JP2016004151A - 撮像ユニット用ミラー装置 - Google Patents

Abstract

【課題】画像の調整及び作成に特別の画像処理ユニットを必要とせずかつ機械的ユニットを必要としない撮像ユニット用ミラー装置を提供すること。
【解決手段】撮像ユニット１１の撮影方向に傾斜したミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４及び鏡１２５よりなるミラー装置１２が配置されている。ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４はセル化構造であり、２つの透明基板、矩形状にパターン化された２つの透明電極層、透明シール部、及びエレクトロデポジション剤を含む電解液によって構成され、透明状態及び平面ミラー状態のいずれかになる。制御ユニット１３は電圧ｘ１、ｘ２、ｘ３、ｘ４をミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４の一方の透明電極層に印加し、電圧ｙ１、ｙ２、ｙ３、ｙ４をミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４の他方の透明電極層に印加する。
【選択図】 図１４

Description

本発明は監視カメラ、検査用モニタ等の撮像ユニットに用いられる撮像ユニット用ミラー装置に関する。

近年、金融機関の店舗等の業務用監視カメラ、医療現場での医療用監視カメラ、防犯のための家庭用監視カメラ、及び産業機器、生産設備、医療機器等の検査用モニタ等の撮像ユニットに用いられる撮像ユニット用ミラー装置は著しく発展している。

第１の従来の撮像ユニット用ミラー装置は、監視カメラのレンズ部に一端が取付けられた中空傾斜ボックスと、中空傾斜ボックスの他端に連結支承された中空ミラーボックスと、中空ミラーボックスの解放端側内面上部に取付けられた上下方向揺動可能な第１のミラーと、中空ミラーボックスの連結端側内面に設けられ、第１のミラーの鏡像を監視カメラのレンズ部に反射させる第２のミラーとを備えている。これにより、第１のミラーを上下方向に揺動させかつ中空ミラーボックス自体を周回動させることにより監視対象域を拡大する（参照：特許文献１）。

しかしながら、上述の第１の従来の撮像ユニット用ミラー装置においては、監視対象域は第１のミラーの揺動範囲及び中空ミラーボックスの周回動範囲に限定され、広くない。また、複数の監視対象域を同時に監視できない。さらに、第１のミラーの揺動速度及び中空ミラーボックスの周回動速度は共に比較的小さいので、長時間監視されない監視対象域が発生する。さらにまた、第１のミラーの揺動及び中空ミラーボックスの周回動には、ミラー回動機構部、モータ等の機械的ユニットを必要とし、従って、大型である。

第２の従来の撮像ユニット用ミラー装置は、監視カメラを旋回自在に保持する回転部と、回転部の回転方向を切換えて監視カメラの旋回範囲を規定するためのマイクロスイッチ及び突起と、回転部の回転が所定角度以上回転したときに押圧部によって破損される電源パターン突出部とを備えている。これにより、広い監視対象域を確保すると共に、旋回のオーバランを防止する（参照：特許文献２）。

しかしながら、上述の第２の従来の撮像ユニット用ミラー装置においては、監視対象域は旋回範囲に限定され、広くない。また、複数の監視対象域を同時に監視できない。さらに、監視カメラの旋回速度が比較的小さいので、長時間監視されない監視対象域が発生する。さらにまた、監視カメラの旋回には駆動モータ等の機械的ユニットを必要とし、従って、大型である。

第３の従来の撮像ユニット用ミラー装置は、回転軸に対して傾斜自在で回転する鏡面体を備えており、この鏡面体を一方向に高速に回転する鏡面体による反射光をビデオカメラで撮影し、特別の画像処理ユニットによって鏡面体の回転速度との同期信号を用いて画像のサンプリングをフレーム単位で調整しながら、複数のモニタで監視できる画像を作成する（参照：特許文献３）。

上述の第３の従来の撮像ユニット用ミラー装置によれば、監視対象域は傾斜角度自在の３６０°全周であり、広い。また、複数の監視対象域を同時に監視できる。さらに、鏡面体を高速回転しているので、長時間監視されない監視対象域の発生がなくなる。

特開昭６０−１６９８４０号公報 特開平５−１９１９４６号公報 特開２００８−２６３２５１号公報

しかしながら、上述の第３の従来の撮像ユニット用ミラー装置においては、複数の監視対象域を同時に監視することは可能であるが、画像の調整及び作成に特別の画像処理ユニットを必要とするという課題がある。

また、上述の第３の従来の撮像ユニット用ミラー装置においては、鏡面体の高速回転にはステッピングモータ等の機械的ユニットを必要とするので、大型であるという課題もある。

上述の課題を解決するために、本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置は、撮像ユニット用ミラー装置であって、撮像ユニットの撮影方向に対して傾斜して設けられた少なくとも１つのミラーデバイスを具備し、ミラーデバイスは、互いに対向した第１、第２の透明基板と、各第１、第２の透明基板の内側に設けられた第１、第２の透明電極層と、第１、第２の透明電極層の間に封入されたエレクトロデポジション剤を含む電解液とを具備するものである。

本発明によれば、特別の画像処理装置を必要とすることなく、複数の対象域を同時に撮像することができる。また、各ミラーデバイスは、薄型であり、かつ機械的ユニット等の可動部もないので、小型化できる。

本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第１の例を示し、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は透明電極層パターンの上面図である。 図１のミラーデバイスの作用を説明するための断面図であって、（Ａ）は透明状態、（Ｂ）は平面ミラー状態を示す。 図１のミラーデバイスの特性を示し、（Ａ）は反射率特性を示すグラフ、（Ｂ）は透過率特性を示すグラフである。 図１のミラーデバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。 本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第２の例を示す断面図である。 図５の同心微小平面レンズの拡大図であって、（Ａ）は斜視断面図、（Ｂ）は上面図である。 図５のミラーデバイスの作用を説明するための断面図であって、（Ａ）は透明状態、（Ｂ）は凹面（凸面）ミラー状態、（Ｃ）は平面ミラー状態を示す。 図５のミラーデバイスの変更例を示す断面図である。 図５及び図８のミラーデバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。 本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第３の例を示す断面図である。 図１０の微小プリズムの拡大図であって、（Ａ）は斜視断面図、（Ｂ）は上面図である。 図１０のミラーデバイスの作用を説明するための断面図であって、（Ａ）は透明状態、（Ｂ）は非正反射ミラー状態、（Ｃ）は正反射ミラー状態を示す。 図１０のミラーデバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。 本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置の第１の実施の形態を含む撮像装置を示す断面図である。 図１のミラーデバイスを用いた図１４の撮像ユニット用ミラー装置の動作を説明するための断面図である。 図１５の（Ａ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図１５の（Ｂ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図１５の（Ｃ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図１５の（Ｄ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図１５の（Ｅ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図５のミラーデバイスを用いた図１４の撮像ユニット用ミラー装置の動作を説明するための断面図である。 図２１の（Ａ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図２１の（Ｂ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図２１の（Ｃ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図２１の（Ｄ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図２１の（Ｅ）の動作によって得られる画像を説明するための図である。 図１０のミラーデバイスを用いた図１４の撮像ユニット用ミラー装置の動作を説明するための断面図である。 本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置の第２の実施の形態を含む撮像装置を示し、（Ａ）は全体断面図、（Ｂ）はミラーデバイスの透明電極層パターンの上面図である。 ４分割された図１のミラーデバイスを用いた図２８の撮像ユニット用ミラー装置の動作を説明するための断面図である。 図２９の動作によって得られる画像を説明するための図である。 ４分割された図５のミラーデバイスを示し、（Ａ）は貼り合せ前の一方の透明基板側、（Ｂ）は貼り合せ前の他方の透明基板側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。 図３１のミラーデバイスを用いた図２８の撮像装置の撮像ユニットに得られる画像を説明するための断面図であり、（Ａ）はミラーデバイスの各領域が平面レンズ状態の場合、（Ｂ）はミラーデバイスの各領域が拡大縮小状態の場合を示す。 ４分割された図１０のミラーデバイスを示し、（Ａ）は貼り合せ前の一方の透明基板側、（Ｂ）は貼り合せ前の他方の透明基板側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。 １６分割された図１のミラーデバイスを示し、（Ａ）は貼り合せ前の一方の透明基板側、（Ｂ）は貼り合せ前の他方の透明基板側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。 図２８の（Ｂ）の透明電極層パターンの他の例を示し、（Ａ）は貼り合せ前の一方の透明基板側、（Ｂ）は貼り合せ前の他方の透明基板側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。

図１は本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第１の例を示し、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は透明電極層パターンの上面図である。

図１の（Ａ）においては、ミラーデバイスＭ１はセル化されたエレクトロデポジション方式のデバイスであり、ガラスもしくはポリカーボネートよりなる平行な透明基板１、２と、透明基板１、２の内面に形成されたインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）よりなる透明電極層３、４と、透明シール部５と、透明電極層３、４間に封入され、透明シール部５によってシールされた電解液６とにより構成されている。図１の（Ｂ）に示すように、透明電極層３、４には、電圧ｘｉ、ｙｉが印加される。

図２の（Ａ）に示すごとく、透明電極層３、４間が電圧無印加状態では、透明状態となる。他方、図２の（Ｂ）に示すごとく、透明電極層３、４間に１．５〜８Ｖ程度の直流バイアス電圧Ｖ_ｄを印加すると、負電位側の透明電極層４に還元によりＡｇ層が表面に形成されて平面ミラー状態となる。つまり、ミラーデバイスＭ１は透明状態及び平面ミラー状態の２状態の切替可能なデバイスとなる。この場合、平面ミラー状態は電解液６中に含まれている銀イオンが負電位側の透明電極層４付近で金属の銀に変化して析出（エレクトロデポジション）することによって発生する。透明状態に戻すには、電圧無印加状態にするが、直流逆バイアス電圧たとえば−１Ｖを印加すれば、迅速に透明状態に戻る。

たとえば、図１のミラーデバイスＭ１をＡｇが析出する透明電極層４の反対の透明基板１からハロゲン光源による測定光を入射して分光器で反射光を測定した結果を図３の（Ａ）に示す。他方、図１のミラーデバイスＭ１をＡｇが析出する透明電極層４側の透明基板２よりハロゲン光源による測定光を入射して分光器で透過光を測定した結果を図３の（Ｂ）に示す。図３によれば、電圧無印加状態では、反射率Ｒが低く透過率Ｔが高い透明状態となり、他方、たとえば２．５Ｖの電圧印加状態では、反射率Ｒが高く透過率Ｔが低い平面ミラー状態となる。

図１のミラーデバイスＭ１の製造方法を図４のフローチャートを参照して説明する。

始めに、透明電極層形成工程４０１にて、各透明基板１、２上にＩＴＯよりなる透明電極層３、４をマグネトロンスパッタリング法、化学的気相成長（ＣＶＤ）法あるいは蒸着法により形成する。必要に応じて透明電極層３、４をＳＵＳマスクを用いたエッチング法あるいはフォトリソグラフィ／エッチング法によりパターン化する。

次に、ギャップ制御剤散布工程４０２にて、一方の透明基板上に２０μｍ〜数１００μｍたとえば１００μｍのギャップ制御剤を１〜３個／ｍｍ^２散布する。尚、ギャップ制御剤の代りに、リブ等の突起でもよい。また、小型のセルの場合、後述のシール部にフィルム状のスペーサを設けてもよい。

次に、シールパターン形成工程４０３にて、一方の透明基板上にシールパターンを形成する。シールパターンは、透明かつ光散乱しない紫外線及び熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂もしくは熱硬化型樹脂よりなる。この場合、電解液に耐える樹脂が好ましい。

次に、電解液滴下工程４０４にて、シールパターンが形成された透明基板上に電解液を液晶滴下（ＯＤＦ）法により滴下する。尚、滴下方法は、ディスペンサ、インクジェットを含む各種の印刷法を用いることができる。

電解液としては、溶媒中に５０ｍＭのＡｇＮＯ_３等のＡｇを含むエレクトロデポジション剤を添加し、また、２５０ｍＭのＬｉＢｒ等の支持電解質を添加し、１０ｍＭのＣｕＣｌ_２等のメディエータを添加する。

尚、溶媒は、エレクトロデポジション剤等を安定的に保持することができるものであれば限定されない。たとえば、水や炭酸プロピレン等の極性溶媒、極性のない有機溶媒、あるいはイオン性液体、イオン導電性高分子、高分子電解質等である。具体的には、炭酸プロピレン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸等を用いることができる。

また、支持電解質は、エレクトロデポジション剤のＡｇの酸化還元反応等を促進するものであれば限定されず、たとえば、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＣｌＯ_４等のリチウム塩、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＫＩ等のカリウム塩、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＮａＩ等のナトリウム塩が好ましい。支持電解質の濃度は、たとえば１０ｍＭ以上１Ｍ以下であることが好ましいが、これに限定されるものではない。

さらに、メディエータはＡｇよりも電気化学的に低いエネルギーで酸化還元を行う材料であって、メディエータの酸化体がＡｇから随時電子を授受することによって酸化による消色反応を補助する。メディエータの材料はこのような機能を発揮する材料であれば限定されないが、銅（Ｃｕ）イオンの塩が好ましい。メディエータの濃度はたとえば５ｍＭ以上２０ｍＭ以下であることが好ましいが、これに限定されるものではない。ＣｕイオンとＡｇイオンとの濃度比は０．１〜０．３が好ましいが、これに限定されるものではない。

電解質をゲル化する場合には、ビニルブキラール（ＰＶＢ）等の１０ｗｔ％ホストポリマを添加する。

次に、基板貼合せ工程４０５にて、真空中、大気中もしくは窒素雰囲気で電解液が滴下された一方の透明基板に他方の透明基板を貼合せる。

最後に、シールパターン硬化工程４０６にて、たとえばエネルギー６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射してシールパターンを硬化させて透明シール部５を形成する。この場合、シールパターンのみに紫外線が照射されるように、ＳＵＳ等よりなるマスクを用いる。

図５は本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第２の例を示す断面図である。図５のミラーデバイスＭ２においては、図１のミラーデバイスＭ１の透明基板２上に同心微小平面レンズ７を設けてある。

図６は図５の同心微小平面レンズ７の拡大図であって、（Ａ）は斜視断面図、（Ｂ）は上面図である。図６の（Ａ）に示すように、断面形状は中央に向って片鋸歯状になっており、図６の（Ｂ）に示すように、平面視では、同心円状（もしくは楕円状）になっている。また、同心微小平面レンズ７のプリズム状断面の高さは数１０μｍである。尚、同心微小平面レンズ７は必ずしも同心である必要はない。

図７の（Ａ）に示すごとく、透明電極層３、４間が電圧無印加状態では透明状態となる。他方、図７の（Ｂ）、（Ｃ）に示すごとく、透明電極層３、４間に直流バイアス電圧Ｖ_ｄを印加すると、負電位側の透明電極層に還元によりＡｇ層が表面に形成されてミラー状態となる。図７の（Ｂ）の場合には、負電位側の透明電極層４上にＡｇ層が形成され、下面視で拡大ミラーとしての凹面ミラー状態となり、他方、上面視で縮小ミラーとして凸面ミラー状態となる。また、図７の（Ｃ）の場合には、負電位側の透明電極層３上にＡｇ層が形成され、平面ミラー状態となる。つまり、ミラーデバイスＭ２は、透明状態、凹面ミラー状態（もしくは凸面ミラー状態）及び平面ミラー状態の３状態の切替可能デバイスとなる。

尚、ミラーデバイスＭ２の同心微小平面レンズ７を、図８に示すごとく、断面形状を周辺に向って片鋸歯状にすることもできる。この場合、透明電極層４上のＡｇ層により、下面視で凸面ミラー状態となり、他方、上面視で凹面ミラー状態となる。

図５及び図８のミラーデバイスＭ２の製造方法は図９に示され、図４に示す製造方法における透明電極層形成工程４０１の前に同心微小平面レンズ形成工程９０１が付加される。この同心微小平面レンズ形成工程９０１において、透明基板１に同心微小平面レンズ７を形成する。以下に、これを詳述する。

始めに、透明基板１上に紫外線硬化性樹脂を滴下する。次いで、透明基板１の裏側に厚い石英ガラス板で補強し、同心微小平面レンズ７の反転パターンを有する金型を用いてプレスし、１分間放置する。次いで、石英ガラス板の方から紫外線を５Ｊ／ｃｍ^２で照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させる。次いで、金型及び石英ガラス板を外し、同心微小平面レンズ７が形成された透明基板１を洗浄機で洗浄する。洗浄方法は、アルカリ洗剤を用いたブラシ洗浄、純水洗浄、エアーブロー、ＵＶ照射、ＩＲ乾燥の順に行う。但し、洗浄方法はこれに限らない。高圧スプレー洗浄やプラズマ洗浄などを行ってもよい。そして、透明電極層形成工程４０１に進む。

図１０は本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置に適用されるミラーデバイスの第３の例を示す断面図である。図１０のミラーデバイスＭ３においては、図１のミラーデバイスＭ１の透明基板２上に微小プリズム８を設けてある。

図１１は図１０の微小プリズム８の拡大図であって、（Ａ）は斜視断面図、（Ｂ）は上面図である。図１１の（Ａ）に示すように、断面形状は片鋸歯状になっており、図１１の（Ｂ）に示すように、平面視では、ライン状になっている。また、微小プリズム８のプリズム状断面の高さは数１０μｍである。

図１２の（Ａ）に示すごとく、透明電極層３、４間が電圧無印加状態では透明状態となる。他方、図１２の（Ｂ）、（Ｃ）に示すごとく、透明電極層３、４間に直流バイアス電圧Ｖ_ｄを印加すると、負電位側の透明電極層に還元によりＡｇ層が表面に形成されてミラー状態となる。図１２の（Ｂ）の場合には、負電位側の透明電極層４上にＡｇ層が形成され、光をミラーデバイスＭ３の法線方向に入射した場合、入射方向と出射方向とが異なる非正反射ミラー状態となる。また、図１２の（Ｃ）の場合には、負電位側の透明電極層３上にＡｇ層が形成され、光をミラーデバイスＭ３の法線方向に入射した場合、入射方向と出射方向と同一となる正反射ミラー状態となる。つまり、ミラーデバイスＭ３は、透明状態、非正反射ミラー状態及び正反射ミラー状態の３状態の切替可能デバイスとなる。

図１０のミラーデバイスＭ３の製造方法は図１３に示され、図４に示す製造方法における透明電極層形成工程４０１の前に微小プリズム形成工程１３０１が付加される。この微小プリズム形成工程１３０１において、透明基板１に微小プリズム８を形成する。以下に、これを詳述する。

始めに、透明基板１上に紫外線硬化性樹脂を滴下する。次いで、透明基板１の裏側に厚い石英ガラス板で補強し、微小プリズム８の反転パターンを有する金型を用いてプレスし、１分間放置する。次いで、石英ガラス板の方から紫外線を５Ｊ／ｃｍ^２で照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させる。次いで、金型及び石英ガラス板を外し、微小プリズム８が形成された透明基板１を洗浄機で洗浄する。洗浄方法は、アルカリ洗剤を用いたブラシ洗浄、純水洗浄、エアーブロー、ＵＶ照射、ＩＲ乾燥の順に行う。但し、洗浄方法はこれに限らない。高圧スプレー洗浄やプラズマ洗浄などを行ってもよい。そして、透明電極層形成工程４０１に進む。

図１４は本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置の第１の実施の形態を含む撮像装置を示す断面図である。

図１４の撮像装置においては、電荷蓄積素子（ＣＣＤ）等よりなる撮像ユニット１１の撮影方向にたとえば４５°で傾斜したミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４及び常時平面ミラー状態の鏡１２５よりなるミラー装置１２が配置されている。

ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は図１のミラーデバイスＭ１と同一のセル化構造であり、つまり、透明基板１、２、矩形状にパターン化された透明電極層３、４、透明シール部５、及び電解液６によって構成され、透明状態及び平面ミラー状態の２状態のいずれかになる。他方、鏡１２５は平面ミラーであり、常時オンのミラーデバイスＭ１として作用する。

撮像ユニット１１及びミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は制御ユニット１３によって制御される。制御ユニット１３はたとえばマイクロコンピュータにより構成される。制御ユニット１３は電圧ｘ１、ｘ２、ｘ３、ｘ４をミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４の透明電極層３に印加し、電圧ｙ１、ｙ２、ｙ３、ｙ４をミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４の透明電極層４に印加する。つまり、制御ユニット１３はミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４をスタティック駆動する。

撮像ユニット１１の周辺、ミラー装置１２のミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４及び鏡１２５の開口側の反対側には、光吸収板１４、１５が配置される。光吸収板１４、１５はたとえば設定場所の天井、壁等によって構成される。この場合、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４及び鏡１２５は天井、壁等に対して同一傾斜角度で取り付けられている。また、ミラー装置１２の開口部に透明板１６を配置する。透明板１６には、視野範囲をある程度調整するレンズカットを設けてもよい。但し、透明板１６は存在しなくてもよい。

図１５を参照して図１のミラーデバイスＭ１を用いた図１４の撮像装置の動作を説明する。

始めに、図１５の（Ａ）に示す時刻ｔ１において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝Ｖ_ｄ、ｙ１＝０Ｖ
ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
但し、Ｖ_ｄは正の駆動電圧たとえば１．５〜８．０Ｖ
とし、ミラーデバイス１２１をオンにし、他方、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４のオフを維持する。すなわち、ミラーデバイス１２１においては、透明電極層３、４間に直流バイアス電圧Ｖ_ｄを印加し、透明電極層４上にＡｇ膜が形成されて平面ミラー状態となる。従って、光Ｌ１は平面ミラー状態のミラーデバイス１２１の透明電極層４上のＡｇ膜によって反射されて撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２１は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２を透過するが、平面ミラー状態のミラーデバイス１２１によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図１６に示すように、ミラーデバイス１２１に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図１５の（Ｂ）に示す時刻ｔ２において、制御ユニット１３は、
ｘ２＝Ｖ_ｄ、ｙ２＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２２をオンにし、他方、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４のオフを維持する。すなわち、ミラーデバイス１２２においては、透明電極層４上にＡｇ膜が形成されて平面ミラー状態となる。従って、光Ｌ２は平面ミラー状態のミラーデバイス１２２の透明電極層４上のＡｇ膜によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２２は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３を透過するが、平面ミラー状態のミラーデバイス１２２によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図１７に示すように、ミラーデバイス１２２に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図１５の（Ｃ）に示す時刻ｔ３において、制御ユニット１３は、
ｘ３＝Ｖ_ｄ、ｙ３＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２３をオンにし、他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４のオフを維持する。すなわち、ミラーデバイス１２３においては、透明電極層４上にＡｇ膜が形成されて平面ミラー状態となる。従って、光Ｌ３は平面ミラー状態のミラーデバイス１２３の透明電極層４上のＡｇ膜によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２３は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４は透明状態を維持する。この場合も、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４を透過するが、平面ミラー状態のミラーデバイス１２３によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図１８に示すように、ミラーデバイス１２３に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図１５の（Ｄ）に示す時刻ｔ４において、制御ユニット１３は、
ｘ４＝Ｖ_ｄ、ｙ４＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ３＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ３＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２４をオンにし、他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３のオフを維持する。すなわち、ミラーデバイス１２４においては、透明電極層４上にＡｇ膜が形成されて平面ミラー状態となる。従って、光Ｌ４は平面ミラー状態のミラーデバイス１２４の透明電極層４上のＡｇ膜によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２３、１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２４は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は、平面ミラー状態のミラーデバイス１２４によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図１９に示すように、ミラーデバイス１２４に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

最後に、図１５の（Ｅ）に示す時刻ｔ５において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、すべてのミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４のオフを維持する。従って、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２、１２１を透過し、撮像ユニット１１へ向う。この結果、図２０に示すように、鏡１２５に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

制御ユニット１３は上述の時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５の動作を繰返して実行する。

図１４のミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は図５のミラーデバイスＭ２と同一のセル化構造とすることもでき、つまり、透明基板１、２、矩形状にパターン化された透明電極層３、４、透明シール部５、電解液６及び同心微小平面レンズ７によって構成し、透明状態、凹面ミラー状態（もしくは凸面ミラー状態）及び平面ミラー状態の３状態とすることができる。この場合、１つのミラーデバイスの凹面ミラー（拡大ミラー）状態及び凸面ミラー（縮小ミラー）状態はいずれか一方のみ可能である。たとえば、ミラーデバイス１２１、１２２は、透明状態、凹面ミラー（拡大ミラー）状態及び平面ミラー状態の３状態のいずれかとし、ミラーデバイス１２３、１２４は、透明状態、凸面ミラー（縮小ミラー）状態及び平面ミラー状態の３状態のいずれかとする。

図２１を参照して図５のミラーデバイスＭ２を用いた図１４の撮像装置の動作を説明する。

始めに、図２１の（Ａ）に示す時刻ｔ１において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝０Ｖ、ｙ１＝Ｖ_ｄ
ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２１をオンにし、この場合、平面ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４のオフを維持する。従って、光Ｌ１は平面ミラー状態のミラーデバイス１２１によって反射されて撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２１は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２を透過するが、平面ミラー状態のミラーデバイス１２１によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図２２に示すように、ミラーデバイス１２１に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図２１の（Ｂ）に示す時刻ｔ２において、制御ユニット１３は、
ｘ２＝Ｖ_ｄ、ｙ２＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２２をオンにし、この場合、拡大ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４のオフを維持する。従って、光Ｌ２の像は平面ミラー状態のミラーデバイス１２２によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２２は拡大ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３を透過するが、拡大ミラー状態のミラーデバイス１２２によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図２３に示すように、ミラーデバイス１２２に入射した画像が拡大されて撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図１５の（Ｃ）に示す時刻ｔ３において、制御ユニット１３は、
ｘ３＝０Ｖ、ｙ３＝Ｖ_ｄ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２３をオンにし、この場合、平面ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４のオフを維持する。従って、光Ｌ３は平面ミラー状態のミラーデバイス１２３によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２３は平面ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４は透明状態を維持する。この場合も、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４を透過するが、平面ミラー状態のミラーデバイス１２３によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図２４に示すように、ミラーデバイス１２３に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図２１の（Ｄ）に示す時刻ｔ４において、制御ユニット１３は、
ｘ３＝Ｖ_ｄ、ｙ３＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２４をオンにし、この場合、縮小ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３のオフを維持する。従って、光Ｌ４は縮小ミラー状態のミラーデバイス１２４によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２３、１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２４は縮小ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は、平面ミラー状態のミラーデバイス１２４によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、図２５に示すように、ミラーデバイス１２４に入射した画像が縮小されて撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

最後に、図２１の（Ｅ）に示す時刻ｔ５において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、すべてのミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４のオフを維持する。従って、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２、１２１を透過し、撮像ユニット１１へ向う。この結果、図２６に示すように、鏡１２５に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

制御ユニット１３は上述の時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５の動作を繰返して実行する。

また、ミラーデバイスＭ２では、図７にて説明したように、電圧の印加方法によって、凸面（凹面）ミラー状態と平面ミラー状態とを両方とも形成することもできる。そこで、さらに、時刻ｔ６から時刻ｔ１０までの動作を時刻ｔ１から時刻ｔ５までの動作と異ならせてもよい。たとえば、時刻ｔ６においては、ミラーデバイス１２１を拡大ミラー状態とし、他のミラーデバイス１２２、１２３、１２４をオフに維持する。時刻ｔ７においては、ミラーデバイス１２２を平面ミラー状態とし、他のミラーデバイス１２１、１２３、１２４をオフに維持する。時刻ｔ８においては、ミラーデバイス１２３を縮小ミラー状態とし、他のミラーデバイス１２１、１２２、１２４をオフに維持する。時刻ｔ９においては、ミラーデバイス１２４を平面ミラー状態とし、他のミラーデバイス１２１、１２２、１２３をオフに維持する。時刻ｔ１０においては、すべてのミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４をオフに維持し、鏡１２５による反射された映像を撮影する。従って、この場合、制御ユニット１３は時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５、ｔ６、ｔ７、ｔ８、ｔ９、ｔ１０の動作を繰返して実行する。このように一連の動作において、同一ミラーデバイスでも対向する電極を夫々別のタイミングでミラー化することでより多様な画像を撮像可能となる。

図１４のミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は図１０のミラーデバイスＭ３と同一のセル化構造とすることもでき、つまり、透明基板１、２、矩形状にパターン化された透明電極層３、４、透明シール部５、電解液６及び微小プリズム８によって構成し、透明状態、非正反射ミラー状態及び正反射ミラー状態の３状態のいずれかとする。

図２７を参照して図１０のミラーデバイスＭ３を用いた図１４の撮像装置の動作を説明する。

始めに、図２７の（Ａ）に示す時刻ｔ１において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝Ｖ_ｄ、ｙ１＝０Ｖ
ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２１をオンにし、この場合、非正反射ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４のオフを維持する。従って、ミラーデバイス１２１に対して垂直に入射する光Ｌ１’は非正反射ミラー状態のミラーデバイス１２１によって反射されて撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２１は非正反射ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２を透過するが、非正反射ミラー状態のミラーデバイス１２１によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、ミラーデバイス１２１に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図２７の（Ｂ）に示す時刻ｔ２において、制御ユニット１３は、
ｘ２＝Ｖ_ｄ、ｙ２＝０Ｖ
ｘ１＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２２をオンにし、この場合、非正反射ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４のオフを維持する。従って、ミラーデバイス１２２に対して垂直に入射する光Ｌ２’の像は非正反射ミラー状態のミラーデバイス１２２によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２２は非正反射ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３を透過するが、非正反射ミラー状態のミラーデバイス１２２によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、ミラーデバイス１２２に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図２７の（Ｃ）に示す時刻ｔ３において、制御ユニット１３は、
ｘ３＝０Ｖ、ｙ３＝Ｖ_ｄ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２３をオンにし、この場合、正反射ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４のオフを維持する。従って、光Ｌ３は正反射ミラー状態のミラーデバイス１２３によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２３は正反射ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２４は透明状態を維持する。この場合も、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４を透過するが、正反射ミラー状態のミラーデバイス１２３によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、ミラーデバイス１２３に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

次に、図２７の（Ｄ）に示す時刻ｔ４において、制御ユニット１３は、
ｘ４＝０Ｖ、ｙ４＝Ｖ_ｄ
ｘ１＝ｘ２＝ｘ３＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ３＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、ミラーデバイス１２４をオンにし、この場合、正反射ミラー状態とする。他方、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３のオフを維持する。従って、光Ｌ４は正反射ミラー状態のミラーデバイス１２４によって反射され、透明状態のミラーデバイス１２３、１２２、１２１を通過して撮像ユニット１１へ向う。このように、ミラーデバイス１２４は正反射ミラー状態となるが、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５も平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は、平面ミラー状態のミラーデバイス１２４によって阻止されるので、全体の動作に関係しない。この結果、ミラーデバイス１２４に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

最後に、図２７の（Ｅ）に示す時刻ｔ５において、制御ユニット１３は、
ｘ１＝ｘ２＝ｘ３＝ｘ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
ｙ１＝ｙ２＝ｙ３＝ｙ４＝０Ｖ（フローティングでもよい）
とし、すべてのミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４のオフを維持する。従って、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４は透明状態を維持する。この場合、鏡１２５は平面ミラー状態であり、鏡１２５によって反射された光Ｌ５は透明状態のミラーデバイス１２４、１２３、１２２、１２１を透過し、撮像ユニット１１へ向う。この結果、鏡１２５に入射した画像がそのまま撮像ユニット１１によって撮像されることになる。

制御ユニット１３は上述の時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５の動作を繰返して実行する。

上述の第１の実施の形態によれば、特別の画像処理装置を用いずに、簡単な制御により、複数の対象域を同時に撮像することができる。また、各ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４及び鏡１２５は、薄型であり、かつ可動部もないので、小型化できる。さらに、撮像ユニット１１もミラー装置１２の各ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４、鏡１２５に近くある必要がないので、被監視者から目立たなくなる。特に、撮像ユニット１１を暗所に配置すれば、被監視者から全く見えなくなり、たとえば、万引き防止用監視カメラに適し、また、犯罪抑止効果がある。本発明のミラー装置１２を用いた撮像装置は患者が監視カメラを嫌う医療現場でも適する。

図２８は本発明に係る撮像ユニット用ミラー装置の第２の実施の形態を含む撮像装置を示し、（Ａ）は全体断面図、（Ｂ）はミラーデバイスの透明電極層パターンを示す上面図である。

図２８の（Ａ）においては、ミラー装置１２’のミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’は４ドット画素に分割されている。このため、図２８の（Ｂ）に示すように、各ミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’においては、図１の透明電極層３の代りに、２つのセグメント透明電極層３−１、３−２を設け、また、図１の透明電極層４の代りに、２つのコモン透明電極層４−１、４−２を設ける。

制御ユニット１３はセグメント電圧ｘｉ１、ｘｉ２、コモン電圧ｙｉ１、ｙｉ２（ｉ＝１、２、３、４）をミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’のセグメント透明電極層３−１、３−２、コモン透明電極層４−１、４−２に印加する。

尚、図２８において、ｘｉ１＝ｘｉ２＝ｘｉ、ｙｉ１＝ｙｉ２＝ｙｉとすれば、つまり、各ミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’の画素に同電圧を印加すれば、各ミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’全体はミラー状態もしくは透明状態のいずれかになるので、図２８の撮像装置は１つのセグメント電極、１つのコモン電極となり、図１４の撮像装置と同一となる。

図２９を参照して４分割されたミラーデバイスＭ１を用いた図２８の撮像装置の動作を説明する。

制御ユニット１３は、ミラーデバイス１２１’に対し、
ｘ１１＝Ｖ_ｄ、ｙ１１＝０Ｖ
ｘ１２、ｙ１２はフローティングにし、この結果、ミラーデバイス１２１’の左上方の１／４はオンとなり、残りはオフとなる。従って、ミラーデバイス１２１’の左上方の１／４は平面ミラーとなり、残りの３／４は透明状態となる。従って、図３０に示すように、ミラーデバイス１２１’の左上方の１／４に入射した光Ｌ１はミラーデバイス１２１’によって反射されて撮像ユニット１１へ向う。この結果、ミラーデバイス１２１’に入射した画像が撮像ユニット１１の左上方の１／４に撮像されることになる。

また、制御ユニット１３は、ミラーデバイス１２２’に対し、
ｘ２２＝Ｖ_ｄ、ｙ２１＝０Ｖ
ｘ２１、ｙ２２はフローティングにし、この結果、ミラーデバイス１２２’の右上方の１／４はオンとなり、残りはオフとなる。従って、ミラーデバイス１２２’の右上方の１／４は平面ミラーとなり、残りの３／４は透明状態となる。従って、図３０に示すように、ミラーデバイス１２２’の右上方の１／４に入射した光Ｌ２はミラーデバイス１２２’によって反射され、ミラーデバイス１２１’の透明状態の部分を通過して撮像ユニット１１へ向う。この結果、ミラーデバイス１２２’に入射した画像が撮像ユニット１１の右上方の１／４に撮像されることになる。

さらに、制御ユニット１３は、ミラーデバイス１２３’に対し、
ｘ３１＝Ｖ_ｄ、ｙ３２＝０Ｖ
ｘ３２、ｙ３１はフローティングにし、この結果、ミラーデバイス１２３’の左下方の１／４はオンとなり、残りはオフとなる。従って、ミラーデバイス１２３’の左下方の１／４は平面ミラーとなり、残りの３／４は透明状態となる。従って、図３０に示すように、ミラーデバイス１２３’の左下方の１／４に入射した光Ｌ３はミラーデバイス１２３’によって反射され、ミラーデバイス１２２’、１２１’の透明状態の部分を通過して撮像ユニット１１へ向う。この結果、ミラーデバイス１２３’に入射した画像が撮像ユニット１１の左下方の１／４に撮像されることになる。

さらにまた、制御ユニット１３は、ミラーデバイス１２４’に対し、
ｘ４２＝Ｖ_ｄ、ｙ４２＝０Ｖ
ｘ４１、ｙ４１はフローティングにし、この結果、ミラーデバイス１２４’の右下方の１／４はオンとなり、残りはオフとなる。従って、ミラーデバイス１２４’の右下方の１／４は平面ミラーとなり、残りの３／４は透明状態となる。従って、図３０に示すように、ミラーデバイス１２４’の右下方の１／４に入射した光Ｌ４はミラーデバイス１２４’によって反射され、ミラーデバイス１２３’、１２２’、１２１’の透明状態の部分を通過して撮像ユニット１１へ向う。この結果、ミラーデバイス１２４’に入射した画像が撮像ユニット１１の右下方の１／４に撮像されることになる。

尚、図３０においては、鏡１２５によって反射された光Ｌ５はミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’のオンとなった部分の平面ミラーによって阻止されるので、全体の動作に関係しない。しかし、鏡１２５によって反射された光Ｌ５の一部たとえば左下方の１／４を撮像ユニット１１によって撮像したい場合、該当するミラーデバイスたとえば１２３’において、セグメント電圧ｘ３１、コモン電圧ｙ３２をフローティングし、ミラーデバイス１２３’全体を透明状態にすればよい。

図２８のミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’は図５のミラーデバイスＭ２と同一のセル化構造とすることもでき、つまり、各ミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’は、図３１に示すように、透明基板１、２、矩形状にパターン化された透明電極層３−１、３−２、４−１、４−２、透明シール部５、電解液６（図示省略）及び４つの同心微小平面レンズ７−１、７−２、７−３、７−４によって構成し、透明状態、凹面ミラー状態（もしくは凸面ミラー状態）及び平面ミラー状態の３状態のいずれかとすることができる。尚、図３１において、（Ａ）は貼り合せ前の透明基板１側、（Ｂ）は貼り合せ前の透明基板２側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。この場合、各同心微小平面レンズ７−１、７−２、７−３、７−４の各領域は１つのミラーデバイスの凹面ミラー（拡大ミラー）状態及び凸面ミラー（縮小ミラー）状態はいずれか一方のみ可能である。たとえば、同心微小平面レンズ７−１、７−３は、透明状態、凹面ミラー（拡大ミラー）状態及び平面ミラー状態の３状態とし、同心微小平面レンズ７−１の曲率は小さく、同心微小平面レンズ７−３の曲率は大きい。また、同心微小平面レンズ７−２、７−４は、透明状態、凸面ミラー（縮小ミラー）状態及び平面ミラー状態の３状態とし、同心微小平面レンズ７−２の曲率は大きく、同心微小平面レンズ７−４の曲率は小さい。

図３２の（Ａ）は図３１のミラーデバイスの各領域が平面レンズ状態の場合の撮像ユニット１１の撮像画面を示し、図３２の（Ｂ）は図３１のミラーデバイスの同心微小平面レンズ７−１、７−２、７−３、７−４の各領域が倍率が大きい拡大ミラー状態、縮小率が小さい縮小ミラー状態、倍率が小さい拡大ミラー状態、縮小率が大きい縮小ミラー状態の場合の撮像ユニット１１の撮像画面を示す。このように、１つのミラーデバイスに入射した拡大縮小の４つの画像が撮像ユニット１１に同時に撮像されることになる。

図２８のミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’は図１０のミラーデバイスＭ３と同一のセル化構造とすることもでき、つまり、各ミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’は、図３３に示すように、透明基板１、２、矩形状にパターン化された透明電極層３−１、３−２、４−１、４−２、透明シール部５、電解液６（図示省略）及び４つの微小プリズム８−１、８−２、８−３、８−４によって構成し、透明状態、非正反射ミラー状態及び正反射ミラー状態の３状態のいずれかとすることができる。この場合、各微小プリズム８−１、８−２、８−３、８−４は同一の形状とすることもできるが、図３３に示すごとく、各微小プリズム８−１、８−２、８−３、８−４の片鋸歯状の断面形状の傾きを相異ならせたり、及び／または、各微小プリズム８−１、８−２、８−３、８−４の平面視ライン状の傾きを相異ならせてもよい。

上述の第２の実施の形態においては、ミラー装置１２’のミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’を４（＝２×２）ドット画素に分割しているが、他の分割数にもなし得る。たとえば、図３４に示すごとく、１６（＝４×４）ドット画素に分割することができる。尚、図３４において、（Ａ）は貼り合せ前の透明基板１側、（Ｂ）は貼り合せ前の透明基板２側、（Ｃ）は貼り合せ後を示す。図３４においては、４つのセグメント透明電極層３−１、３−２、３−３、３−４及び４つのコモン透明電極層４−１、４−２、４−３、４−４を設けてある。この場合、図３５に示すごとく、セグメント透明電極層の数を増加させて８つのセグメント透明電極層３−１、３−２、３−３、３−４、３−５、３−６、３−７、３−８としてもよい。また、複数のセグメント透明電極層及び／または複数のコモン透明電極層に同時に電圧を印加してもよい。

上述の第２の実施の形態によれば、上述の第１の実施の形態の効果に加えて、ドット分割されたミラーデバイス１２１’、１２２’、１２３’、１２４’により複数の拡大縮小撮像及び／または複数の非正反射及び正反射撮像が可能となる。

尚、上述の第１、第２の実施の形態においては、ミラーデバイス１２１、１２２、１２３、１２４、１２１’、１２２’、１２３’、１２４’を撮像ユニット１１に対して同一傾斜角度で傾斜させているが、異なる傾斜角度でもよい。また、ミラーデバイスの数は４つとしているが、他の数でもよく、また、特に、１つでもよい。

本発明は、上述の実施の形態の自明の範囲のいかなる変更も適用し得る。

１、２．．． 透明基板
３、４．．． 透明電極層
５．．． 透明シール部
６．．． 電解液
７−１、７−２、７−３、７−４．．． 同心微小平面レンズ
８−１、８−２、８−３、８−４．．． 微小プリズム
１１．．． 撮像ユニット
１２、１２’ ．．． ミラー装置
１３．．． 制御ユニット
１４、１５．．． 光吸収板
１６．．． 透明板
１２１、１２２、１２３、１２４、１２１’、１２２’、１２３’、１２４’．．． ミラーデバイス
１２５．．． 鏡
Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３．．． ミラーデバイス

Claims (9)

1. 撮像ユニット用ミラー装置であって、
   前記撮像ユニットの撮影方向に対して傾斜して設けられた少なくとも１つのミラーデバイスを具備し、
   前記ミラーデバイスは、
   互いに対向した第１、第２の透明基板と、
   前記各第１、第２の透明基板の内側に設けられた第１、第２の透明電極層と、
   前記第１、第２の透明電極層の間に封入されたエレクトロデポジション剤を含む電解液と
   を具備する撮像ユニット用ミラー装置。
2. 前記第１の透明電極層は複数のセグメント透明電極層よりなり、前記第２の透明電極層は複数のコモン透明電極層よりなり、前記ミラーデバイスは前記セグメント透明電極層及び前記コモン透明電極層によって複数のドットに分割された請求項１に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
3. 前記ミラーデバイスは、さらに、
   前記第２の透明基板と前記第２の透明電極層との間に微小平面レンズを具備する請求項１に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
4. 前記ミラーデバイスは、さらに、
   前記第２の透明基板と前記第２の透明電極層との間に微小プリズムを具備する請求項１に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
5. 前記ミラーデバイスは、さらに、
   前記第２の透明基板と前記第２の透明電極層との間に前記ドット毎に設けられた微小平面レンズを具備する請求項２に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
6. 前記ミラーデバイスは、さらに、
   前記第２の透明基板と前記第２の透明電極層との間に前記ドット毎に設けられた微小プリズムを具備する請求項２に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
7. さらに、
   前記ミラーデバイスの前記撮像ユニットと反対側に設けられた平面ミラーとして作用する鏡を具備する請求項１に記載の撮像ユニット用ミラー装置。
8. 請求項１に記載の前記撮像ユニット用ミラー装置と、
   前記ミラーデバイスの前記第１、第２の透明電極層間に直流バイアス電圧を印加してスタティック駆動すると共に、前記撮像ユニットを制御する制御ユニットと
   を具備する撮像装置。
9. 請求項２に記載の前記撮像ユニット用ミラー装置と、
   前記ミラーデバイスの前記セグメント透明電極層の少なくとも１つにセグメント電圧を印加しかつ前記コモン透明電極層の少なくとも１つにコモン電圧を印加してスタティック駆動すると共に、前記撮像ユニットを制御する制御ユニットと
   を具備する撮像装置。