CN104637773B - 质谱仪一级真空结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种质谱仪一级真空结构,包括内有进样腔室的进样锥、安装在进样锥后侧且前端伸入进样腔室并内有聚焦腔室的聚焦环、安装在聚焦环后侧且前端伸入所述聚焦腔室并内有截取腔室的截取锥以及支撑部件,进样腔室与聚焦腔室以及截取腔室依次连通且进样锥安装在支撑部件前端,聚焦环和截取锥安装在支撑部件内部,支撑部件的周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口;本发明设计四周对称的排出口,并且使排出口的设计尽可能的靠近截取锥的后侧,同时进一步在聚焦环的后侧设计与排气口相通的通道,不仅使得流体流动稳定,并进一步延长了有效离子的运动路程,如此可以保存更多的被测样品,进一步提高测试结果的灵敏度。
Description
技术领域
本发明涉及分析检测仪器技术领域,尤其是涉及一种质谱仪的真空结构。
背景技术
在目前的质谱仪结构中,为了获得较好的检测,需要使得雾化干燥效果良好的待测液滴进入锥口,因此往往会在进样锥和聚焦环之间设置机械泵与真空腔体的联接结构,将不必要的物质尽可能的带走,但目前的设计,机械泵与真空腔体的联接被布置在进样锥和聚焦环之间且位于一侧,从离子源以及零号锥前端喷出的被测液体(其中包含有较大的液滴一级干燥雾化效果较好的气体),在现有的结构中,机械泵产生的作用将对相对稳定和常态的流动造成较大的扰动,更重要的是,此结构会带走相对较多的被测样品,由于质谱仪属于精密测量,此种情况会影响测试阶段的测试峰的灵敏度,从而对测试结果造成不良影响,因此有必要寻找一种更好的结构来减少或避免此类情况的出现。
发明内容
有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本发明提供了一种质谱仪一级真空结构,包括:
内有进样腔室的进样锥、安装在所述进样锥后侧且前端伸入所述进样腔室并内有聚焦腔室的聚焦环、安装在所述聚焦环后侧且前端伸入所述聚焦腔室并内有截取腔室的截取锥以及支撑部件,所述进样腔室与所述聚焦腔室以及所述截取腔室依次连通且所述进样锥安装在所述支撑部件前端,所述聚焦环和所述截取锥安装在所述支撑部件内部,所述支撑部件的周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口。
与现有技术相比,在现有的结构中,目前设计中机械泵产生的作用将对相对稳定和常态的流动造成较大的扰动,更重要的是,此结构会带走相对较多的被测样品,从而影响测试阶段的测试峰的灵敏度,对测试结果造成不良影响;而本发明设计四周对称的排出口,并且使排出口的设计尽可能的靠近截取锥的后侧,同时进一步在聚焦环的后侧设计与排气口相通的通道,不仅使得流体流动稳定,并进一步延长了有效离子的运动路程,如此可以保存更多的被测样品,进一步提高测试结果的灵敏度。
另外,本发明公开的质谱仪一级真空结构还具有如下附加技术特征:
进一步地,所述排气出口对称安装在所述支撑部件外壁且与所述聚焦腔室连通。
进一步地,所述排气出口安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件结合部位的后侧。
进一步地,所述排气出口还具有和所述进样腔室连通的连通通道。
进一步地,所述排气出口数量为2n个且围绕所述支撑部件圆周均布,n为自然数。
进一步地,所述排气口相对于所述截取锥的中轴线为向心设计或偏心设计。
本发明还公开了一种相应的方法,包括:
待测样品经离子化后经所述进样锥进入所述进样腔室,通过机械泵通过安装在所述支撑部件周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口使所述进样锥和所述截取锥之间连通的空间形成一级真空,所述截取锥之后形成二级真空,待测样品随负压及电场作用下穿过所述聚焦环进入所述截取锥。
进一步地,,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿对称安装在所述支撑部件外壁且与所述聚焦腔室连通的所述排气出口排出。
更进一步地,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件结合部位后侧的所述排气出口排出。
进一步地,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿和所述进样腔室连通的所述排气出口的连通通道排出。
进一步地,所述排气出口数量为2n个且围绕所述支撑部件圆周均布,n为自然数。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是本发明的横截面示意图;
其中,1进样锥,2聚焦环,3截取锥,4支撑部件,5排气出口,6连通通道。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能解释为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语 “上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“联接”、“连通”、“相连”、“连接”、“配合”应做广义理解,例如,可以是固定连接,一体地连接,也可以是可拆卸连接;可以是两个元件内部的连通;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连;对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面将参照附图来详细描述根据本发明的质谱仪一级真空结构,其中,图1是本发明的横截面示意图。
如图1所示,本发明具体实施例的质谱仪一级真空结构,包括:
内有进样腔室的进样锥1、安装在所述进样锥1后侧且前端伸入所述进样腔室并内有聚焦腔室的聚焦环2、安装在所述聚焦环后侧且前端伸入所述聚焦腔室并内有截取腔室的截取锥3以及支撑部件4,所述进样腔室与所述聚焦腔室以及所述截取腔室依次连通且所述进样锥1安装在所述支撑部件4前端,所述聚焦环2和所述截取锥3安装在所述支撑部件4内部,所述支撑部件4的周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口5。
根据本发明的一些实施例,所述排气出口5对称安装在所述支撑部件4外壁且与所述聚焦腔室连通。
根据本发明的一些实施例,所述排气出口5安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件4结合部位的后侧。
根据本发明的一些实施例,所述排气出口5还具有和所述进样腔室连通的连通通道6。
根据本发明的一些实施例,所述排气出口5数量为2n个且围绕所述支撑部件4圆周均布,n为自然数。
根据本发明的一些实施例,所述排气口5相对于所述截取锥3的中轴线为向心设计或偏心设计。
本发明还提供了相应的方法:
根据本发明的一些实施例,待测样品经离子化后经所述进样锥1进入所述进样腔室,通过机械泵通过安装在所述支撑部件4周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口5使所述进样锥1和所述截取锥3之间连通的空间形成一级真空,所述截取锥3之后形成二级真空,待测样品随负压及电场作用下穿过所述聚焦环2进入所述截取锥3。
根据本发明的一些实施例,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿对称安装在所述支撑部件4外壁且与所述聚焦腔室连通的所述排气出口5排出。
根据本发明的一些实施例,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件4结合部位后侧的所述排气出口5排出。
根据本发明的一些实施例,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿和所述进样腔室连通的所述排气出口5的连通通道排出。
根据本发明的一些实施例,所述排气出口数量为2n个且围绕所述支撑部件4圆周均布,n为自然数。
尽管参照本发明的多个示意性实施例对本发明的具体实施方式进行了详细的描述,但是必须理解,本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例,这些改进和实施例将落在本发明原理的精神和范围之内。具体而言,在前述公开、附图以及权利要求的范围之内,可以在零部件和/或者从属组合布局的布置方面作出合理的变型和改进,而不会脱离本发明的精神。除了零部件和/或布局方面的变型和改进,其范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (11)
1.一种质谱仪一级真空结构,其特征在于,包括:内有进样腔室的进样锥、安装在所述进样锥后侧且前端伸入所述进样腔室并内有聚焦腔室的聚焦环、安装在所述聚焦环后侧且前端伸入所述聚焦腔室并内有截取腔室的截取锥以及支撑部件,所述进样腔室与所述聚焦腔室以及所述截取腔室依次连通且所述进样锥安装在所述支撑部件前端,所述聚焦环和所述截取锥安装在所述支撑部件内部,所述支撑部件的周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口。
2.根据权利要求1所述的质谱仪一级真空结构,其特征在于,所述排气出口对称安装在所述支撑部件外壁且与所述聚焦腔室连通。
3.根据权利要求1所述的质谱仪一级真空结构,其特征在于,所述排气出口安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件结合部位的后侧。
4.根据权利要求1所述的质谱仪一级真空结构,其特征在于,所述排气出口还具有和所述进样腔室连通的连通通道。
5.根据权利要求1所述的质谱仪一级真空结构,其特征在于,所述排气出口数量为2n个且围绕所述支撑部件圆周均布,n为自然数。
6.根据权利要求1所述的质谱仪一级真空结构,其特征在于,所述排气口相对于所述截取锥的中轴线为向心设计或偏心设计。
7.一种应用于权利要求1-6任一所述的质谱仪一级真空结构的方法,其特征在于,待测样品经离子化后经所述进样锥进入所述进样腔室,通过机械泵通过安装在所述支撑部件周边具有对称设置且连通内部腔室的排气出口使所述进样锥和所述截取锥之间连通的空间形成一级真空,所述截取锥之后形成二级真空,待测样品随负压及电场作用下穿过所述聚焦环进入所述截取锥。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿对称安装在所述支撑部件外壁且与所述聚焦腔室连通的所述排气出口排出。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿安装在所述聚焦腔室和所述支撑部件结合部位后侧的所述排气出口排出。
10.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述待测样品中不带电荷的中性溶剂和杂质分子沿和所述进样腔室连通的所述排气出口的连通通道排出。
11.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述排气出口数量为2n个且围绕所述支撑部件圆周均布,n为自然数。
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