JP2015523306A5 - - Google Patents
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- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 102000003712 Complement Factor B Human genes 0.000 claims 2
- 108090000056 Complement Factor B Proteins 0.000 claims 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 claims 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 2
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N Hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
Claims (10)
- ガラスウエットエッチングプロセスにおいてスラッジの量を制御する方法であって、ＨＦエッチャント溶液内の水素イオン濃度をエッチャント槽への第２の強酸の添加によって制御しながらガラスをエッチングする工程を含む方法において、
前記エッチャント槽内の沈殿量が下の式：
沈殿 (ｇ/Ｌ)＝因子Ａ−(Ｋｓｐ/(因子Ｂ/因子Ｃ))＋因子Ｄ
にしたがって選ばれるレベルに制御され、ここで、
因子Ａは、前記溶解ガラスのレベルであり、
因子Ｂは、前記ＨＦの濃度であり、
因子Ｃは、前記第２の酸の濃度−前記第２の酸は強酸であり、
因子Ｄは、温度またはイオン強度の少なくとも１つを変えることで制御される前記沈殿の溶解度定数，Ｋｓｐである、
ことを特徴とする方法。 - 前記第２の強酸が、ＨＣｌ、ＨＣｌＯ ４ ，ＨＮＯ ３ 及びＨ ２ ＳＯ ４ からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記第２の強酸がＨＣｌ及びＨ２ＳＯ４からなる群からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- エッチングされる前記ガラスが、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス及びアルミノホウケイ酸ガラスからなる群から選ばれる、酸化物ガラスであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
- エッチングされる前記ガラスが、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、ジルコニウム、鉄及びチタンからなる群から選ばれる少なくとも１つの金属を含む、酸化物ガラスであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
- 前記エッチングプロセスが１５℃から４０℃の範囲にある温度で実施されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
- 前記エッチングプロセスが２０℃から３５℃の範囲にある温度で実施されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
- 前記エッチャント槽内の遊離プロトン濃度が、１.０Ｍから４Ｍの範囲にあるＨＦ濃度に対して０.５Ｍから５.０Ｍの範囲に維持されることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
- 前記エッチャント槽が、酸であるＨＦ及びＨＣｌを含み、前記エッチャント槽内の遊離プロトン濃度が、１.０Ｍから３．５Ｍの範囲にあるＨＦ濃度に対して０.５Ｍから６.０Ｍの範囲に維持されることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
- 前記エッチャント槽が、酸であるＨＦ及びＨ ２ ＳＯ ４ を含み、前記エッチャント槽内の遊離プロトン濃度が、１.０Ｍから４Ｍの範囲にあるＨＦ濃度に対して０.５Ｍから５.０Ｍの範囲に維持されることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201261653705P | 2012-05-31 | 2012-05-31 | |
| US61/653,705 | 2012-05-31 | ||
| PCT/US2013/042810 WO2013181123A1 (en) | 2012-05-31 | 2013-05-28 | Method for sludge control in wet acid etching |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015523306A JP2015523306A (ja) | 2015-08-13 |
| JP2015523306A5 true JP2015523306A5 (ja) | 2016-07-14 |
Family
ID=48614160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015515104A Pending JP2015523306A (ja) | 2012-05-31 | 2013-05-28 | ウエット酸エッチングにおけるスラッジ制御のための方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9290410B2 (ja) |
| EP (1) | EP2855385A1 (ja) |
| JP (1) | JP2015523306A (ja) |
| KR (1) | KR101971316B1 (ja) |
| CN (1) | CN104684859B (ja) |
| TW (1) | TWI555712B (ja) |
| WO (1) | WO2013181123A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013181213A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Corning Incorporated | Systems and methods for acid-treating glass articles |
| KR20170036715A (ko) | 2014-07-30 | 2017-04-03 | 코닝 인코포레이티드 | 일정한 유리 기판의 에칭을 위한 초음파 탱크 및 방법 |
| WO2021030122A1 (en) * | 2019-08-13 | 2021-02-18 | Corning Incorporated | Textured glass articles and methods of making the same |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3917320A1 (de) | 1989-05-27 | 1990-12-20 | Bayer Ag | Harnstoffgruppen enthaltende (meth)-acrylsaeure-derivate von triisocyanaten und ihre verwendung |
| JPH07215736A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-15 | Hoya Corp | ガラス体表面の化学的研磨法 |
| JP3523239B2 (ja) * | 2001-04-12 | 2004-04-26 | 西山ステンレスケミカル株式会社 | ガラス基板の化学加工方法及びガラス基板 |
| JP4370737B2 (ja) | 2001-06-27 | 2009-11-25 | 三菱化学エンジニアリング株式会社 | フッ酸の供給方法 |
| JP5132859B2 (ja) * | 2001-08-24 | 2013-01-30 | ステラケミファ株式会社 | 多成分を有するガラス基板用の微細加工表面処理液 |
| JP5197902B2 (ja) | 2001-08-31 | 2013-05-15 | ステラケミファ株式会社 | 多成分を有するガラス基板用の微細加工表面処理液 |
| JP2006326444A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Sony Corp | エッチングシステム |
| CN1990402A (zh) * | 2005-12-28 | 2007-07-04 | 庄大建 | 防飓风玻璃生产工艺 |
| KR20080022917A (ko) * | 2006-09-08 | 2008-03-12 | 삼성전자주식회사 | 식각액 공급장치, 식각장치 및 식각방법 |
| CN101295673B (zh) * | 2007-04-27 | 2010-11-03 | 南亚科技股份有限公司 | 一种形成位线接触插塞的方法与晶体管结构 |
| KR20100087168A (ko) * | 2007-11-19 | 2010-08-03 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 기판의 에칭 처리 방법 |
| KR100943321B1 (ko) | 2008-03-03 | 2010-02-19 | (주)세미로드 | 유리 식각 장치와 유리 기판의 슬러지 제거 방법 |
| KR101430290B1 (ko) | 2008-06-25 | 2014-08-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 기판의 에칭 방법 및 표시 장치 |
| KR101093362B1 (ko) | 2009-09-23 | 2011-12-14 | 호서대학교 산학협력단 | 유리 식각액 |
| KR20110056095A (ko) | 2009-11-20 | 2011-05-26 | 타코마테크놀러지 주식회사 | 식각액 조성물 |
| JP5573219B2 (ja) * | 2010-02-18 | 2014-08-20 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタ、ならびに電子機器およびその製造方法 |
| DE112011105478T5 (de) | 2011-07-29 | 2014-04-24 | Harmonic Drive Systems Inc. | Innen verzahnte Getriebeeinheit mit zusammengesetztem Wälzlager und Wellgetriebe |
| US9926225B2 (en) | 2011-12-30 | 2018-03-27 | Corning Incorporated | Media and methods for etching glass |
-
2013
- 2013-05-28 WO PCT/US2013/042810 patent/WO2013181123A1/en active Application Filing
- 2013-05-28 KR KR1020147036499A patent/KR101971316B1/ko active IP Right Grant
- 2013-05-28 EP EP13728610.0A patent/EP2855385A1/en not_active Withdrawn
- 2013-05-28 CN CN201380028674.6A patent/CN104684859B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-05-28 JP JP2015515104A patent/JP2015523306A/ja active Pending
- 2013-05-28 US US14/403,680 patent/US9290410B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-05-31 TW TW102119382A patent/TWI555712B/zh not_active IP Right Cessation
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