and method for manufacturing same | |
| CN102015098B (zh) | 脱硝催化剂制备用浆液、该浆液的制备方法、使用该浆液的脱硝催化剂的制备方法及通过该方法制备的脱硝催化剂 | |
| JP2022036948A (ja) | アルミノシリケートａｅｉゼオライトの調製 | |
| KR20220012994A (ko) | 촉매 및 촉매 물품의 제조 방법 | |
| WO2015119069A1 (ja) | 燃焼排ガス浄化用触媒、および燃焼排ガスの浄化方法 | |
| JP2008155133A (ja) | 脱硝触媒の製造方法 | |
| JPWO2015147257A1 (ja) | ハニカム構造体、およびこれを用いた排ガス浄化用触媒、並びに排ガス浄化用触媒の製造方法 | |
| CN111013647A (zh) | 一种整体式复合氧化物低温scr催化剂及其制备方法 | |
| CN104148055A (zh) | 一种脱硝催化剂 | |
| CN103769240A (zh) | 一种选择性催化还原脱硝催化剂的制备方法 | |
| JP2022525280A (ja) | 「ｓｆｗ－ＧＭＥ尾部」を有するｃｈａとａｆｔとのモレキュラーシーブ連晶調製及び使用の方法 | |
| JPH02174937A (ja) | 三元触媒系 | |
| JP5909436B2 (ja) | 触媒担持ハニカム構造体を具備する処理装置の製造方法 | |
| CN108136372B (zh) | 整料式蜂窝状氧化催化剂及其制备方法 | |
| JP6912476B2 (ja) | 窒素酸化物の選択的触媒還元のためのモノリシック触媒の調製方法 | |
| JP2013169526A (ja) | 排ガス脱硝装置における触媒担持ハニカム構造体の端部処理方法 | |
| JP2016027998A (ja) | ハニカム構造体を作製するための基材、その作製方法、ハニカム構造体の作製方法およびハニカム触媒の作製方法 | |
| CN112642495A (zh) | 一种实现低so2转化率及高零价汞氧化性能的催化剂再生和改性方法 | |
| CN108404931B (zh) | 复合scr脱硝催化剂及其制备方法 | |
| JP2013180286A (ja) | 排ガス処理用脱硝触媒および排ガス処理方法 | |
| JP2016190226A5 (ja) | ||
| US20180078924A1 (en) | Catalyst treatment device and method for manufacturing same | |
| JP2018038978A (ja) | Ｓｃｒ触媒 | |
| CN113351158A (zh) | 用于VOCs浓缩的沸石分子筛吸附材料和制备方法及应用 |