JP2016021532A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016021532A5
JP2016021532A5 JP2014145382A JP2014145382A JP2016021532A5 JP 2016021532 A5 JP2016021532 A5 JP 2016021532A5 JP 2014145382 A JP2014145382 A JP 2014145382A JP 2014145382 A JP2014145382 A JP 2014145382A JP 2016021532 A5 JP2016021532 A5 JP 2016021532A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imprint
processing
region
substrate
processing unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014145382A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6399839B2 (ja
JP2016021532A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2014145382A external-priority patent/JP6399839B2/ja
Priority to JP2014145382A priority Critical patent/JP6399839B2/ja
Priority to TW104121692A priority patent/TWI603376B/zh
Priority to TW106126269A priority patent/TWI658497B/zh
Priority to US14/796,065 priority patent/US10372033B2/en
Priority to KR1020150099557A priority patent/KR101917912B1/ko
Priority to CN201510412851.1A priority patent/CN105278238B/zh
Publication of JP2016021532A publication Critical patent/JP2016021532A/ja
Publication of JP2016021532A5 publication Critical patent/JP2016021532A5/ja
Publication of JP6399839B2 publication Critical patent/JP6399839B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2014145382A 2014-07-15 2014-07-15 インプリント装置、および物品の製造方法 Active JP6399839B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014145382A JP6399839B2 (ja) 2014-07-15 2014-07-15 インプリント装置、および物品の製造方法
TW104121692A TWI603376B (zh) 2014-07-15 2015-07-03 壓印設備及製造物品的方法
TW106126269A TWI658497B (zh) 2014-07-15 2015-07-03 壓印設備及製造物品的方法
US14/796,065 US10372033B2 (en) 2014-07-15 2015-07-10 Imprint apparatus, and method of manufacturing article
KR1020150099557A KR101917912B1 (ko) 2014-07-15 2015-07-14 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
CN201510412851.1A CN105278238B (zh) 2014-07-15 2015-07-14 压印装置及物品的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014145382A JP6399839B2 (ja) 2014-07-15 2014-07-15 インプリント装置、および物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016021532A JP2016021532A (ja) 2016-02-04
JP2016021532A5 true JP2016021532A5 (cg-RX-API-DMAC10.html) 2017-08-17
JP6399839B2 JP6399839B2 (ja) 2018-10-03

Family

ID=55073848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014145382A Active JP6399839B2 (ja) 2014-07-15 2014-07-15 インプリント装置、および物品の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10372033B2 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP (1) JP6399839B2 (cg-RX-API-DMAC10.html)
KR (1) KR101917912B1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
CN (1) CN105278238B (cg-RX-API-DMAC10.html)
TW (2) TWI658497B (cg-RX-API-DMAC10.html)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6333039B2 (ja) 2013-05-16 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法
JP6315904B2 (ja) * 2013-06-28 2018-04-25 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及びデバイスの製造方法
JP2017139452A (ja) * 2016-02-03 2017-08-10 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6789772B2 (ja) * 2016-02-29 2020-11-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7089375B2 (ja) * 2018-02-19 2022-06-22 キヤノン株式会社 平坦化装置
JP7134717B2 (ja) * 2018-05-31 2022-09-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7508285B2 (ja) * 2020-06-22 2024-07-01 キヤノン株式会社 パターン形成方法、インプリント装置、及び物品の製造方法
JP2022144930A (ja) * 2021-03-19 2022-10-03 キオクシア株式会社 インプリント方法および半導体装置の製造方法
JP2023056322A (ja) * 2021-10-07 2023-04-19 キヤノン株式会社 基板搬送方法、基板搬送装置、及び物品の製造方法
JP2024042329A (ja) * 2022-09-15 2024-03-28 キヤノン株式会社 クリーニング装置、クリーニング方法、インプリント装置、及び物品の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4290174B2 (ja) * 2005-06-06 2009-07-01 キヤノン株式会社 パターンを有する部材の製造方法、パターン転写装置及びモールド
US8999218B2 (en) * 2005-06-06 2015-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing member having pattern, pattern transfer apparatus, and mold
US8011915B2 (en) * 2005-11-04 2011-09-06 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US20070200276A1 (en) * 2006-02-24 2007-08-30 Micron Technology, Inc. Method for rapid printing of near-field and imprint lithographic features
US8187515B2 (en) * 2008-04-01 2012-05-29 Molecular Imprints, Inc. Large area roll-to-roll imprint lithography
JP5279397B2 (ja) * 2008-08-06 2013-09-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、およびデバイス製造方法
JP5268524B2 (ja) * 2008-09-26 2013-08-21 キヤノン株式会社 加工装置
JP2013161816A (ja) * 2012-02-01 2013-08-19 Toshiba Corp パターン形成方法
JP2013222728A (ja) * 2012-04-12 2013-10-28 Canon Inc インプリントシステム
JP2015167152A (ja) * 2012-07-10 2015-09-24 旭硝子株式会社 インプリント方法、及びインプリント装置
JP6200135B2 (ja) * 2012-07-24 2017-09-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および、物品製造方法
JP6312379B2 (ja) * 2013-07-19 2018-04-18 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法
JP2016021544A (ja) * 2014-07-11 2016-02-04 株式会社東芝 インプリント装置およびインプリント方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016021532A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
Garrido et al. Centralized multivariable control by simplified decoupling
JP2016027623A5 (ja) インプリント材の供給パターンの作成方法、インプリント方法及び装置、物品の製造方法、及びプログラム
EP3346334A4 (en) MATERIAL FOR FORMING LITHOGRAPHY OF LAYERED LAYERED FILM, COMPOSITION FOR FORMING LITHOGRAPHY OF A LAYERED LAYERED FILM, LITHOGRAPHY LAYERING FILM AND METHOD OF FORMING A RESISTANCE STRUCTURE
JP2015023146A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2014140058A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
EP3348542A4 (en) COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING AN AMORPHOUS FILMS, MATERIAL FOR FORMING A lithographic LAYER FILMS, COMPOSITION FOR PRODUCING A lithographic LAYER FILMS, METHOD FOR PRODUCING A CONTROL STRUCTURE AND CLEANING PROCESS
WO2017063640A3 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines werkstücks
EP3229075A4 (en) Photoresist composition, method for manufacturing same, and method for forming resist pattern
JP2015109419A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2016110042A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2015111657A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2018182300A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2016092270A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
SG11201705165QA (en) Photomask blank, method for manufacturing photomask, and mask pattern formation method
MX386377B (es) Proceso y dispositivo para producir patrones metálicos en un substrato para fines decorativos y/o funcionales, fabricación de objetos que incorporan dicha producción y conjunto de consumibles utilizados.
JP2016201485A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
EP3543294A4 (en) RESIN COMPOSITION FOR FORMING A REPLICA MOLD, REPLICA MOLD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAID REPLICA MOLD
SG11201707780TA (en) Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method
JP2012238674A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2015153027A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
EP3172247A4 (en) Photocurable composition, method for producing cured product pattern using the same, method for producing optical component, and method for producing circuit board
JP2015228463A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
MX2019005841A (es) Metodo, linea de curado unidad de procesamiento y unidad electronica asociada para controlar aparatos de curado para la produccion de neumaticos.
KR102412748B9 (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법