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  1. モリブデン製の又は95原子%を超えるモリブデン含有量を有するモリブデン合金製の坩堝であって、その内面に、タングステン及びモリブデンから成る群から選ばれた少なくとも一種の耐熱金属を含有し且つ細孔を有する層が、少なくとも部分的に、施されていることを特徴とする坩堝。
  2. 前記層が5容積%を超える細孔率を有することを特徴とする請求項1に記載の坩堝。
  3. 前記層がタングステンを含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の坩堝。
  4. 酸化物セラミック単結晶を製造するための請求項1〜3の少なくとも1項に記載の坩堝。
  5. 前記層が5〜400μmの層厚を有することを特徴とする請求項1〜4の少なくとも1項に記載の坩堝。
  6. 前記層が60容積%未満の細孔率を有することを特徴とする請求項1〜5の少なくとも1項に記載の坩堝。
  7. 前記層が0.1〜5μmの粒径を有することを特徴とする請求項1〜6の少なくとも1項に記載の坩堝。
  8. 前記層が50質量%の耐熱金属を含有することを特徴とする請求項1〜7の少なくとも1項に記載の坩堝。
  9. 前記層が95質量%の耐熱金属を含有することを特徴とする請求項1〜8の少なくとも1項に記載の坩堝。
  10. 前記層が酸化アルミニウムを含有することを特徴とする請求項1〜9の少なくとも1項に記載の坩堝。
  11. 前記層が耐熱金属/酸化アルミニウムの複合材料から成ることを特徴とする請求項1〜10の少なくとも1項に記載の坩堝。
  12. 前記層がスラリー法又は溶射法により析出されることを特徴とする請求項1〜11の少なくとも1項に記載の坩堝の製造方法。
  13. タングステン、モリブデン及び酸化アルミニウムから成る群から選ばれた少なくとも一種の粉末、結合剤並びに易揮発性液体を含有するスラリーの塗布により前記層が製造されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
  14. 前記スラリー中の前記耐熱金属含有量が55〜85質量%であることを特徴とする請求項12又は13に記載の方法。
  15. 坩堝を、前記スラリーの塗布後に、1,200〜2,000℃の温度で焼きなましすることを特徴とする請求項12〜14の少なくとも1項に記載の方法。
  16. サファイア単結晶を製造するための方法であって、少なくとも以下の工程:
    −モリブデン製の又は95原子%を超えるモリブデン含有量を有するモリブデン合金製の坩堝であって、その内面に、タングステン及びモリブデンから成る群から選ばれた少なくとも一種の耐熱金属を含有し且つ細孔を有する層が、少なくとも部分的に、施された坩堝を製造する工程;
    −前記坩堝に酸化アルミニウムを導入し該酸化アルミニウムを溶融する工程;
    −適切な冷却を行ない、サファイア単結晶を形成する工程;
    −前記坩堝から前記サファイア単結晶を取り出す工程;及び
    −少なくとも1つの別のサファイア単結晶の製造のために、坩堝を再使用する工程を備えてなることを特徴とする方法。
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