JP2015502023A5 - - Google Patents

Claims (24)

1. スキマー装置を備える質量分光計の真空インターフェースを準備し、または動作させる方法であって、前記スキマー装置は、スキマー開口部と、前記スキマー装置の内部表面とを有し、前記方法は、吸着性材料またはゲッタ材料を前記内部表面上に配置するステップを含む方法。
2. 前記内部表面が、従前のあるいは現在のプラズマ流からの物質を堆積し得る堆積領域を備え、前記材料が、前記内部表面の少なくとも前記堆積領域の、少なくとも一部分に配置される請求項１に記載の方法。
3. 前記配置ステップが、前記スキマー装置の最初の使用の前に行われる請求項１または２に記載の方法。
4. 前記配置ステップが、前記スキマー装置の少なくとも最初の使用の後に行われる請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記配置ステップが、従前に配置された材料をリフレッシュするために断続的に行われる請求項３または４に記載の方法。
6. 前記材料が、薄膜として設けられる請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 前記薄膜が、単層または単層に近い厚さである請求項６に記載の方法。
8. 前記材料が、スパッタリングまたは、前記材料の昇華によって前記内部表面上に配置される請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
9. 前記材料が、前記材料のフィラメント、ロッドまたはペレットの１つ以上に局部加熱を行うことによって前記スキマー装置内に配置される請求項８に記載の方法。
10. 前記材料が、前記材料を機械的に導入することによって膨張プラズマ中に配置される請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
11. 前記材料が、チタンである請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
12. 前記材料が、金属、好ましくはチタン、ガラス、蒸発性ゲッタ、非蒸発性ゲッタ、セラミックス材料、沸石、ゲッタ材料と併用した沸石、ゲッタ被覆スポンジ、アルミニウムスポンジの１つ以上および、炭素または活性炭を備える請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
13. 前記スキマー開口部を通して膨張プラズマをスキミングするステップと、前記スキマー装置に隣接する前記スキミングされたプラズマの一部分を、前記吸着性材料またはゲッタ材料で収集することによって、前記一部分を前記スキミングされたプラズマの残部から前記スキマー装置内で分離するステップとをさらに含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法ステップを含むプラズマ質量分光法を行う方法。
15. 質量分光計の真空インターフェースのためのスキマー装置であって、内部表面と、前記スキマー装置を通してプラズマをスキミングするためのスキマー開口部で、かつスキミングされたプラズマが前記スキマー開口部の下流に流すためのスキマー開口部と、前記スキマー装置の前記内部表面上に配置された吸着性材料またはゲッタ材料とを備えるスキマー装置。
16. 前記内部表面が、従前のあるいは現在のプラズマ流からの物質を堆積し得る堆積領域を備え、前記材料が、前記内部表面の少なくとも前記堆積領域の少なくとも一部分に配置される請求項１５に記載の装置。
17. 前記吸着性材料またはゲッタ材料が、未使用のスキマー装置の前記内部表面上に配置される請求項１５または１６に記載の装置。
18. 前記吸着性材料またはゲッタ材料が、使用されたスキマー装置の前記内部表面上に配置される請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の装置。
19. 従前に配置された材料をリフレッシュするために断続的に吸着性材料またはゲッタ材料を前記内部表面に配置するための手段をさらに備える請求項１８に記載の装置。
20. 前記材料が、薄膜である請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の装置。
21. 前記薄膜が、単層または単層に近い厚さである請求項２０に記載の装置。
22. 前記材料が、チタンである請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の装置。
23. 前記材料が、金属、好ましくはチタン、ガラス、蒸発性ゲッタ、非蒸発性ゲッタ、セラミックス材料、沸石、ゲッタ材料と併用した沸石、ゲッタ被膜スポンジ、アルミニウムスポンジの１つ以上および、炭素または活性炭を備える請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の装置。
24. 請求項１５〜２３のいずれか１項に記載の前記スキマー装置を備えるプラズマ質量分光計。