JP2015518627A - 抵抗ヒーター - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2012年3月20日に出願された「Resistance Heater」と題する米国特許出願第13/424947号の利益を主張する。この米国特許出願は、2009年1月26日に出願された米国特許出願第12/321284号の一部継続出願である。これらの米国特許出願の双方は、参照することによりその全体が本明細書の一部をなす。
Claims (20)
- 抵抗ヒーターであって、該抵抗ヒーターは、
本体を備え、該本体は、
概ね滑らかで概ね平坦である少なくとも1つの加熱面と、
該本体に形成される凹部とを有し、
前記本体の少なくとも一部は、略U字形状、略I字形状、及び略H字形状からなる群から選択される断面形状を有し、
前記断面形状は前記本体の少なくとも一部にわたって延在する、抵抗ヒーター。 - 前記断面形状は、前記本体の長さの大部分を含む、前記本体の少なくとも一部にわたって延在する、請求項1に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体は第1の端部及び第2の端部を更に有し、前記凹部は前記第1の端部及び前記第2の端部には形成されない、請求項1に記載の抵抗ヒーター。
- 前記第1の端部及び前記第2の端部は端子接続孔を有する、請求項3に記載の抵抗ヒーター。
- 前記第1の端部及び前記第2の端部は、該第1の端部及び該第2の端部間に画定される加熱領域と略同一の幅を有し、前記凹部は前記第1の端部及び前記第2の端部には形成されない、請求項4に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体は、その長さ方向に沿って略均一な幅を有する、請求項1に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体は、グラファイト材及びセラミック材のうちの少なくとも一方から製造される、請求項1に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体は、pBN及びSiCのうちの少なくとも一方でコーティングされる、請求項1に記載の抵抗ヒーター。
- 半導体ウェハーを処理する方法であって、
a)本体を有する抵抗ヒーターを準備するステップであって、該本体は、概ね滑らかで概ね平坦である少なくとも1つの加熱面と、該本体に形成される凹部とを有し、該本体の少なくとも一部は略水平方向に対称な断面形状を有し、該断面形状は該本体の少なくとも一部にわたって延在する、ステップと、
b)前記少なくとも1つの加熱面上に半導体ウェハーを支持するステップと、
c)前記ヒーターに電流を印加するステップと、
d)前記半導体ウェハーを所定の温度に加熱するステップと、
を含む、方法。 - 前記本体は、第1の端部及び第2の端部を更に有し、前記凹部は前記第1の端部及び前記第2の端部には形成されない、請求項9に記載の方法。
- 前記第1の端部及び前記第2の端部は端子接続孔を有する、請求項11に記載の方法。
- 前記第1の端部及び前記第2の端部は、該第1の端部及び該第2の端部間に画定される加熱領域と略同一の幅を有し、前記凹部は前記第1の端部及び前記第2の端部には形成されない、請求項12に記載の方法。
- 前記本体は、pBN及びSiCのうちの少なくとも一方でコーティングされる、請求項9に記載の方法。
- 抵抗ヒーターであって、該抵抗ヒーターは、
本体を備え、該本体は、
概ね滑らかで概ね平坦である少なくとも1つの加熱面と、
該本体に形成される凹部と、
を有し、
前記本体の少なくとも一部は略水平方向に対称な断面形状を有し、
前記断面形状は、前記本体の少なくとも一部にわたって延在する、抵抗ヒーター。 - 前記本体の少なくとも一部の前記断面形状は略I字形状又は略H字形状である、請求項14に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体の第1の面及び第2の面双方の一部に凹部が形成され、略I字形状の断面形状を形成する、請求項14に記載の抵抗ヒーター。
- 前記第1の面及び前記第2の面は、それぞれ前記本体の上面及び下面である、請求項16に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体の第1の面及び第2の面双方の一部に凹部が形成され、略H字形状の断面形状を形成する、請求項14に記載の抵抗ヒーター。
- 前記第1の面及び前記第2の面は、前記本体の対向する側面である、請求項18に記載の抵抗ヒーター。
- 前記本体は、自身の長さ方向に沿って略均一な幅を有する、請求項14に記載の抵抗ヒーター。
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