JP2015511989A - 生産性の高い半導体の金属被覆及び相互接続の噴霧処理 - Google Patents

生産性の高い半導体の金属被覆及び相互接続の噴霧処理 Download PDF

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Abstract

本願では、複数のワークピースの金属被覆のための処理装置を提供する。ワークピースに金属被覆を適用するための少なくとも一つの堆積ゾーンと、外部酸化環境から隔離された制御された大気領域を有した装置である。搬送システムはバッチキャリアプレート内に配置されたワークピースを制御された大気領域を介して移動させる。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は２０１１年１２月２３日付米国プロビジョナル特許出願61/569,819号に基づく優先権主張を伴う出願である。この参照をもって全内容を本願に組み込む。
本出願は、また２０１２年４月２５日付米国プロビジョナル特許出願61/638,474号に基づく優先権主張を伴う出願である。この参照をもって全内容を本願に組み込む。
本発明は一般的に電気金属被覆及び噴霧処理を用いた相互接続の分野に関し、さらには、特に半導体及び太陽光装置のために噴霧処理により形成される電気金属被覆及び相互接続に関する。
金属被覆とも呼ばれる、電子相互接続、電子コンタクトの製造は非電子及び/または電子プレーティング、スパッタリング、イオンビーム蒸着、蒸発法、スクリーンプリンティング、ステンシルプリンティング、インクジェットプリンティング、エアロソルジェットプリンティング、及び/または化学蒸着（ＣＶＤ）等の様々な公知の方法で行われている。
効率よく太陽光より発電した電力を取り入れるため、太陽電池は無駄の少ない、電子相互接続及び電池端子へのコンタクトが必要である。これらの方法は金属被覆を行うという点では十分であるが、以下の理由または組み合わせにより、特に高効率の太陽電池の構成においてはコストが掛かる。
装置の資本コストおよび複雑さ− 金属被覆製造装置及び方法はしばしばコストが掛かり、その処理も複雑である。特に、（プラズマスパッタリング、イオンビーム蒸着、及び気化的方法を含む）物理的蒸着（PVD）等の真空蒸着法では比較的低い面圧と高度の真空環境が必要である。
原材料の利用−公知の方法は金属被覆に使用する主原料が比較的少なく、結果として、例えばプラズマスパッタリングなどの真空蒸着法では限られた所要の材料の使用等のように追加の原料が必要となる、また主原料に高いコストが掛かる。
消耗品の費用−主原料でない製造の材料または消耗品たとえば化学品、フィルター、金属被覆に使われた樹脂の再生、プラズマスパッタリングで使われるターゲット金属の製造等にもコストが掛かる。
大気圧熱及び/またはアークを利用した特定の金属の金属噴霧は低コストであり、主に構造及び耐食性コーティングのアプリケーションのために様々な産業において使用されている。１９８２年には従来のフロントコンタクト太陽電池において、電気相互接続と金属被覆コンタクトの金属噴霧技術の利用は提案されていたが、容積抵抗材料堆積層の酸化及び多孔性により、比較的高い堆積金属の電気抵抗率（すなわち、堆積されている材料のバルク抵抗率に比較して遙かに高い抵抗率）、（堆積が酸化空気環境で生じるため）及び、高温溶融金属を直接を露出した半導体太陽電池に衝突させることの悪影響、例えば高温度の金属の小滴と半導体層との直接反応（太陽電池におけるキラーシャント（致命的な短絡）を誘発する）と言った様々な要因により問題が生じていた。及び繊細な金属パターンの必要性が太陽電池分野の自動高生産性噴霧処理装置の開発および商業化を妨げてきた。最も一般的なシリコン素材の太陽電池はそれぞれのコンタクトに一層のみの金属層を使用して、とりわけ酸化環境において金属を噴霧して構成され、その電池内において噴霧された金属とシリコンコンタクト層の間のオーミック性接触を形成するための重大な挑戦を生じさせている。しばしば太陽電池の用途では本質であるが、繊細な線状の金属被覆が必要とされているが、公知の単層のスプレーイングの方法では達成することが困難である。
さらに、太陽電池分野において公知の熱またはアーク噴霧装置では低コストの金属被覆を可能にするには製造処理能力が低すぎる。また、公知の熱またはアーク噴霧装置及び処理により堆積された導電率材料の電気抵抗は制御されていない大気環境（空気中における高温小滴の酸化及び該小滴内への他の不純物の進入の結果として）、マイクロボイド、堆積された層の多孔性により、（典型的には少なくとも大きさの程度あるいはそれ以上に）堆積されている材料のバルク抵抗値よりかなり大きくなる可能性がある。結果として、特定の最大許容金属被覆シート抵抗に対して、必要となる金属被覆素材層の厚さは他の方法例えば真空PVD等で堆積された金属よりかなりに大きくなる。したがって、非常に厚い（例えば、典型的には少なくとも10〜100ミクロン）の金属の層が導電率要求を満たすために必要となり、結果として比較的高い応力、ウェハーボウ（bow）、歩留り及び信頼性の問題、そして比較的高い金属被覆コストをもたらす。
これらの要因により、従来の熱及びアーク被覆装置及び方法はマイクロエレクトロニクス、太陽電池及び他の半導体装置の大量生産の金属被覆アプリケーションに対しては有効とは言えずかつ経済的でない。
さらに、公知の熱及びアーク噴霧装置及び方法は非常に粗雑な表面になる可能性及び堆積されたフィルムの均一性の制御性の低下の可能性があり、多くの場合、その場でパタ−ン化された層の堆積に対してのいかなる特性を提供できない。したがって堆積された金属層のパターン形成はしばしばパターン化した抵抗層のプリンティング例えばスクリーンプリンティングまたはリソグラフィ及びその後に比較的厚く粗雑な金属層にウェット化学エッチングを行わなければならず、付加的な製造コストと労力が必要となる。
結晶太陽電池に取り付けられる本願でバックプレーンと呼ぶ、薄膜（ないし超薄膜）（例えば、約１ミクロンから１００ミクロン未満までの範囲の結晶シリコン層の厚さを有する）好適な基板の表面を利用した太陽電池の開発が必要になってきているとともに、このことはあり、熱及び/またはアーク噴霧による金属被覆アプリケーションを用いた自動的かつ高生産性の処理装置への必要性とともに高い利益をもたらす可能性がある。
韓国特許出願第２００４−００１７７８７号明細書 米国特許出願第２００８−００３８９０８号明細書 国際特許出願公開ＷＯ２０１０−１３１３６５号明細書 国際特許出願公開ＷＯ２０１１−０１９８２８号明細書 韓国特許出願第２０１１−００６２８５７号明細書
したがって、生産性が高く、低コストの金属噴霧処理装置が、ワークピースの金属被覆に対する必要性が生じてきている。開示された主題に従えば、複数のワークピースの金属被覆のための噴霧処理装置が提供され、この装置は従前開発された高度な生産性のワークピース金属被覆システムと協働して欠点を解消ないし減少させるものである。
開示された主題の一つの特徴によれば、複数のワークピースの金属被覆のための処理装置が提供される。この装置はワークピース上に金属層を形成するための少なくとも一つの堆積ゾーンを有する、外部酸化環境から隔離された制御された大気領域を含む。移送システムは、上記制御された制御された大気領域を介してバッチキャリアプレート内に配置されたワークピースを移動させる。
別の態様では、複数のバックコンタクト型太陽電池の金属被覆ためのシステムが提供される。このシステムは、バックコンタクト型太陽電池上に金属層を形成するための少なくとも一つの堆積ゾーンを有する、外部酸化環境から隔離された制御された大気領域を有する処理装置を備える。
移送システムは、制御された大気領域を介してバッチキャリアプレート内に配置されたバックコンタクト型太陽電池を移動させる。さらにこのシステムはベース端子とエミッタ端子を含む第１の金属被覆パターンを備える半導体基板とバックコンタクト型太陽電池のバックプレーンに配置されたバックプレーンを有するバックコンタクト型太陽電池含む。このバックプレーンは太陽電池のベース端子とエミッタ端子にアクセスを提供するバイアスを含む。
上記開示された主題のこれらの及び他の特徴は付加的な新規な特徴とともに、ここに提供されている記載から明瞭になるであろう。この概要の意図は請求項に記載された主題の理解を深める記載ではなく、主題の機能性のいくつかについての簡単な全容を提供するものである。ここに提供されている他のシステム、方法、特徴及び優位な利点は、以下に述べる図面及び発明の詳細な説明を検証することにより当業者に明確になるであろう。この説明に含まれている、そのようなすべての付加的なシステム、方法、特徴及び利点は何れかの請求項の範囲内に含まれるということが意図されている。
一連の半導体基板の上に金属コーティングの堆積もしくは塗布のための自動処理装置があることを示す図である。 半導体基板のキャリア、ワークピース、マスクの集合の一例を示す頂点図である。 その側面図である。 その拡大図である。 運ばれてきた一連の半導体基板の上に金属コーティングの堆積の適用のための自動処理装置があることを示す図である。 運ばれてきた一連の半導体基板の上に金属コーティングの堆積の適用のための自動処理装置があることを示す図である。 セグメント化されたワイヤまたはストリップのロールを示す図である。 開示された主題に一致するワークピース上の金属の熱的噴霧被覆を使用するパターン化された金属被覆層の形成のために使用されるその場のシャドウマスクとして使用する、セグメント化されたワイヤまたはストリップを誘導するガイドローラを示す図である。 運ばれてきた一連の半導体基板の金属コーティングの塗布を示す図である。 分離壁を有する噴霧ノズルの配列を示す図である。 大気下で噴霧された金属層の適用の一実施例を示す図である。 大気下で噴霧された金属層の適用の一実施例を示す図である。 大気下で噴霧された金属層の適用の一実施例を示す図である。
以下の説明は制限的な観点で受け取られるべきものではなく、本願の開示の一般的な原理を記述する目的のためになされているものである。本明細書の開示の範囲は請求項を参照することによって決定されるべきである。本願の開示の例示的な実施例が図面において、同様な参照番号が同様の及び様々な図面の対応する部分に用いられることにより参照され、説明されている。
熱的噴霧方法は異なる金属供給原料(feedstock)を用いる、一方熱及びアークを用いた噴霧方法は一般的に印加エネルギーを介してのための溶滴を生成して被覆されるべきワークピースに向けて推進する。熱噴霧の例としてプラズマを介して粉末または液体を熱して生成する、粉末または液体ベースの噴霧を含む。この場合、噴霧は当該粉末または液体をプラズマを介してこれを送り込むことによって加熱して行われる。そして、アーク噴霧の例としては二つのワイヤ間のアーク放電を利用して噴霧が生成されるツインワイヤアーク噴霧を含む。そして、本願では、特定の実施形態、例えば太陽電池と太陽電池バックプレーンに対する金属噴霧（熱的及び／またはアーク噴霧）の自動化された適用について説明しているが、当業者ならば本願の原理を適用して他のタイプの太陽電池及び他の好適なワークピース例えば電子的半導体基板等、及び代替の噴霧技術を使用できるだろう。例えば、熱的噴霧はワークピースを被覆するための溶滴を生成するために主に加熱または熱エネルギーを利用するが、アーク噴霧は金属噴霧を形成するために、例えば、アーク放電を生成する電力源を用いてツインワイヤアーク噴霧(Twin-Wire Arc Spray(TWAS))のような一対のワイヤの各先端との間に形成されるアークプラズマを使用する。熱的噴霧及びアーク噴霧の技術の双方は大気圧条件下で行うことができ、したがって真空ポンプは必要とならない。さらに熱的噴霧及びアーク噴霧の双方(例えばTWAS)は供給原料としてワークピースに堆積される材料のワイヤを使用する。例えば純アルミニウムや銅などの元素材料のスプレー堆積の場合には、そのワイヤ材料はワークピース上の堆積のために所望の元素材料から作られる。一方、アルミニウムと亜鉛の合金のような複数の元素材料からなる合金は、合金ワイヤを使用するかまたは合金を構成する様々な元素からなる複数のワイヤを使用することによって堆積される。後者の場合のおいては、上記異なるワイヤの相対速度（及び／または直径）を、上記堆積される合金の組成を制御するのに使用することができる。
ワークピースと半導体基板という語は本願においては、互換的に使用される。例えばワークピースまたは基板は太陽電池、太陽電池モジュールのどちらか一方または両方の製造に用いられる半導体基板とすることができる。さらに、本願で開示される金属コーティングシステムは、適用された金属コーティングの種類例えばパターン化されたもしくはブランケット金属コーティング等によって、及びワークピースをコーティング装置から出し入れする方法、例えばバッチウェハートレイのようなワークピースキャリアによって変わることができる。
図１は一連の基板上にメタルコーティングの塗布、具体的には基板キャリアに運ばれたワークピースへの大気圧（または大気圧近傍の圧力）金属噴霧の適用のための、必要に応じてパターン化された金属層の堆積のためにその場でマスキングを行う、自動処理装置を示す図である。自動処理装置１０は太陽電池、配置された適切なマルチウェハーキャリア等の一連の基板の上に最大三つまでのパターン化されたメタルコーティングの適用を提供する。しかしながら、本システムは任意の数の堆積ゾーン（１つから特定された複数の堆積ゾーン）例えば場合によっては５つまでの層を有するといった、任意の数の金属コーティングの適用のため任意の数の堆積ゾーンを含むことができる。
さらに、図１のシステムは、窒素及び／または水素、またはフォーミングガス（必要に応じて、回収及び再循環される）などの不活性ガスを有する制御された非酸化性（例えば不活性）ないし還元性（例えば水素含有）環境において、金属被覆層の制御された環境熱噴霧被覆を提供することができる。
自動処理装置１０は噴霧被覆処理中の制御されたガス環境を形成するため、それぞれが堆積ゾーンの外側の外部酸化性環境の空気から十分に隔離されている、堆積ゾーン３０、３２及び３４に配置されたスプレーガン１２、１４、及び１６を有する。制御された環境はスプレー堆積されている金属層の酸化を防ぎ、したがって、より良好な導電率特性（バルク導電率に近い）を有する金属層の堆積を可能にする。
キャリアロードステーション２２は、マスクキャリア中で搬送されている、ワークピース１８を、選択的な加熱ゾーン３８上に堆積ゾーン３０、３２及び３４を含む制御された大気領域を介して搬送するベルトコンベア３６上に、ワークピース１８をおろすことができる。隔離ガスカーテン２０は外環境から制御された環境の周囲領域を隔離するとともに、逆も同様にし（内部環境からも隔離し）、制御された大気のコンベア炉で一般的に開発された公知の技術及び大気圧化学蒸着(APCVD)装置を用いて最小のまたは無視できる酸素を含む制御されたガスの環境を生成する。そして、温度制御装置２６は大気領域（それぞれ選択的に各堆積ゾーンに対して）の温度を制御する。図示していないが 、各堆積ゾーンは例えば隔離ガスカーテンによって完全に分離された領域であっても良い。ワークピース１８は、マスク２８を使用して、金属被覆層が堆積およびパターン化される堆積ゾーン３０、３２、３４を通過し、その後アイソレーションガスカーテン２０から出て、任意にキャリアアンロードステーション２４へ移動する。
自動化された処理装置を介して搬送するために、ワークピースをバッチトレイまたはバッチキャリアプレート上に配置し、パターン化された（例えば近接非接触マスクまたは接触シャドウマスクのようなシャドウマスク等）のシャドウマスキングプレートで覆うこともできる。一例では、単一のシャドウマスクは単層または多層のスプレーによって堆積された金属を生成するために使われ、これによって事前に特定されたパターン化された金属層を生成する。そして、ある実施形態においては、例えばワークピース上に複雑なスプレー形状を形成するために異なるシャドウマスキングプレートが適用され、そして後に続く噴霧処理を通してワークピースから取り除かれるようにすることができる。
処理能力及び用具の生産性を高めるために、各トレイは一つのワークピースまたは複数のワークピースを保持することができる。そして、トレイまたはキャリアはコンベアベルト３６等の適当な移動機構によって噴霧ゾーンに移送される。自動キャリアロードステーション２２及びキャリアアンロードステーション２４はコンベア３６上でキャリアの積載及び降ろし作業に供することができる。
任意の予備洗浄コンポ−ネント（図示せず）は、電子コンタクト抵抗の減少および堆積された金属と基板との密着性を向上させるための基板洗浄に供する。これには任意の露出された場合には、下層の金属被覆パターンも含み、例として水素含有環境等の還元環境または塩素蒸気洗浄ゾーン内でアークプラズマを使用する等がある。予備洗浄はその領域から、コンタクトが、既に存在している金属、例えば第１の金属被覆層（Ｍ１）と、これから噴霧される金属との間に形成されようとしている場合には、例えば穴のような領域から潜在的な酸化物を除去する。予備洗浄または酸化物除去は、噴霧された金属と金属層１のような、当該金属と接触している材料との間の低い、確実に低い接触抵抗を得るために使用することができる。
ガス系の予備洗浄が使用される場合、洗浄ガスは一つの反応器ゾーンに適用することができる。例えば図１で述べたようにスプレーガン１２は、ガスノズルアレイのような、洗浄蒸気、洗浄ガスまたは洗浄ガス混合物のためのアプリケータに置き換えても良い。本願に記載されているスプレーシステムにおいて、予備洗浄は非酸化性環境で行うことができ、その後非酸化性環境にワークピースが引き続き残っている間に、メタルスプレーが洗浄されたコンタクトの表面に行われる。従って新たに洗浄された表面は、スプレー金属の塗布の前の再酸化を防止することができる。予備洗浄ガスの例として、洗浄されるべき金属によるが、ハロゲン含有化学物質例えば、これらに限るものではないが、フッ化水素、塩化水素、塩素 三フッ化窒素、四フッ化炭素、六フッ化硫黄、水素またはフォーミングガス(例えばワークピースが昇高温に保たれている時)等を含む。
堆積ゾーン３,３２,及び３４を含む隔離ガスカーテン２０によりカプセル化された制御されたガス環境は、不活性ガス環境(例えばアルゴン、キセノン、ヘリウム)、窒素、または酸素及び炭素還元環境例えばフォーミングガス(例えば不燃性の水素と窒素の混合体)または純水素、等の非酸化性ガス環境を含んでも良い。非酸化性の制御された環境を使用することにより理想的なバルク抵抗値(例えば純アルミニウムでは〜2.7μΩ.cm、純銅では〜1.7μΩ.cm)に近い電気抵抗の金属相互接続の形成を可能とする。各ゾーンはワークピースを特定の材料で被覆するために一つ以上のスプレーガンを備える、例えば堆積ゾーン３０内の金属１スプレーガン１２、堆積ゾーン３２内の金属２スプレーガン１４及び堆積ゾーン３４内の金属３スプレーガン１６等である。図示のように、３つまでの異なるコーティング材料を堆積させる(異なるゾーン内に同時に、すべて別々に、または組み合わせて堆積させうる)ことができる一方、さらなる金属スプレーゾーン(堆積ゾーン及びスプレーガンを含む)はより多層の金属積層に利用することができる。
スプレーガンは固定型、可動型または固定と可動の組み合わせにすることができる。可動型スプレーガンは基板上の対象領域が大きくかつ１つのみ（または少数の）スプレーガンが使用される場合には均一なコーティングを提供しうる。代わりに、固定型のスプレーガンは基板上の対象領域が小さい場合に所望のコーティングの均一性を提供しうる。
堆積ゾーン３０、３２、及び３４は温度コントローラ２６または他の温度調節機構等により温度を制御することができ、これによって堆積される材料の機械的応力またはワークピース及び/または堆積される材料のいくつかの他の物理的特性(例えば堆積された金属層の電気抵抗、及び/または既存のパターン化された金属層上の噴霧堆積された金属の電気コンタクト抵抗の減少等)を、素材が堆積される時のワークピースの温度を調整することにより（例えば、スプレー堆積処理の間中ワークピースを加熱することにより）、管理することができる。異なる噴霧ゾーン(堆積ゾーン)内の温度は堆積されている材料と所望の物理的及び電気的特性に依存して、同一または別々の温度にすることができる。多層金属噴霧処理に対しては、ゾーンの温度は室温から摂氏数百度までの範囲になりうる。さらに大気領域の入口において、加熱または冷却ゾーン３８は堆積ゾーンに入る前のワークピースの温度を調整することができる。
金属被覆の一実施例として、金属被覆が施されたバックプレーンを利用した太陽電池にたいして、最後または最後から２番目のコーティングは、太陽モジュール製造の間の後続の相互接続に好適な、はんだ付け可能な素材例えばアルミニウム亜鉛合金または純亜鉛及び/または錫または好適なはんだ合金等の薄いコーティングとすることができる。この最後のコーティング素材に対する他の実施例は公知のはんだ例えばスズ、亜鉛、またはスズの例えば銀、銅、ビスマス、亜鉛、または鉛等との合金を含む。拡散障壁もまた（最上部及び既存の底、両方の金属被覆層がアルミニウムのような同一の非寿命劣化素子(non-lifetime-degrading)で構成されていない限り）コーティング材料の一つとして配置することができる。
最初の堆積金属は少なくとも2つの以下の基準を満たす：1)下側にある基板に対して良好な密着性を提供すること。例えば基板は薄型吸収太陽電池上のエポキシ系プリプレグ等のポリマーとすることができる。2)例えば、接触が行われる下側の金属に低抵抗のオーミック性接触を提供すること。この場合の接触は例えばレーザー穿孔によるポリマー基板に機械加工されたバックプレーンの金属被覆を介して生じる。追加の要件はスプレーされた金属被覆層の過剰の応力により堆積後の基板の平面性を劣化させないようにできることである。
下側に経由する金属が存在しない太陽電池構造において、第１の金属は、太陽電池の半導体に直接、良好なオーミック性接触しなければならない．主電流搬送コーティングは、TSAとして知られている熱またはアークスプレーアルミニウムにしても良い。このコーティングは、バックコンタクト型太陽電池(櫛形バックコンタクトすなわちIBC)構造に対して、おおよそ5〜100ミクロン以上の厚さの層を有する。最適な厚さ、つまりスプレーされたアルミニウム層の導電率はバックコンタクト型太陽電池の大きさに依存する(すなわち、より大型の太陽電池は電池からの電流抽出の間の最低限のオーミック損失を維持するために、典型的により厚いアルミニウムを必要とする)とともに、太陽電池の金属相互接続の最大許容オーミック損失に依存する。
例えば、バックコンタクト型太陽電池に使われる代表的な金属被覆構造は、指定された噴霧された金属の厚さと共に下記の噴霧された金属積層を含む。しかし、これに限られるものではない。
- 二段噴霧被覆システム:(1) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用されるアルミニウム(ほぼ5〜100ミクロン以上)、(2) バルクアルミニウム層(〜1〜20ミクロンの層)上にはんだ付け可能な表面を形成するためのはんだ溶接面として使用される亜鉛または亜鉛アルミニウム合金。
- 三段噴霧被覆システム:(1) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用されるアルミニウム(ほぼ5〜100ミクロン以上) 、(2) バルクアルミニウム層(〜1〜20ミクロンの層)上にはんだ付け可能な表面を形成するためのはんだウェッティング面として使用される亜鉛または亜鉛アルミニウム合金、(3) はんだ付け可能面及び、亜鉛または亜鉛合金を覆う防御層として使用される、スズ系はんだ等のはんだ(〜1〜20ミクロンの層) 。
- 四段噴霧被覆システム:(1)亜鉛または亜鉛合金(〜1〜20ミクロンの層)の密着および低抵抗コンタクト層、(2) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用されるアルミニウム(ほぼ5〜100ミクロン以上)、 (3) バルクアルミニウム層(〜1〜20ミクロンの層)上にはんだ付け可能な表面を形成するためのはんだウェッティング面として使用される亜鉛または亜鉛アルミニウム合金、 (4) はんだ付け可能面及び、亜鉛または亜鉛合金を覆う防御層として使用されるスズ系はんだ等のはんだ(〜1〜20ミクロンの層)。
上記以外にもアルミニウムの代わりに銅を用いる等の他の金属積層もまた可能である。代表的なスプレーされる銅を使用した金属被覆積層の例は、例えば薄型バックプレーンを有するバックコンタクト型太陽電池等がある。ただしこれに限られるものではない。
- 一段噴霧被覆システム：(1) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用される銅(ほぼ5〜100ミクロン以上の範囲) 。
- 二段噴霧被覆システム：(1) 界面コンタクト及び障壁層として使用されるアルミニウムの初期層(〜1〜10ミクロン以上)、 (2) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用される。銅(ほぼ5〜100ミクロン以上の範囲) 。
- 三段噴霧被覆システム：(1) 界面コンタクト及び障壁層として使用されるアルミニウムの初期層(〜1〜10ミクロン以上)、 (2) メイン高導電率太陽電池相互接続として使用される。銅(ほぼ5〜100ミクロン以上の範囲) 、(3) はんだ付け可能面及び、銅を覆う防御層として使用されるスズ系はんだははんだ付け可能面及び、銅を覆う防御層として使用される等のはんだ(〜1〜20ミクロンの層)。
他の材料の中で、メイン高導電率電気相互接続及び金属被覆層として銅またはアルミニウムいずれかを含む噴霧された金属積層の組み合わせとすることもできる。
金属源はアークプラズマ内で融解したシングルまたはツインワイヤの制御下の供給及び空気または非酸化性(不活性または還元)ガス環境を使用した搬送でワークピースの表面に送られる。他の実施形態において、金属源は、プラズマ環境への供給を制御した後ワークピースの表面へのガス環境によって移送される粉末でも良い。例えば、どのように粉末自体が生成されたかに応じて、粉末は純金属、異なる金属の粉末の混合物または合金の粉末から構成することができる。金属源としての粉末を利用することは基板表面に近接する金属の堆積を可能とし、したがってより小さな大きさ（例えば数ミクロンの範囲にまでにさげること）のより微細な特徴の堆積を可能とする。適当な粒子の大きさ及び粉末の大きさの選択は重要な要素である。粉末として利用する金属及び合金の例として、はんだ付け可能な材料も含む、Ｃｕ、ＣｕＳｎ、Ａｌ、ＡｌＺｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、ＺｎＳｎ、Ｎｉ等がある。ただしこれらに限られるものではない。
より微細な金属被覆の堆積の特徴は、直接ライティング（例えば複数の非接触近接噴射ノズルを用いる等により）または金属のシャドウマスクライティングに関連して形成される金属被覆スキームを可能とすることである。例えば 太陽電池上に直接配置されたバックコンタクト型太陽電池デザインに対してエミッタと及びベースラインを変更すること： そして太陽電池上のエミッタ及びベースコンタクト等の電池内の端子コンタクト領域に接触させること、及び金属の二つまたはそれより多いレベル（例えば該金属の２つのレベルがレベル間のローカル開口を有する絶縁体によって分離されている場合）を含む電池デザイン内の金属の第２の層と接触させて、分離された金属層（例えば本願の金属１及び金属２のような第１の金属層と第２の金属層）の間のローカル接触を可能にする等である。
２つのレベルの金属デザインの後者の場合には、太陽電池の活性領域に接触する、第１のレベル金属が、第２のレベルの金属に比べて、より微細な特徴（例えば櫛形バックコンタクト金属被覆パターン内の微細なピッチ）を有するように設計なされており、コストを削減し、太陽電池の性能を向上させることができる。この場合、第２のレベル金属は第１のレベル金属及びモジュールコネクタレベルに接続するとともに、より粗い特徴（例えば第２のレベル金属の第１のレベル金属と比較して直交変換を用いた構造、言い換えれば金属２フィンガは金属１フィンガに対して実質的に垂直に延びている）を持っている。
例えば、本願に記載されている太陽電池設計及び製造工程は、基板の裏側に積層または付着または堆積される、バックプレーン層とも呼ばれる電気絶縁層から分離される金属被覆の二つのレベルを有することができる。形成の実施形態においてバックプレーン積層に先立って、太陽電池のベース及びエミッタ端子の金属被覆パターンが太陽電池の裏側に直接、形成される。例えば、スクリーンプリンティングの薄い層またはプラズマスパッタリング(PVD)によるアルミニウム（またはアルミニウムシリコン合金）材料層を利用することによって形成される。この金属被覆の第１の層（本願ではM1と呼ぶ）は、太陽電池コンタクト金属被覆パターンを画定することができる。これは、例えばIBC太陽電池のベース及びエミッタ領域を画定するファインピッチ（fine-pitch)櫛形（interdigitated）バックコンタクト(IBC)導電体フィンガによって行われる。このM1層は太陽電池のコンタクト金属被覆の役割を果たす、言い換えれば、M1層は太陽電池の電流及び電圧そして、M1の後に形成される高導電率太陽電池金属被覆の第２のレベル／層（本願ではM2と呼ぶ）に、レベル間（inter-level）導電ビアプラグ（これもM2層に沿って形成される）を介して電力を移送する。（ビアホールの形成を含む）バックプレーンの形成の後、より高い導電率層のM2層はバックプレーン上に形成される（例えばM2はM1に比べてより高い電力移送（current-carrying）電気導電率を持つ）。ビアホール（場合によっては100または1000までのビアホール）はバックプレーン（例えばレーザードリルにより）の中に穿孔される、またはバックプレーンフォーメーション(すでにパターン化されたバックプレーンのフォーメーション)に沿って形成される。これらのビアホールは事前に指定された、後に続くパターン化されたM2及びM1層との間にビアホール内に形成された導電率プラグを経由する電気接触のために、M1の領域にとどく。続いて、パターン化された高導電率金属被覆層M2が形成される(例えばプラズマスパッタリング、プレーティングまたはそれらの組み合わせによって−例えばアルミニウム及び／または銅をから成る安価で高電気導電率のM2を用いて）。 M1上のファインピッチ（fine-pitch)IBCフィンガを持つ櫛形(interdigitated)バックコンタクト(IBC)太陽電池に対して（例えば、電池ごとの数百のM1金属被覆フィンガに対して）、パターン化されたM2層はM1に対して直交するように設計される。すなわち、M2フィンガはM1フィンガに対して実質的に直角である。この直交変換により、M2層はM1層より遙かに少ないIBCフィンガを有するものとすることができる（例えば約10〜50分の１程度のより少ないM2フィンガとすることができる)。従ってM2層はM1層より非常に粗いパターンではるかに広いIBCフィンガとすることができる。太陽電池のバスバーは、M1層上にではなく、M2層上に配置することができ、太陽電池上のバスバーに関連する電気的な遮蔽損失を解消することができる。そして、ベース及びエミッタ端子双方の相互接続及びバスバーは太陽電池の裏側のバックプレーン上のM2上に配置できるので、電気的アクセスがバックプレーン上の太陽電池のベース及びエミッター端子の両方に提供される。
バックプレーン材料は熱膨張が充分に低い係数(CTE)を有する安価のポリマー材料の薄型シートとすることができ、薄型シリコン層上で熱的に誘発される過度の応力の発生を回避することができる。さらに、バックプレーン材料は、裏側端部の電池製造処理のための工程統合化の要求を満たさなければならず、特に電池の前面のウェットテキスチャリング及び洗浄中の化学的抵抗、及び前面パッシベーション層及び反射防止コーティング(ARC)層のOECVDを用いた堆積の間の熱的安定性の要求を満たす必要がある。また電気的絶縁バックプレーン素材もモジュールレベル積層工程及び長期間の信頼性を満たす必要がある。様々な好適なポリマー材料（例えばプラスティック、フルオロポリマー、プリプレグ等）及び公的な非ポリマー材料（例えばガラス、セラミック等）はバックプレーン材料とすることができる。バックプレーン材料の選択はこれらに限るものではないが、コスト工程統合の容易さ、信頼性、柔軟性に依存する。
バックプレーンに適した材料の選択は比較的低いCTEプリプレグである。プリプレグシートはプリントされた回路板（他の分野における広範囲で応用されている）のビルディングブロックとして使用され、樹脂及びCTE減少及び強化繊維または粒子の組み合わせにより形成することができる。バックプレーン材料は安価な、低CTE（典型的にはCTE<1ppm／℃またはCTE<5ppm/℃）の、テキスチャライゼーション化学物質に比較的化学的抵抗のある、最低でも180℃（または少なくとも約280℃くらい）までの温度に対して熱安定性のある薄い（通常、ほぼ50~250ミクロンの範囲の薄さ）プリプレグシートとすることができる。
もし、ワイヤの代わりに粉末が金属源（例えば、サブミクロンから数ミクロンまでの粒子サイズを有する粉末）であるならば、単一ノズルブロックまたはノズル配列のいずれかの中の複数のアクティブノズルは、同時にかつ並行して基板表面に金属を堆積させることができる。さらに金属粉末供給は、ノズル及び供給装置の簡単さ及びコスト削減のために、別々にまたは組み合わせて行っても良い。金属堆積は連続的または断続的（例えば、断片化された金属被覆ライン及び／または 直接書かれた金属フィンガの長さの調節のため)でも良く、後者の場合には金属供給（ワイヤまたは粉末）を停止することにより、ノズルを停止することによりまたは両方をオフにすることで断続的な堆積させることができる。
図２Ａはキャリア/ワークピース/マスクの組立体の例の上面図、図２Ｂは図２Ａのキャリア/ワークピース/マスク組立体 のＡ-Ａにおける断面図、図２Ｃは図２Ｂの部分拡大図である。ワークピース４３はキャリア４０に配置され、示すようにシャドウマスクプレート４４に覆われる。シャドウマスクプレートは、ワークピースに接触していてもまたは近接する位置に配置されても良い。図２Ａのワークピースキャリア及びマスキングプレートは4×4配列にされた16個の基板を示す図である。しかし、他の様々なN×M(N,Mは整数)のワークピースの配置もまた可能である。
一実施形態において、スプレーガンに供給される金属(例えばアルミニウムまたはアルミニウムの合金とシリコンで形成された金属ワイヤまたは粉末等の金属 −シリコン、亜鉛、はんだ及び／またはアルミニウム及び亜鉛を有する合金、同様に銅、スズ、スズ亜鉛合金の組み合わせを含む合金と接触する、第１のレベル金属として利用される時に接合部のひずみ(junction spiking)を低減するために−）は、連続するキャリアトレイの間及び/またはワークピースキャリアトレイが被覆領域に存在しない時に止めることができ、コンベアベルトが望ましくないコーティングで被覆されないため及び金属の無駄を避けることができる。被覆された金属層を最大限有効活用するためのこの配置はトレイとスプレーガンを比較した相対位置に基づいた制御システムにより、制御することができる。例えば、ワークピースまたはワークピースキャリアトレイの存在を検出し、その信号を結合して噴霧装置に送る堆積装置内のセンサーを用いて行う。
その場の(in-situ)シャドウマスキングプレートは、例えばスプレー材料のブランケットコーティングに対して、取り除くことができる。この一方で、ワークピースは、コンベアベルト上へのコーティング素材の噴霧を防ぎつつ、キャリアを経由して搬送される。さらに他の実施形態において、ワークピースを直接コンベアベルトに配置することでき、該ベルトは他の周期のワークピースの搬送のための戻り経路の間に処理装置を介して化学的に洗浄することができる。そしてさらに別の実施形態において、各ワークピースは個別のシャドウマスクをもちいて予め組み立てることができ、そのマスクされたワークピースは直接コンベアベルト上に配置することができ、該ベルトは他のサイクルのワークピースの搬送のための戻り経路の間に、熱及び／またはアーク噴霧チャンバから分離されているウェットエッチングまたは気相フェイズエッチングチャンバ内の処理装置を介して化学的に洗浄することができる。
他の実施形態において、絶縁層によって分離された２−レベル金属形状における下にある微細なピッチの前M1金属層の線に対して、直交するように配置された、例えば粗いピッチの複数の直線的な平行な線の配置の金属被覆パターンの形成するため、例えば直線的な平行の線(櫛形のM2エミッタ及びベースフィンガを形成するため)の配列を形成するため、金属ストリップまたはワイヤは、M2層のその場の(in-situ)マスキング及びパターン化された堆積に使用することができる。例えば、シャドウマスクとして使うために処理装置に、分離したマスキング金属ストリップまたはワイヤの並列の配列の供給をする。コンベアベルトまたは金属堆積システムを介して基板を運ぶ他の搬送システムの動きを同期させて挿入する。
さらにマスキングストリップまたはワイヤは、例えば網状に配置する等、並列パターン以外の金属被覆パターンの生成に使用できる。他の例では、ワークピースの整列が、工程中または多数の工程サイクルの間、調整によってまたは回転によっておこなわれ、交差する線(例えばバスバーを形成するのに有用である(９０度の交差)を有するパターンを生成する。上記に示したようにモバイル連続ストリップは、図３及び４に示したようにロールツーロール（roll to roll）配列で配置しても良い。
図３及び図４は、図1の自動処理装置１０と同様に、キャリアに運ばれた一連の基板上への金属被覆アプリケーションのための自動処理装置を示す図であり、マスクされたパターリング（図1に示すマスクされたキャリア２８とは対照的に）に対してストリップまたはワイヤを使用している。図3の自動処理装置５０はロールツーロールのストリップの配列を利用したシステムを示し、図４の自動処理装置６０は連続的な(または無限ロール)ストリップの配列を利用したシステムを示す図である。
金属のアプリケーションのための自動大気圧処理装置は、キャリアに運ばれた、かつ図3に示すロールツーロール配列の並列ワイヤまたはストリップの配置を利用してマスクされたワークピースに噴霧する。ロールツーロールのストリップの例は図５Ａ及び図５Ｂに詳述されている。図３の自動処理装置５０は、ロール５２から堆積ゾーン３０,３２及び３４を介してロール５８に向けてセグメント化されたワイヤまたはストリップ５４を回転させるロールツーロール配列を含む。ガイドローラ５６は、堆積ゾーンにあるセグメント化されたワイヤまたはストリップ５４の誘導を補助し位置決めし、張りを与える。
セグメント化されたワイヤまたはストリップ５４は、堆積ゾーン内の基板（ワークピース）１８上の金属被覆パターリングのためのシャドウマスクのような働きをする。セグメント化されたワイヤまたはストリップは、磁気または静電チャッキングをワークピースに使用して、ワークピースに取り付けかつ整合させることができる。このことは数ミリのオーダーの最小の大きさを有する粗い金属被覆の特徴の場合、基板から制御された垂直距離にマスキングストリップまたはマスキングプレートを配置し及び保持することによって。例えばトレイの一部になることができるスペーサーを用いることによって、または基板の上の定義された距離の地点にストリップを配置する、張力を付与されたガイドローラ(例えばガイドローラ５６等）用いることによって達成される。
図４の自動処理装置６０はキャリアに運ばれるワークピースへの金属スプレー（アルミニウム、亜鉛、亜鉛/アルミニウム合金、はんだ、銅等）のアプリケーションのために設計され、かつ並列のワイヤまたはストリップのその場での（in-situ)）洗浄を含む並列ワイヤまたはストリップの無限供給の配列を含む。セグメント化されたワイヤまたはストリップ６４はガイドローラ６２を使用して、堆積ゾーン３０,３２,及び３４を介して循環する。堆積ゾーン内の金属被覆処理でシャドウマスクとして使用した後、セグメント化されたワイヤまたはストリップ６４は、他の金属被覆サイクルに使われる前に、エッチング/洗浄セグメント６６及びライジング／乾燥セグメント６８を通過する。
図５Ａ及び図５Ｂは、それぞれ、セグメント化されたワイヤまたはストリップのローラ及びワークピース上の金属の熱噴霧被覆においてシャドウマスクとして使用するための、セグメント化されたワイヤまたはストリップを誘導するガイドローラを示す。図５Ａは、図３のロール５２からロール５８へ循環するセグメント化されたワイヤと同様、ロール７２上のセグメント化されたワイヤまたはストリップ７０を示す図である。図５Ｂは、図３及び図４におけるガイドローラ５６及びガイドローラ６２上で誘導されるセグメント化されたワイヤと同様、ガイドローラ７６上のセグメント化されたワイヤまたはストリップ７４を示す図である。
使い捨てシャドウマスクの１つバリエーションではて、金属被覆スプレーの衝撃に耐えうるテープ材料(例えば経済的に有利な安価な紙材料等)の並列アレイを所望のパターンを形成する堆積の前に基板に取り付け、堆積後除去することができる。この材料を金属被覆を望まない領域から金属とともに運ぶようにすればよい。この形式の処理は、テープ除去処理中に、下側にある基板から過度な金属剥離が発生しないように、基板接着性に対する特に良質な金属が必要となる。これによって基板からの過度な金属剥離を生じさせず、装置の信頼性につながる。
その場（in-situ)でマスクされるパターリングについての上記の二つの区別は、(図１に示すような)バッチトレイ内の基板と共に配置することができる不連続（discrete )マスクまたは、（図３に示すような）ロールツーロールデザインまたは（図４に示すような）無限／連続ロールデザインにおいて配置することができるストリップ／ワイヤである。両方の場合において - 不連続マスクかストリップ／ワイヤマスクが使用されるどうかに係わらず - シャドウマスクの材料は、単一のコーティングまたは所定の数の基板コーティングの後に捨てられる経済的な材料とすることもできる。またシャドウマスクの材料は、熱スプレー／アーク処理の間に、マスキングの材料の上に堆積される金属被覆の材料（例えばアルミニウム、亜鉛及び／またははんだ）を洗浄することによって何度も再利用できる材料でもよい。マスク洗浄処理は化学的に選択的(例えばマスク材料にダメージを与えない)とその場(in situ)、または言い換えれば噴霧被覆装置の一部として金属スプレー装置と一体化する、例えばシステム内のマスキングプレートまたはストリップ／ワイヤは、（図５に示すように）装置の最初に直接戻される。閉ループ配列において、コンベアベルト及び／またはバッチトレイは、加工済みのワークピースを下ろした後、次のワークピースのバッチを載せる前に（再び図５に示すように)戻り経路でリアルタイムに化学的に洗浄することができる。代わりに、マスク洗浄は分離した洗浄システムで行うこともできる、例えばマスク（及びサポーティングコンベアトレイ）から熱でスプレーされた材料の選択的化学除去によって、またはグリットブラスト、熱衝撃ブリスタリングまたは材料の機械的な研磨またはそれらの組み合わせ等の他の方法によって行うことができる。
断続的なマスキング及び連続的マスキングの組み合わせは、堆積サイクルが終わった後に基板トレイまたはトレイチェインからマスキングプレートを除去する、コーティングシステムの装置分と組み合わせてワークピース搬送システムの動きと同期させたマスキングプレートの動きを利用でき、内部の洗浄サイクルを介してマスキングプレートを供給でき、その後、次の金属被覆パス（図６に示す実施例）に再び使われるために、金属堆積システムのインプット側に直接戻ることができる。
図６は、図1に示す自動処理装置１０と同様、マスクされたキャリアに運ばれた一連のワークピース上への金属コーティングアプリケーションのための自動処理装置を示す代や直ぐラムであり、この装置はその場(in situ)で(またはツールの統合化)キャリア及びマスクの洗浄及びリサイクルをおこなうようになっている。上述したように、トレイ／マスクの洗浄及び再利用システム９０は、自動処理装置８０と一体化されており、金属被覆処理サイクルの後にマスク２８を除去及び洗浄するようになっている。そしてそれらを他の金属被覆処理サイクルために自動処理装置８０に戻すように供給する。図示のようにマスク２８は搬送システム９６（ (例えばコンベアベルト）によってクリーン及びエッチセグメント９２を介してリンス及び乾燥セグメント９２に移動する。
数ミリのオーダー上の最小の大きさの金属パターンを有する粗い金属被覆アライメントパターンが要求される場合 (例えば二つのレベルの金属被覆を有するバックコンタクト型IBC太陽電池に対して直交に配置された金属被覆等)が要求される場合、そのようなパターン化された金属被覆は、接触または近接マスキングなしで、むしろ基板に十分近い熱スプレーヘッドの並列アレイを配置することによって、及び重ね合わせた噴霧をすることなく（例えば並行な線パターンの隣接する並行な線の間の意図しない導電経路のない)所望のパターンの噴霧特性を有するスプレーを用いて、形成することができる。意図しない過剰噴霧も電気的にスプレービームをチャージすることによって回避することができる。この場合 、噴霧／金属被覆が望まれない領域でのノズル間の遮蔽壁の粗いグリッドを有する。遮蔽壁もスプレービームと同じ極性で帯電することができる - したがって噴霧粒子を排除するとともに分離した並行なスプレーラインをアシストする。上述したように図７は、分離を生成する遮蔽壁を有するスプレーノズルのアレイを使用して、ワークピース上の金属ラインパターン内で個別の噴霧堆積金属ラインを形成するシステムを示すダイヤグラムである。図７に示すように、帯電された分離壁１００によって分離され、かつ電気的に帯電したスプレービームを噴霧する個別のスプレーヘッド１０２は、基板１０６上に噴霧堆積金属ライン１０４を形成する。
ツール構成は、上述したように、基板(または基板を保持するトレイ)を堆積及び加熱ゾーンを介して移動させるコンベアベルト搬送システム(インライン堆積システム)を利用する。
代わりの搬送システムは、例えば、基板積載ゾーン、処理ゾーン、降ろしゾーン(積載ゾーンを兼ねることができる)及びトレイ、マスク及びハンドリングシステム洗浄ゾーンとの間の基板またはトレイの中の基板の回転供給を含んで、使用される。
さらに、提案されているプロセスは、金属噴霧堆積中に、接触または近接シャドウマスクを用いて基板上のオールドライプロセス（all-dry-process)を参照しつつ説明してきた。これとは別に、これに限るものではないが例えば、以下のような工程の組み合わせを使用することもまた可能である:
- 一つのあるいは複数の底部金属被覆層(例えばメインの高導電率アルミニウム金
属被覆層及びこれにつづく亜鉛接着層）は、接触または近接シャドウマスクを使用
しない熱噴霧を用いてブランケット状に堆積することができる。単一または複数の
頂部金属被覆層(例えば頂部はんだ層等)は、その後、パターン化された形状、例え
ばパターン化されたスクリーンプリンティング等、で堆積することができる。単一
または複数の頂部金属被覆層はその後エッチングマスクとして使用して、下地とな
る底部層を除去する。例えば、単層または複数層の頂部層及び他の基板のパーツを
エッチングせず、単層または複数層の底部層のみエッチングする選択的なウェット
またはドライエッチング反応を用いておこなう。例えば、アルミニウムまたはアル
ミニウム合金は底部層として使用することができ、はんだはリン酸及び酢酸との混
合物を含むまたは、代替的にカリウムまたはナトリウム水酸化物を含む選択的エッ
チング化学物質を用いて頂部層の１つとして用いて、アルミニウム及びアルミニウ
ム合金をエッチングすることができる。
- 基板上でブランケットのスプレーされたフィルムをパターン化するための代替的
な例は研削の配列または他の望まれない部分に堆積された金属を局所的に取り除く
研磨ホイールを使用することである。
図８ないし１０は、バックコンタクト型太陽電池デザインに対して供給されたワイヤ、粉末、その他から、噴霧装置に供給された金属源を用いて、大気噴霧金属層のアプリケーションについての例示的な実施形態を示すダイヤグラムである。図８ないし１０の金属被覆パターンは、第１の層金属の金属１ (噴霧された特徴サイズは小さく維持される)に対する熱的に噴霧された金属または合金を用いる。これは、第２の金属層の金属２に対しても同様であり、デザインルール及び特徴サイズは柔軟でありより粗くすることができる（言い換えると、より広い金属被覆ライン及びスペース)とすることができる。そして、図８ないし１０は二つのレベルの金属(それぞれが一つまたは複数の金属または合金を含む)を有するバックコンタクト型IBC太陽電池を示す一方、本願に示された方法及びシステムは、単一金属レベルのバックコンタクト型太陽電池、同様にフロント及びバックコンタクト型太陽電池にも適用され得る。本発明の実施形態のアプリケーションは太陽光発電に限られたものでなく、半導体マイクロエレクトロニクス、フラットパネルディスプレイ、オプトエレクトロニクス及びMEMS装置に限られたものではないが、それらを含む他の分野のアプリケーションを含む。
図８は、バックプレーンの絶縁体層（基礎となる金属１パターンの詳細のバックプレーン層は示されていない）の頂点に堆積された(例えばマスクに関するコストを減らすための直接書き込みパターンにおいて）またはプレート化された、高導電率金属フィンガのスプレーを使用する直交パターン転写を示すバックコンタクト型太陽電池の頂面のダイヤグラムである。金属１パターンは第１のレベル金属エミッタフィンガ１１８ (例えば熱的に噴霧された、スクリーンプリントされた、またはPVDで堆積された／レーザーアブレーションされた金属ベースフィンガ)及び第１のレベル金属ベースフィンガ１２０（ 例えば熱的にスプレーされた、スクリーンプリントされた、またはPVDで堆積された/レーザーアブレーションされた金属エミッタフィンガ)を有する。第１のレベル金属エミッタフィンガ１１８は、マルチレベルコンタクトの開口のトレンチ１２２及びトレンチ１２６を介して基礎となる太陽電池エミッタ領域と接触し、第１のレベル金属ベースフィンガ１２０はホール１２８を介して下側の太陽電池ベース領域と接触する。第２のレベル金属エミッタコンタクトフィンガ１１０ (例えばプレートされた銅または熱的にスプレーされた金属)は、第１の及び第２の金属被覆層の間に配置されたバックプレーン内のエミッタホール(例えば穿孔されたビアホール)を介して第１のレベル金属エミッタフィンガ１１８と接触する。第２のレベル金属ベースコンタクトフィンガ１１２ （例えばプレートされた銅または熱的にスプレーされた金属)は、第１の及び第２の金属被覆層の間に配置された裏プレーン内のベースホール１１６ (例えば穿孔されたビアホール)を介して第１のレベル金属ベースフィンガ１２０と接触する。
図１０は、バックプレーンによってサポートされた、平行金属被覆層を有するホモ接合バックコンタクト型太陽電池の断面図を示すダイヤグラムである。この構造は、図８に示された直交構造とは対照的な、平行な金属１及び金属２を示すことに注意すべきである。図９のバックコンタクト型電池は、n型ベースとして示された先端表面テクスチャのパッシベーション層１５０を有するシリコン基板１４２（例えばエピキャシタルシリコン基板またはシリコン基板に形成されたウェハー)を備える。先端表面テクスチャパッシベーション層は、任意でパッシベーション（passivation)層（例えば、熱的酸化物及び窒化ケイ素 (themal oxide plus silicon nitride)、アモルファスシリコン(a-Si)/SiN、アモルファスシリコン酸化物(a-Si-O)/SiN、真性アモルファスシリコン(i-a-Si)、または真性アモルファスシリコン酸化物(i-a-Si-O)/n型アモルファスシリコン(n-a-Si)/SiN)で覆われた先端表面のフィールド表面を有する、ランダムにテクスチャ化されたピラミッド構造のような、テクスチャ化された構造を備える。第１のレベル金属エミッタコンタクト１３４はp++エミッタコンタクト１３６においてp+エミッタ層１４８と接触し、第１のレベル金属ベースコンタクト１３８はn+ベースコンタクト１４０でn型シリコン基板１４２と接触する。ホウケイ酸（boron silicate)ガラス層１４８及び亜リンケイ酸ガラス層１４６はバックコンタクト型太陽電池の製造の間の太陽電池のドーピング処理に使用される。バックプレーン１３２は、第１のレベルエミッタコンタクト１３４及び第１のレベルベースコンタクト１３８ (例えばアルミニウム、ケイ酸アルミニウムまたは熱的にスプレーされたアルミニウム、ケイ酸アルミニウム、アルミ亜鉛(Al+Zn))を有する第１のレベル金属被覆パターン及び第２のレベルエミッタコンタクト１３０及び第２のレベルベースコンタクト１４４ (例えば熱的にスプレーされたAl/Znを有するアルミニウム)を有する第２のレベル金属被覆パターンとの間に形成される。第１のレベル金属被覆パターン及び第２のレベル金属被覆パターンはバックプレーン内で形成された(例えばレーザー穿孔の工程によって)ビア／ホールを介して接触される。
図１０は、第１のレベル金属エミッタコンタクト１３４が、絶縁層１５６(例えばトンネル絶縁体層上のアモルファスケイ素)上に配置されたp++エミッタ層１５２(例えばポリシリコンゲルマニウムのエミッタ層)と接触する点及び第１のレベル金属ベースコンタクト１３８がn+ベースコンタクト１５４(例えばレーザードーピングされた）と接触する点以外は図９のホモ接合太陽電池と似ている、バックプレーンによってサポートされた、平行金属被覆層を有するヘテロ接合バックコンタクト型太陽電池の断面図を示す図である。
図９及び図１０に示された金属被覆コンタクトは、図８に示されたようにラインパターンで形成することができる。スプレーされた、特に第１のレベル金属のための金属ラインは、同様の金属、合金、または金属積層、またはエミッタ及びベースコンタクト両方に対しての金属積層を含むことができる。しかし、同じレベルのエミッタコンタクト金属およびベースコンタクト金属は異なっていても良い。さらに、同じレベルのエミッタコンタクト金属及びベースコンタクト金属はワークピースを後のスプレー堆積ステーションに搬送して連続するパス内で、または異なる金属または合金ソースを有する専用のノズルを使用して(することによって)同一のパスでスプレーされても良い。連続するスプレー堆積において、中間の熱処理を用いても良い。金属被覆の後の最終の熱の処理、同様にスプレーアプリケーションの間の熱処理は、結果として生じるスプレーされたワークピースの備わったビルトイン（built-in)応力を軽減するために使用することができ、結果として金属層の密着性を改善し、ワークピースの反りを低減することができる。書き込み多層構造(例えば、太陽電池のベース及びエミッタ領域に接触しているアルミニウムを有する金属の第１の層の後に、ビアを介して第２のレベル金属と金属2の接触抵抗をより低くするためにアルミニウム亜鉛合金で形成された頂部層が続く)によって基板上に直接金属ラインまたはパターンを書き込むこともまた可能である。
本願で説明した実施形態は主として、バックプレーン上に支持された、非常に薄い(例えば数ミクロンからほぼ100ミクロンまで)単結晶シリコン吸収体層を利用するバックコンタクト／バック接合結晶シリコン太陽電池と併せて説明されてきたが、開示した主題の特徴は、当業者によって、以下に限られたものではないが、フロントコンタクト型太陽電池、及び非結晶シリコン太陽電池及びGaAs,GaN,Ge 及び／または他のエレメンタル及びコンパウンド半導体から形成されたようなモジュールを有するような太陽電池を備えるＰＶモジュール、及び結晶半導体ウェハー(例えば結晶シリコンウェハー)から形成された、バックコンタクト／フロント接合、バックコンタクト／バック接合及びフロントコンタクト太陽電池を含むウェハーベース太陽電池を含む、他の太陽電池及びモジュールの実装に適用されることができることを理解するべきである。
上記例示的な実施態様の説明は当業者が請求項の記載された主題を製造し使用することができるようにするために提供されている。これらの実施態様に対する様々な修正が当業者にとって容易に明白となる。そして本書で定義された一般的な原理は革新的な能力を用いことなく他の実施態様へ適用することができる。したがって、請求項に記載された主題は本書に示された実施態様に限定されることを意図しておらず、本書に開示された原理と新規な特徴に整合する最大の範囲に従うべきものである。
１０：自動処理装置
１２、１４、１６：スプレーガン
１８：ワークピース
２０：隔離ガスカーテン
２２：キャリアロードステーション
２４：キャリアアンロードステーション
２６：温度制御装置
２８：マスク
３０、３２、３４：堆積ゾーン
３６：ベルトコンベア
３８：加熱ゾーン
４０：キャリア
５０：自動処理装置
５２、５８：ロール
５４、７４：ストリップ
５６、６２、７６：ガイドローラ
６０：自動処理装置
６２：ガイドローラ
６４：ストリップ
６６：エッチング/洗浄セグメント
６８：ライジング／乾燥セグメント
８０：自動処理装置
９０：再利用システム
９２：クリーン及びエッチセグメント
９６：搬送システム
１００：帯電された分離壁
１０２：スプレーヘッド１０２
１０４：噴霧堆積金属ライン
１０６：基板
１１０：第２のレベル金属エミッタコンタクトフィンガ
１１２：第２のレベル金属ベースコンタクトフィンガ
１１６：ベースホール
１１８：第１のレベル金属エミッタフィンガ
１２０：第１のレベル金属ベースフィンガ
１２２、１２６：トレンチ
１２８：ホール
１３０：第２のレベルエミッタコンタクト
１３２：バックプレーン
１３４：第１のレベル金属エミッタコンタクト
１３６：p++エミッタコンタクト
１３８：第１のレベル金属ベースコンタクト
１４０：n+ベースコンタクト１４０
１４２：n型シリコン基板
１４４：第２のレベルベースコンタクト
１４６：亜リンケイ酸ガラス層
１４８：ホウケイ酸（boron silicate)ガラス層
１５０：先端表面テクスチャのパッシベーション層
１５２：p++エミッタ層
１５４：n+ベースコンタクト
１５６：絶縁層

Claims (18)

  1. 複数のワークピースを金属被覆する処理装置であって、
    堆積ゾーンを少なくとも一つ有する外部酸化環境から隔離された制御された大気領域と、
    前記堆積ゾーンが前記ワークピースを金属被覆するためのスプレーガンを少なくとも一つを含んでおり、さらに、
    前記ワークピースを前記制御された大気領域を介して移動させる搬送システムと、
    前記ワークピースを前記制御された大気領域を介して支持するバッチキャリアプレートと、
    を備える処理装置。
  2. さらに、前記ワークピース上の金属被覆パターンを露出させかつ画定させるシャドウマスクを備えた請求項１に記載の処理装置。
  3. 前記シャドウマスクが前記ワークピース上に位置決めされた不連続のパターンを有するマスクである請求項２に記載の処理装置。
  4. 統合化されたマスク洗浄システムをさらに含む請求項２に記載の処理装置。
  5. 前記シャドウマスクがロールツーロール配列で配置されたストリップである請求項２に記載の処理装置。
  6. 前記シャドウマスクが連続的なストリップ配列で配置されたストリップである請求項２に記載の処理装置。
  7. さらに、ストリップ洗浄セグメントを備えた請求項６に記載の処理装置。
  8. 堆積ゾーンにおいてのワークピースの温度を調整する温度コントローラを含む請求項１に記載の処理装置。
  9. 自動処理装置を含む、複数のバックコンタクト型太陽電池の金属被覆システムであって、
    該自動処理装置が；
    少なくとも一つの堆積ゾーンを含む外部酸化環境から隔離された制御された大気領域と、
    前記堆積ゾーンが太陽電池のバックコンタクトの金属被覆をするためのスプレーガンを少なくとも一つ含むものである堆積ゾーンと、
    前記太陽電池の金属被覆パターンを露出させ及び画定させるシャドウマスクと、
    前記太陽電池を前記制御された大気領域を介して移動させる搬送システムと、
    前記太陽電池を前記制御された大気領域を介して支持するバッチキャリアプレートと、
    を備えており、かつ、
    前記バックコンタクト型太陽電池が、
    ベース端子とエミッタ端子を含む第１の金属被覆パターンを有した半導体基板と、
    前記バックコンタクト型太陽電池の裏面側に配置され、ベース端子とエミッタ端子にアクセスを提供する経路とを含むバックプレーンと、を備えている、金属被覆システム。
  10. 前記ワークピース上の金属被覆パターンを露出させかつ画定させるシャドウマスクを有する請求項９に記載の金属被覆システム。
  11. 前記シャドウマスクがワークピース上に位置決めされた不連続のパターンを有するマスクである請求項１０に記載の金属被覆システム。
  12. 統合化されたマスク洗浄システムを有する請求項１０に記載の金属被覆システム。
  13. 前記シャドウマスクがロールツーロール配列で配列されたストリップである請求項１０に記載の金属被覆システム。
  14. 前記シャドウマスクが連続したストリップ配列で配置されたストリップである請求項１０記載の金属被覆システム。
  15. さらに、ストリップ洗浄セグメントを有する請求項１４に記載の金属被覆システム。
  16. 半導体基板上のベース端子とエミッタ端子を含む前記第１の金属被覆パターンが櫛形金属被覆パターンである請求項９に記載の金属被覆システム。
  17. 前記堆積ゾーンにおいてのワークピースの温度を調整する温度コントローラを有する請求項９に記載の処理装置。
  18. 複数のワークピースを金属被覆する処理装置であって、
    少なくとも一つの堆積ゾーンを含む外部酸化環境から隔離された制御された大気領域と、
    前記堆積ゾーンが前記ワークピースを金属被覆するためのスプレーガンを少なくとも一つ含んでおり、
    さらに、前記ワークピースの金属被覆パターンを露出させかつ画定させるシャドウマスクと、
    前記ワークピースを前記制御された大気領域を介して移動させる搬送システムと、
    前記ワークピースを前記制御された大気領域を介して支持するバッチキャリアプレートと、
    前記堆積ゾーンにおいてのワークピースの温度を調整する温度コントローラと、
    を備える処理装置。
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