JP2015522661A5

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Publication number: JP2015522661A5
Application number: JP2015501698A
Authority: JP
Filing date: 2013-03-06
Publication date: 2017-06-01
Anticipated expiration: 2033-03-06

Description

シリコーンポリマー
本発明は、シリコーン含有ポリマーを提供する。一つの実施態様において、該ポリマーは、一般構造：

（式中、ｍは、２〜約１００の範囲の正の整数であり、そしてｎは、０〜約１００の正の整数である）を有する直鎖オルガノシロキサンポリマーであってよい。二価のビルディングブロックＡは、一般式：

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、およびＲ_３は、水素、Ｏ、Ｎ、Ｐ、およびハロゲン等のヘテロ原子を任意に含む、１〜５０の炭素原子を有する一価のラジカルより、独立して選択されてよい）を有する。Ｅは、一般構造Ｆ−Ｌ−Ｇ（式中、Ｆは、アルキル、エステル、エーテル、アミン、アミド、カーボネート、カルバメート等より選択される、二価の連結基であり；Ｌは、一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜１００の炭素原子を有する、置換、非置換、直鎖、分枝状、環状脂肪族炭化水素、または芳香族炭化水素より選択される二価の部分であり、そして一つの実施態様において、アルコール、エーテル、エステル、アミド、アミン、尿素、ウレタン、シアノ、炭酸塩、カルバミン酸塩、チオ、またはそれらの二つまたはそれを超える組み合わせの官能基を含む；そしてＧは、一般構造Ｍ^１ _ａＭ^２ _ｂＤ^１ _ｃＤ^２ _ｄＴ^１ _ｅＴ^２ _ｆＱ_ｇを有するシロキサン単位である）を有する一価の基である。Ｇは、直鎖または分枝状であってよく、ここで、Ｍ^１＝Ｒ_５Ｒ_６Ｒ_７ＳｉＺ_１／２、Ｍ^２＝Ｒ_８Ｒ_９Ｒ_１０ＳｉＺ_１／２、Ｄ^１＝Ｒ_１１Ｒ_１２ＳｉＺ_２／２、Ｄ^２＝Ｒ_１３Ｒ_１４ＳｉＺ_２／２、Ｔ^１＝Ｒ_１５ＳｉＺ_３／２、Ｔ^２＝Ｒ_１６ＳｉＺ_３／２、Ｑ＝ＳｉＺ_４／２；Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４およびＲ_１５は、１〜約５０の炭素原子を有し、そしてヘテロ原子を任意に含む、一価の炭化水素ラジカルより、独立して選択され；Ｒ_８、Ｒ_１３およびＲ_１６は、一般式：

（式中、Ｒ_１８、Ｒ_１９、およびＲ_２０は、水素、およびヘテロ原子を任意に含む、１〜１０の炭素原子を有する炭化水素ラジカルより、独立して選択され、Ｒ_１７は、１〜５の炭素原子を有する炭化水素ラジカルであり、そして整数ｑは、０〜１０であってよく；そしてＲ_１７は、１〜５の炭素原子を有する炭化水素ラジカル、または水素原子であり、ｑ＝０およびＬが環状残基である場合、Ｒ_１７は水素である）を有する、非異性化ヒドロシリル化に有効な末端オレフィンの二価の残基より、独立して選択される。下付き文字ａ、ｃ、ｅ、およびｇは、０または正の整数であって０＜ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＜５００である。下付き文字ｂ、ｄ、およびｆは、ｂ＋ｄ＋ｆ＝ｌであるような、０または１の値を有してよい。Ｚは、ＯまたはＣＨ_２基であってよく、分子が、偶数のＯ_１／２および偶数の（ＣＨ_２）_１／２基を含み、そしてＯ_１／２および（ＣＨ_２）_１／２基共、全て、分子内で対を成すという制限を受ける。

Claims

式：

（式中、ｍは、２〜１００の正の整数であり、そしてｎは、０〜１００の正の整数であり；Ａは、一般式：

を有する二価のブロックであり（式中、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、水素、および一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜５０の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルより、独立して選択され；Ｅは、一般式Ｆ−Ｌ−Ｇの一価の基であり（式中、Ｆは、エステル、エーテル、アミン、アミド、カーボネート、およびカルバメートより選択される、二価の連結基であり；Ｌは、一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜１００の炭素原子を有する、置換、非置換、直鎖、分枝状、環状脂肪族炭化水素、または芳香族炭化水素より選択される二価の部分であり；そしてＧは、一般式Ｍ^１ _ａＭ^２ _ｂＤ^１ _ｃＤ^２ _ｄＴ^１ _ｅＴ^２ _ｆＱ_ｇを有するシロキサン単位であり、ここで、Ｍ^１＝Ｒ_５Ｒ_６Ｒ_７ＳｉＺ_１／２、Ｍ^２＝Ｒ_８Ｒ_９Ｒ_１０ＳｉＺ_１／２、Ｄ^１＝Ｒ_１１Ｒ_１２ＳｉＺ_２／２、Ｄ^２＝Ｒ_１３Ｒ_１４ＳｉＺ_２／２、Ｔ^１＝Ｒ_１５ＳｉＺ_３／２、Ｔ^２＝Ｒ_１６ＳｉＺ_３／２、Ｑ＝ＳｉＺ_４／２；Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４およびＲ_１５は、一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜約５０の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルより、独立して選択され；Ｒ_８、Ｒ_１３およびＲ_１６は、一般式：

（式中、Ｒ_１８、Ｒ_１９、およびＲ_２０は、水素、および一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜１０の炭素原子を有する炭化水素ラジカルより、独立して選択され、整数ｑは、０〜１０であり、そしてＲ_１７は１〜５の炭素原子を有する炭化水素ラジカル、または水素原子であり、但しｑ＝０およびＬが環状残基である時、Ｒ _１７は水素である）を有する、末端オレフィンの二価の残基より、独立して選択され；ａ、ｃ、ｅ、およびｇは、０または正の整数であって０＜ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＜５００であり；下付き文字ｂ、ｄ、およびｆは、ｂ＋ｄ＋ｆ＝ｌを満たすような、０または１の値を有し；そしてＺは、ＯまたはＣＨ_２基より選択され、分子は、偶数のＯ_１／２および偶数の（ＣＨ_２）_１／２基を含み、そしてＯ_１／２および（ＣＨ_２）_１／２基共、全て、分子内で対を成すという制限を受ける））；
Ｂは、一般式：

を有する二価のラジカルであり（式中、Ｒ_２５、Ｒ_２６、Ｒ_２７、およびＲ_２８は、水素、ハロゲン、水酸基、一つまたは複数のヘテロ原子を任意に含む、芳香族、脂肪族および／またはアラルキル部分を含む炭化水素ラジカルより、独立して選択される）；
Ｗは、ＸまたはＹ（Ｘは、反応基を表し、そしてＹは、鎖停止基を表す）より選択されてよく、ここで：
Ｘは、一般式：

を有するフリーラジカル重合性基であり（式中、Ｒ_２１、Ｒ_２２、およびＲ_２３は、水素、または一つもしくは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜５の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルより、選択されてよく；Ｈは、ＯまたはＮＲ_２４であってよく、ここで、Ｒ_２４は、水素、または１〜５の炭素を有する一価の炭化水素ラジカルであってよく；Ｊは、１〜１０の炭素原子を有する、そしてヘテロ原子を任意に含む、置換または非置換脂肪族または芳香族炭化水素より選択される二価の部分である）；そして
Ｙは、水素、水酸基、チオール、アミン、または一つもしくは複数のヘテロ原子を任意に含む、１〜１０の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルより、独立して選択されてよい）
の直鎖シロキサンポリマー。
前記Ｌが、ポリアルキレンオキシドより選択される親水性残基である、請求項１に記載のポリマー。
前記Ｌが、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、および最大６の炭素原子を有するそれらの類似体より選択されるポリアルキレンオキシドである、請求項１に記載のポリマー。
前記Ｌが、構造：

を有する環状炭化水素残基である、請求項１に記載のポリマー。
前記基Ｅの単位ＧにおけるＲ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｒ_１５、Ｒ_１６、Ｒ_１８、およびＲ_２０が、メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、ブチル、イソブチル、フェニル、ナフチル、および８〜２０の炭素原子を有するアラルキルラジカルより選択される炭化水素ラジカル基、トリフルオロメチルプロピル、およびそれらの二つまたはそれを超える組み合わせより、独立して選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリマー。
前記単官能基Ｅが、式：

（式中、ａは、０〜５０であり、そしてｍは、０〜５０であり、Ｋ＝ＯまたはＮＨである）；

（式中、ａ＋ｂは、０〜５０であり、そしてｍは、０〜５０であり、Ｋ＝ＯまたはＮＨである）；

（式中、ａ＋ｂ＋ｃは、０〜１００であり、そしてｍは、０〜５０であり、Ｋ＝ＯまたはＮＨである）；

（式中、ａは、１〜５０であり、そしてｍは、０〜５０であり、Ｋ＝ＯまたはＮＨである）；

（式中、ｍは、０〜５０であり、Ｋ＝ＯまたはＮＨである）；

（式中、Ｋは、ＯまたはＮＨであり、Ｒは、−ＣＨ_３または−（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎであり、ｂは、０〜１００であり、そしてｎ＋ｂは、０〜１００である）；あるいは

（式中、Ｋは、ＯまたはＮＨであり、ａは、０〜１００である）；
のいずれかより選択される構造を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマー。
前記Ｒ_２５およびＲ_２６が、水素であり、前記Ｒ_２７が、水素、またはメチルラジカルより選択され、そして前記Ｒ_２８が、エチレン性−不飽和親水性モノマーまたは疎水性モノマーの一部である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリマー。
プレポリマーを得るために、Ｘ基より選択される、Ｗ基を少なくとも一つ有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリマー。
非反応性ポリマーを得るために、両方のＷ基が、鎖停止剤としての、Ｙ基より選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリマー。
請求項８に記載のプレポリマーを少なくとも一つ含む、ホモ−またはコポリマー。
Ｎ−ビニル−ピロリドン、Ｎ−ビニル−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−アセトアミド、Ｎ−ビニル−ホルムアミド、およびＮ−ビニル−イソプロピルアミド、ビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ビニルピリジン、ビニルアルコール、ビニル含有シリコーン、またはそれらの二つまたはそれを超える組み合わせより選択されるビニルモノマー、アクリルアミドモノマー、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＡ）、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、トリメチルアンモニウム２−ヒドロキシプロピルメタクリレート塩酸塩、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、グリセロールメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル化親水性もしくは疎水性有機シリコーン、またはそれらの二つまたはそれを超える組み合わせより選択されるアクリルモノマー、あるいはそれらの二つまたはそれを超える組み合わせより選択されるフリーラジカル重合性有機モノマーを更に含む、請求項１０に記載のコポリマー。
ハイドロゲル膜である、請求項１０〜１１のいずれか１項に記載のポリマー。
請求項１０〜１１のいずれか１項に記載のポリマーを、エマルジョンまたはラテックスの形状で含む、膜形成添加剤。
前記ポリマーが、布地、紙、革、パーソナルケア、ヘルスケア、ホームケア、コーティング、塗料、または種子処理処方剤における膜形成添加剤である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のシロキサン。