JP2015527608A - 能動及び受動構造を備えたフォトニック回路を製造する方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 55
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 53
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 49
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 48
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 18
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 15
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 15
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 99
- 230000008569 process Effects 0.000 description 44
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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- H—ELECTRICITY
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- Optics & Photonics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
Description
第1のウエハー上に第1のレイヤスタックを製造し、第1のレイヤスタックは、下部クラッド酸化物層と、1.8より高い屈折率を有する高屈折率導波路層とを有し、
高屈折率導波路層をパターニングし、それにより、受動フォトニック構造を含んだ、パターニングされた高屈折率導波路層を生成し、
第1のウエハー上の第1のレイヤスタックを、高屈折率導波路層の上で300ナノメートル未満の厚さを有する平坦化酸化物層で平坦化し、
平坦化酸化物層の前及び/又は後に、パターニングされた高屈折率導波路層をアニールし、それにより、アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層(103”)及び平坦化酸化物層(104)を生成し、
第2のウエハー上に第2のレイヤスタックを製造し、第2のレイヤスタックは、剥離可能な単結晶シリコン導波路層を有し、
第2のレイヤスタックを有する第2のウエハーを、第1のレイヤスタックを有する第1のウエハーの上に移動し、且つ第1のレイヤスタックと第2のレイヤスタックとを接合し、
第2のウエハーの基板を除去し、
単結晶シリコン導波路層内に能動フォトニックデバイスを製造し、それにより、能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層を生成し、且つ
能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層と、アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層との間に、エバネセント結合を実現する
ことを有する。
第1のウエハー上に第1のレイヤスタックを製造し、第1のレイヤスタックは、下部クラッド酸化物層と、1.8より高い屈折率を有する高屈折率導波路層とを有し、
高屈折率導波路層をパターニングし、それにより、受動フォトニック構造を含んだ、パターニングされた高屈折率導波路層を生成し、
第1のウエハー上の第1のレイヤスタックを、高屈折率導波路層の上で300ナノメートル未満の厚さを有する平坦化酸化物層で平坦化し、
平坦化酸化物層の前及び/又は後に、パターニングされた高屈折率導波路層をアニールし、それにより、アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層を生成し、
第2のウエハー上に第2のレイヤスタックを製造し、第2のレイヤスタックは、剥離可能な単結晶シリコン導波路層を有し、
第2のレイヤスタックを有する第2のウエハーを、第1のレイヤスタックを有する第1のウエハーの上に移動し、且つ第1のレイヤスタックと第2のレイヤスタックとを接合し、
第2のウエハーの基板を除去し、
単結晶シリコン導波路層内に能動フォトニックデバイスを製造し、それにより、能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層を生成し、且つ
能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層と、アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層との間に、エバネセント結合を実現する
ことを有する。
Claims (9)
- 第1のウエハー(101)上に第1のレイヤスタックを製造し、前記第1のレイヤスタックは、下部クラッド酸化物層(102)と、1.8より高い屈折率を有する高屈折率導波路層(103)とを有し、
前記高屈折率導波路層(103)をパターニングし、それにより、受動フォトニック構造を含んだ、パターニングされた高屈折率導波路層(103’)を生成し、
前記第1のウエハー上の前記第1のレイヤスタックを、前記高屈折率導波路層(103)の上で300ナノメートル未満の厚さを有する平坦化酸化物層(104)で平坦化し、
前記平坦化酸化物層の前及び/又は後に、前記パターニングされた高屈折率導波路層(103’)をアニールし、それにより、アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層(103”)及び平坦化酸化物層(104)を生成し、
第2のウエハー(201)上に第2のレイヤスタックを製造し、前記第2のレイヤスタックは、剥離可能な単結晶シリコン導波路層(203)を有し、
第2のレイヤスタック(202、203)を有する前記第2のウエハーを、第1のレイヤスタック(102、103”、104)を有する前記第1のウエハー(101)の上に移動し、且つ前記第1のレイヤスタックと前記第2のレイヤスタックとを接合し、
前記第2のウエハーの基板(201)を除去し、
前記単結晶シリコン導波路層(203)内に能動フォトニックデバイスを製造し、それにより、能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層(203’)を生成し、且つ
前記能動フォトニックデバイスを有する単結晶シリコン導波路層(203’)と、前記アニールされたパターニングされた高屈折率導波路層(103”)との間に、エバネセント結合を実現する
ことを有する、フォトニック回路(400)を製造する方法。 - 前記高屈折率導波路層(103)は1.8と2.5との間の屈折率を有する、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記高屈折率導波路層(103)は、窒化シリコン、酸窒化シリコン、炭化シリコン、五酸化タンタル、又は二酸化テルルからなる、請求項2に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記高屈折率導波路層(103)は、低圧化学気相成長すなわちLPCVDにより製造された窒化シリコン層である、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記第2のウエハーはIV族材料からなる、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記単結晶シリコン導波路層(203)は、SOITEC SMARTCUT技術を用いて製造され、あるいは、前記単結晶シリコン導波路層(203)は、前記第2のウエハー内の注入誘起損傷層の上に製造される、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記第1のウエハー上の前記第1のレイヤスタックは、前記高屈折率導波路層の直上で200ナノメートル未満の厚さを有する平坦化酸化物層(104)で平坦化される、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 前記下部クラッド酸化物層(102)は、1.5未満の屈折率の材料を1.5ミクロン以上の厚さで有する二酸化シリコン層の熱成長又は堆積によって製造される、請求項1に記載のフォトニック回路(400)を製造する方法。
- 請求項1乃至8の何れかに記載の方法によって製造されたフォトニック回路(400)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP12176431.0 | 2012-07-13 | ||
EP12176431.0A EP2685297B1 (en) | 2012-07-13 | 2012-07-13 | A process for manufacturing a photonic circuit with active and passive structures |
PCT/EP2013/055158 WO2014009029A1 (en) | 2012-07-13 | 2013-03-13 | A process for manufacturing a photonic circuit with active and passive structures |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015527608A true JP2015527608A (ja) | 2015-09-17 |
JP6154465B2 JP6154465B2 (ja) | 2017-06-28 |
Family
ID=47884328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015520854A Active JP6154465B2 (ja) | 2012-07-13 | 2013-03-13 | 能動及び受動構造を備えたフォトニック回路を製造する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9799791B2 (ja) |
EP (1) | EP2685297B1 (ja) |
JP (1) | JP6154465B2 (ja) |
CN (1) | CN104335088B (ja) |
WO (1) | WO2014009029A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190028532A (ko) * | 2016-08-04 | 2019-03-18 | 소이텍 | 반도체 구조물 제조 방법 |
WO2023243018A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 日本電信電話株式会社 | シリコンフォトニクス回路及びシリコンフォトニクス回路の製造方法 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10366883B2 (en) | 2014-07-30 | 2019-07-30 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Hybrid multilayer device |
EP3015887A1 (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-04 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Polarization splitter and rotator device |
EP3035092B1 (en) * | 2014-12-16 | 2020-05-20 | IMEC vzw | Integrated semiconductor optical coupler. |
US20160337727A1 (en) * | 2015-05-12 | 2016-11-17 | Huawei Technologies Co., Ltd. | System and Method for Photonic Structure and Switch |
WO2017039674A1 (en) | 2015-09-03 | 2017-03-09 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Defect free heterogeneous substrates |
EP3153899A1 (en) | 2015-10-09 | 2017-04-12 | Caliopa NV | Optical coupling scheme |
US10586847B2 (en) | 2016-01-15 | 2020-03-10 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Multilayer device |
US9933570B2 (en) * | 2016-03-01 | 2018-04-03 | Futurewei Technologies, Inc. | Integration of V-grooves on silicon-on-insulator (SOI) platform for direct fiber coupling |
US11088244B2 (en) | 2016-03-30 | 2021-08-10 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Devices having substrates with selective airgap regions |
US10079471B2 (en) * | 2016-07-08 | 2018-09-18 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Bonding interface layer |
EP3385762A1 (en) * | 2017-04-03 | 2018-10-10 | Indigo Diabetes N.V. | Optical assembly with hermetically sealed cover cap |
US10775559B2 (en) * | 2018-01-26 | 2020-09-15 | Analog Photonics LLC | Photonics fabrication process performance improvement |
US10381801B1 (en) | 2018-04-26 | 2019-08-13 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Device including structure over airgap |
US10746923B2 (en) * | 2018-06-27 | 2020-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photonic semiconductor device and method |
US10468849B1 (en) * | 2018-11-30 | 2019-11-05 | Mcmaster University | Hybrid optical waveguides of tellurium-oxide-coated silicon nitride and methods of fabrication thereof |
CN109686658B (zh) * | 2018-12-13 | 2021-03-09 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体器件与其制作方法 |
GB2580092B (en) * | 2018-12-21 | 2022-11-16 | Univ Southampton | Photonic chip and method of manufacture |
FR3098983A1 (fr) | 2019-07-19 | 2021-01-22 | Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas | Guide d'onde d'une structure SOI |
CN111229338B (zh) * | 2020-01-17 | 2021-11-30 | 上海新微技术研发中心有限公司 | 基于cmos图像传感的光波导微流体芯片的制造方法 |
US11256114B2 (en) | 2020-02-11 | 2022-02-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | Semiconductor device and method of making |
US11525957B2 (en) * | 2020-03-31 | 2022-12-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Fabrication process control in optical devices |
FR3115412B1 (fr) * | 2020-10-16 | 2023-01-06 | Scintil Photonics | Dispositif photonique avec dissipation thermique amelioree pour laser heterogene iii-v/si et procede de fabrication associe |
CN112635492B (zh) * | 2020-12-02 | 2023-04-07 | 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 | 一种应变GeSiOI衬底及其制作方法 |
CN116615331A (zh) * | 2020-12-18 | 2023-08-18 | 3M创新有限公司 | 结构化膜和包括结构化膜的光学制品 |
CN112510059B (zh) * | 2021-02-01 | 2021-10-01 | 北京与光科技有限公司 | 光谱芯片的制备方法和光谱芯片 |
US20240153985A1 (en) * | 2021-02-01 | 2024-05-09 | Beijing Seetrum Technology Co., Ltd. | Manufacturing method for optical device, and optical device |
US20230044331A1 (en) * | 2021-08-09 | 2023-02-09 | Intel Corporation | Multi-layered hybrid integrated circuit assembly |
FR3127049A1 (fr) * | 2021-09-14 | 2023-03-17 | Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives | procede de fabrication d’un systeme optoélectronique en photonique sur silicium comportant un dispositif optique couplé à un circuit photonique integré |
US20230129131A1 (en) * | 2021-10-25 | 2023-04-27 | Soitec | Method for manufacturing a semiconductor structure |
FR3131014A1 (fr) * | 2021-12-17 | 2023-06-23 | Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives | Procédé de fabrication d’une puce photonique |
CN114400236B (zh) * | 2022-01-16 | 2024-04-26 | Nano科技(北京)有限公司 | 集成硅光调制器和锗硅探测器的硅光集成芯片及制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522465A (ja) * | 2003-03-31 | 2006-09-28 | シオプティカル インコーポレーテッド | 薄膜シリコン・オン・インシュレータ(soi)プラットフォーム上に集積した多結晶ゲルマニウム・ベースの導波路検出器 |
JP2007052328A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Ricoh Co Ltd | 複合光導波路 |
JP2009503614A (ja) * | 2005-08-01 | 2009-01-29 | マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー | 選択成長によるGeもしくはSiGe/Si導波路またはフォトニック結晶構造の製造方法 |
US20110073989A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Haisheng Rong | Optical modulator utilizing wafer bonding technology |
WO2012008272A1 (ja) * | 2010-07-16 | 2012-01-19 | 日本電気株式会社 | 受光素子及びそれを備えた光通信デバイス、並びに受光素子の製造方法及び光通信デバイスの製造方法 |
JP2012104839A (ja) * | 1999-08-20 | 2012-05-31 | Soitec | マイクロエレクトロニクス用基板の処理方法及び該方法により得られた基板 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9710062D0 (en) * | 1997-05-16 | 1997-07-09 | British Tech Group | Optical devices and methods of fabrication thereof |
FR2792734A1 (fr) | 1999-04-23 | 2000-10-27 | Centre Nat Rech Scient | Circuit photonique integre comprenant un composant optique resonant et procedes de fabrication de ce circuit |
KR100762387B1 (ko) * | 1999-07-16 | 2007-10-02 | 하이마이트 에이/에스 | Si-기판 상의 능동 및 수동 광학 소자들의 하이브리드 집적 |
US7087179B2 (en) * | 2000-12-11 | 2006-08-08 | Applied Materials, Inc. | Optical integrated circuits (ICs) |
US20020181822A1 (en) * | 2001-05-10 | 2002-12-05 | Agere Systems Inc. | Reduced power consumption thermo-optic devices |
JP2003095798A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-03 | Hoya Corp | 単結晶基板の製造方法 |
US7203387B2 (en) * | 2003-09-10 | 2007-04-10 | Agency For Science, Technology And Research | VLSI-photonic heterogeneous integration by wafer bonding |
FR2871291B1 (fr) | 2004-06-02 | 2006-12-08 | Tracit Technologies | Procede de transfert de plaques |
US8106379B2 (en) * | 2006-04-26 | 2012-01-31 | The Regents Of The University Of California | Hybrid silicon evanescent photodetectors |
US7515793B2 (en) * | 2006-02-15 | 2009-04-07 | International Business Machines Corporation | Waveguide photodetector |
FR2912552B1 (fr) * | 2007-02-14 | 2009-05-22 | Soitec Silicon On Insulator | Structure multicouche et son procede de fabrication. |
US8111729B2 (en) * | 2008-03-25 | 2012-02-07 | Intel Corporation | Multi-wavelength hybrid silicon laser array |
EP2214042B1 (en) * | 2009-02-02 | 2015-03-11 | Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives | Method of producing a photonic device and corresponding photonic device |
DE102009013112A1 (de) | 2009-03-13 | 2010-09-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von mikrooptoelektronischen Bauelementen und mikrooptoelektronisches Bauelement |
-
2012
- 2012-07-13 EP EP12176431.0A patent/EP2685297B1/en active Active
-
2013
- 2013-03-13 JP JP2015520854A patent/JP6154465B2/ja active Active
- 2013-03-13 WO PCT/EP2013/055158 patent/WO2014009029A1/en active Application Filing
- 2013-03-13 CN CN201380029344.9A patent/CN104335088B/zh active Active
-
2015
- 2015-01-13 US US14/595,663 patent/US9799791B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012104839A (ja) * | 1999-08-20 | 2012-05-31 | Soitec | マイクロエレクトロニクス用基板の処理方法及び該方法により得られた基板 |
JP2006522465A (ja) * | 2003-03-31 | 2006-09-28 | シオプティカル インコーポレーテッド | 薄膜シリコン・オン・インシュレータ(soi)プラットフォーム上に集積した多結晶ゲルマニウム・ベースの導波路検出器 |
JP2009503614A (ja) * | 2005-08-01 | 2009-01-29 | マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー | 選択成長によるGeもしくはSiGe/Si導波路またはフォトニック結晶構造の製造方法 |
JP2007052328A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Ricoh Co Ltd | 複合光導波路 |
US20110073989A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Haisheng Rong | Optical modulator utilizing wafer bonding technology |
WO2012008272A1 (ja) * | 2010-07-16 | 2012-01-19 | 日本電気株式会社 | 受光素子及びそれを備えた光通信デバイス、並びに受光素子の製造方法及び光通信デバイスの製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.F. BAUTERS ET AL.: "Planar waveguides with less than 0.1 dB/m propagation loss fabricated with wafer bonding", OPTICS EXPRESS, vol. 19, no. 24, JPN6015052025, 21 November 2011 (2011-11-21), US, pages 24090 - 24101, XP055721817, ISSN: 0003223746, DOI: 10.1364/OE.19.024090 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190028532A (ko) * | 2016-08-04 | 2019-03-18 | 소이텍 | 반도체 구조물 제조 방법 |
JP2019528566A (ja) * | 2016-08-04 | 2019-10-10 | ソイテックSoitec | 半導体構造を製作する方法 |
KR102152705B1 (ko) * | 2016-08-04 | 2020-09-07 | 소이텍 | 반도체 구조물 제조 방법 |
US11156778B2 (en) | 2016-08-04 | 2021-10-26 | Soitec | Method for manufacturing a semiconductor structure |
WO2023243018A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 日本電信電話株式会社 | シリコンフォトニクス回路及びシリコンフォトニクス回路の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104335088B (zh) | 2017-11-17 |
CN104335088A (zh) | 2015-02-04 |
US20150140720A1 (en) | 2015-05-21 |
US9799791B2 (en) | 2017-10-24 |
WO2014009029A1 (en) | 2014-01-16 |
JP6154465B2 (ja) | 2017-06-28 |
EP2685297A1 (en) | 2014-01-15 |
EP2685297B1 (en) | 2017-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151224 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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