JP2015514779A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. ５．８〜６．２％の範囲の塩化物含量を有し、かつ残留溶媒を５０００ｐｐｍ未満の量で含有する、アナモレリン一塩酸塩の製造方法。
2. 不純物を０．５％未満の量で含有する、請求項１記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法。
3. 不純物が、副産物、混入物、及び分解産物から選択される、請求項２記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法。
4. 残留溶媒が、メタノール、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸メチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−メチルテトラヒドロフラン及びそれらの組合せから選択される残留溶媒である、請求項１乃至３のいずれか１項記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法。
5. 残留溶媒が、酢酸イソプロピルである、請求項４記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法。
6. ９９％より大きい純度を有する、請求項１乃至５のいずれか１項記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法。
7. 請求項１記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法であって、
   有機相から水相を分離する工程
   を含む、製造方法。
8. 請求項１記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法であって、
   アナモレリン一塩酸塩を該水相から単離する工程
   を含む、製造方法。
9. 請求項１記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法であって、
   ａ）有機相から水相を分離する工程；及び
   ｂ）アナモレリン一塩酸塩を該水相から単離する工程
   を含む、製造方法。
10. 請求項１記載のアナモレリン一塩酸塩の製造方法であって、
    ａ）アナモレリン遊離塩基を有機溶媒中に溶解し、溶液を形成する工程；
    ｂ）該溶液を、水及び塩酸と
    ｉ）該アナモレリン遊離塩基を該塩酸と反応させ、並びに
    ｉｉ）有機相及び水相を形成する
    ために十分な時間混合する工程；
    ｃ）有機相から水相を分離する工程；並びに
    ｄ）アナモレリン一塩酸塩を該水相から単離する工程
    を含む、製造方法。
11. アナモレリン一塩酸塩が、該水相から、噴霧乾燥により単離される、請求項８乃至１０のいずれか１項記載の製造方法。
12. 有機層から水層を蒸留により分離する、請求項７、９または１０記載の製造方法。