JP2015233107A - 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】半導体露光装置において、複数のウェハステージを構成し、露光レイアウトを露光中のステージと露光エリアへ駆動する他方のステージが干渉する第一露光領域と、干渉しない第二露光領域とに領域分割し、露光中に干渉しない第二露光領域を露光中に計測エリア側のステージが露光エリアに移動する露光方法を提供すること。【解決手段】半導体露光装置において、複数のウェハステージを構成し、露光レイアウトを露光中のステージと露光エリアへ駆動する他方のステージが干渉する第一露光領域と、干渉しない第二露光領域とに領域分割し、露光中に干渉しない第二露光領域を露光中に計測エリア側のステージが露光エリアに移動することを特徴とする。【選択図】 図１

Description

本発明は、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法に関する。

特許文献１には、投影光学系の最終レンズ面と基板の表面との間を液体に浸漬し、投影光学系及び液体を介して基板に露光する、いわゆる液浸露光装置が開示されている。

図８を用いて従来の露光装置並びに露光方法を説明する。図８はウェハへパターンを転写する露光エリアと、ウェハの位置合わせ（アライメント計測）やウェハ表面の高さ計測（フォーカス計測）などを行う計測エリアを持つ露光装置である。二つのエリアで二つのステージをそれぞれ駆動させることで、並行処理が可能となるので生産性を向上することができる。

まず、露光エリアの構成について説明する。原版であるレチクルパターンを縮小露光するための投影光学系１と、レチクルに均一に照明光を導光するための照明光学系２とウェハ３を精度良く所定の露光位置に送り込むためのウェハステージ４と、レチクルを搬入し精度良く所定の位置にレチクルを送り込むためのレチクルステージユニット１０が構成されている。

照明光学系２から導光された露光光は、レチクルステージユニット１０に搭載されたレチクル１２を均一に照明する。投影光学系１は前記露光光の投影を受け、レチクルパターンをウェハ３上へ縮小投影する。

近年、一般的になっているスキャン露光の場合、レチクルステージユニット１０とウェハステージ４を同期させながら露光する。

次に計測エリアの構成について説明する。計測エリアの代表的な計測システムであるアライメント検出系５とフォーカス検出系６，７について述べる。まず、アライメント検出系５は光源、照明系、結像光学系、センサーが内部に構成されている。ウェハ上に構成されたアライメントマークへ光源から出た光を照明系によって均一に照射する。アライメントマークの像は結像光学系により、センサー上に結像される。結像されたアライメントマークの像を計算処理することで、位置ずれ量を算出する。この測定を複数のショットで行い、それらの計測結果を元にウェハ上の位置ずれ量を取得する。露光エリアではこの位置ずれ量を元に、下地のパターンとこれから露光するパターンを精密に重ね合わせて露光する。

フォーカス検出系６，７は斜入射型のものが良く知られている。照射側６には光源と投影マーク、並びにウェハ上に投影マークを結像する光学系が構成されている。受光側７には結像光学系、センサーが構成されている。光源から照射された光は内部の投影マークを照らし、結像光学系によってウェハ上に投影マークを結像させる。ウェハ上で反射した投影マークは受光側７の結像光学系により、センサー上に結像される。斜入射によってマークを投影しているため、ウェハの表面の高さ分布がセンサ上の結像位置の変化となって現れることから、フォーカスを計測することができる。

二つのステージの動きについて、図９と図１０を用いて説明する。また、図４（ａ）に２ステージ駆動のシーケンスを示す。図９中の一点破線の交点が露光中心２４、点線で囲まれた領域が露光時のステージの駆動範囲２５である。

レイアウトにおいて、ショットの縦の並びを「列」、横の並びを「行」と呼ぶことにする。また、露光シーケンスにおいて行を変える動作を「改行」と呼ぶ。同一行間でのショット移動と異なる行間でのショット移動の差分を改行時間と定義し、露光処理時間とは別途時間がかかる。

露光エリアでは、時間がかかる改行回数を減らすため、一行ずつ露光処理を終わらせるシーケンスを用いることが多い。つまり図１０に示したように、ウェハステージ４の両端に構成したキャリブレーション基準２１、２２でステージの原点だしを行った後、左右へ大きく駆動しながら露光処理を進めることを示す。

キャリブレーション基準とは、露光エリアへ駆動した後の原点だしなどのキャリブレーション計測を行うためのセンサーやマークが構成されている部分を指す。露光前にステージのキャリブレーション計測を行い、ステージ位置や姿勢を補正してから露光開始することが一般的である。ウェハステージ４の傾きや回転を計測する場合は、左右に構成したキャリブレーション基準２１、２２の両者を計測する必要がある。ロット内などのウェハステージ姿勢が比較的安定した状態では、ウェハステージの位置出しのみであるため、どちらか片方のみ測定すればよい。

この露光処理中に、計測エリアのステージ４Ｂではアライメント計測やフォーカス計測を進める。ステージ４Ａの露光処理とステージ４Ｂの計測処理が両者とも終わったら、両ステージを入れ替える。

通常の露光装置であれば、どこでステージ４Ａと４Ｂを入れ替えても良い。しかし、液浸露光装置の場合、ステージ４Ａから４Ｂへ投影光学系下に張られた液を受け渡さなければいけない。このため、両ステージを接し、液が投影光学系下で保持されたまま、ステージの入替を行う。

入れ替えられたステージ４Ａはウェハ搬出位置まで駆動し、露光済みウェハと未露光ウェハを載せかえて、計測エリアで計測処理を行う。

ステージ４Ｂは露光エリアでのキャリブレーション計測を行った後、露光を開始する。ステージ４Ｂの露光処理とステージ４Ａの計測処理が両者とも終わったら、両ステージを入れ替える。以下、同様の処理と駆動を繰り返し行う。

特開２００８−１３０７４５号公報

従来の露光装置では、改行処理を減らして露光処理時間を短縮するため、一行ずつ露光していくことが一般的である。この場合、図９（ａ）を見てもわかるように、計測エリアで行う計測処理がいくら早く終わったとしても、ステージ同士が干渉しないように露光エリアのステージ駆動領域外で待機しなければならない。露光処理が終了したら、他方のステージが待機位置から露光エリアの露光位置まで駆動し、露光終了したステージと入れ替えを行う。このときの入れ替えを行う位置まで駆動する時間が、生産性を低下させる一要因となっている。

そこで、本発明は計測処理が終わったステージを片方のステージが露光処理中でも、並行して露光エリアへ駆動する露光方法を提供することを目的とする。

本発明に係る露光方法の構成は、
複数のウェハステージを構成し、原版のパターンをウエハステージ上に載置されたウェハ上へ繰り返し投影露光する露光装置であって、さらにウエハステージ上に載置された第一のウエハ上に原版のパターンを投影露光している間に、他の少なくとも一つのウエハステージ上に載置された第二のウエハ上の位置情報を並行して計測する露光装置であって、
ウエハ上に繰り返し投影される行・列を有する格子状に配列された複数のパターンから構成される露光レイアウトを第一の領域と第二の領域に分割し、
第一の領域を露光した後に第二の領域を露光し、
第一のウエハ上の第二の領域に原版のパターンを露光中に、第二のウエハを載置したウエハステージを、第一のウエハを載置したウエハステージに隣接する待機位置へ移動を開始することを特徴とする。

本発明によれば、計測処理が終わったステージを他方のステージが露光処理中でも、並行して露光エリアへ駆動することで、露光処理にかかる時間を低減する露光方法を提供することができる。

本発明の第１実施形態の領域分割を示した図である。 本発明の第１実施形態の露光方法を示した図である。 本発明の第１実施形態の領域分割を示した図である。 本発明の第１実施形態のフローチャートを示した図である。 本発明の第２実施形態の領域分割を示した図である。 本発明の第２実施形態のフローチャートを示した図である。 本発明の第３実施形態の露光方法を示した図である。 本発明の第３実施形態の露光方法を示した図である。 従来の露光装置の模式図である。 従来の露光方法を示した図である。 従来の露光領域を示した図である。

以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。

〔第１実施形態〕
図１と図２は本発明の第１実施形態の露光方法の図であり、図４は一連の露光シーケンスを示す。

本実施形態では、露光時にレイアウトを二つの領域に分けて露光することを提案する。計測エリアから露光エリアへステージ４Ｂが駆動する際に必要な空間は、ステージの大きさやフットプリントで決定される。これより、露光エリアのステージ４Ａがどの範囲にあれば、ステージ４Ｂが露光エリアへ駆動できるか算出できる。したがって、計測エリアでの計測を終了したステージ４Ｂが露光エリアに向かって駆動するのと並行して、ステージ４Ａが露光できるショットレイアウトも決定されるため、図１のような領域分けを行うことができる。

ステージ４Ｂが露光エリアへ駆動しない間（計測エリアで計測中）に露光処理を行う領域を第一露光領域、ステージ４Ｂが露光エリアへ駆動する間に並行して露光処理を行う領域を第二露光領域と呼ぶ。

第二露光領域は、ステージ４Ｂが駆動する側に設けられる。この二領域を露光するために考えられる露光動作の一例として、図２を挙げる。

これらによれば、ステージ４Ａは露光エリアで第一露光領域を順に露光する。この間計測エリアではステージ４Ｂに搭載されたウェハのアライメント計測やフォーカス計測を行う。ステージ４Ａの第一露光領域が終了すれば、第二露光領域の露光へ移る。第二露光領域の露光をステージ４Ａが始めていれば、ステージ４Ｂは計測がすべて終了し次第、露光エリアへの駆動を開始することができる。

これによりステージ４Ｂの計測エリアから露光エリアへの駆動の全部もしくは一部が、ステージ４Ａの露光作業と並列処理となる。露光処理としては、領域を分割するため改行が増加することにより、露光処理時間が増加する。

そこで、本提案のレイアウト決定の基準として以下の条件・関係を満たす必要がある。
（Ｉ）第二露光領域列数 ≦ 他方ステージの露光エリアへのステージ駆動が並行して行える最大の露光列数
（ＩＩ）並列処理となる駆動時間 ≧ 増加した改行数×１回の改行時間
前記（Ｉ）式は前述したように、ステージの大きさやフットプリントから求めたられる最大列数で決まる。第二露光領域列数を最大列数以下としているのは、（ＩＩ）式の条件があるためであり、露光エリアへのステージ駆動をなるべく長時間並列処理することを考えると、より最大列数に近い列数を取ることが望ましい。

前記（ＩＩ）式の左辺は、計測ステーションでの計測を終えたステージが露光待機エリアへ駆動するための時間のうち、露光処理と並列処理となる時間を示す。前記（ＩＩ）式の右辺は、露光領域を第一と第二に分割したことより増加する改行時間を示す。所要時間として、短くなる要素の左辺と長くなる要素の右辺を比較して左辺がより大きくなる条件を算出する。なお、並行処理となる駆動時間や一回の改行時間は、露光時の条件設定でほぼ決まる値である。もしくは前ロット以前の結果を実績値として記憶しておいて使用しても良い。

図３（ａ）と図３（ｂ）に図１から改行数を減らしたレイアウトを例としてあげる。図３（ａ）は図１から第二露光領域の列数を減らしたレイアウトである。ウエハは円形状をしているため、列数が減ってウェハの端面に近づくにつれ行数が減少する。これを利用して、列数を減らすことで改行数を減らしている。

図３（ｂ）は図１と列数が同じであるが、最初の数行を第一領域として露光することで改行数を減らしている。露光直前のキャリブレーション計測においてキャリブレーション基準は２１、２２のどちらを使うか、両方を計測する場合はどちらを後にするか、またレイアウトの行数が奇数か偶数かによって露光時の経路が変わる。

図３（ｃ）〜（ｆ）でそれぞれの組み合わせによる露光順の例を挙げる。以上の露光方法を図４のシーケンスに沿って説明する。図４（ａ）〜（ｃ）は横方向が時間軸で、ステージ４Ａとステージ４Ｂでのそれぞれの処理を示しており、図４（ｂ）が本実施形態に相当する。図４（ｂ）をフローチャートにしたものが図４（ｄ）である。露光エリアにて、ステージ４Ａの露光処理（４ｂ−１）に並行して、ステージ４Ｂは計測エリアでアライメント計測やフォーカス計測を行う（４ｂ−２）。

このときステージ４Ａは図１で挙げた領域分割により、第一露光領域を露光処理している。引き続きステージ４Ａが第二露光領域の露光処理に移った際に、計測エリアでの計測処理を終えたステージ４Ｂは、露光エリアへの駆動を開始する（４ｂ−３）。

ステージ４Ａが第二露光領域の露光処理を行っているため、ステージ同士の干渉は起こらず、ステージ４Ａとの入替位置まで駆動する。ステージ４Ａの露光処理が終了し、ほぼ待機時間無く、ステージ４Ａと４Ｂの入替作業を行う（４ｂ−４）。液浸露光装置の場合は、投影光学系下の液がこぼれないように、液の受渡しを行う。

入替を終了したステージ４Ａはウェハ搬出位置まで駆動して、露光終了したウェハを搬出し、未露光のウェハを搭載する。未露光ウェハを搭載したステージ４Ａは計測エリアにてアライメント計測やフォーカス計測を行う（４ｂ−５）。

入替が終了したステージ４Ｂは、露光エリアでのキャリブレーション計測を行い、露光を開始する（４ｂ−６）。ステージ４Ｂの露光でもステージ４Ａと同様にレイアウトを第一露光領域と第二露光領域に分け、露光中にステージ４Ａが露光エリアへ駆動できるようにしておく。なお、レイアウトの分け方は前記したステージ４Ａの考え方と同様であり、ステージ位置が左右反転するため、レイアウトとしては図１、図３（ａ）〜（ｆ）を左右反転した例が適用される。

計測処理を終了したステージ４Ａは、ステージ４Ｂの第二露光領域が露光されている間に露光エリアへ駆動を開始する（４ｂ−７）。露光処理が終了したステージ４Ａは、露光エリアへ駆動してきたステージ４Ｂと入れ替える（４ｂ−８）。以下、同様の処理・駆動を繰り返すことでウェハの露光処理を行う。

次に前述した（ＩＩ）式の関係が成り立っていない場合のシーケンス例を図４（ｃ）にしめす。この場合、ステージ４Ｂの並行駆動で短縮する時間（４ｃ−３）に対して、改行増加による露光時間増加分の方が長くなる。このため、従来の図４（ａ）より時間がかかってしまう。

レイアウトに関して、図１と図３ではキャリブレーション計測用のマーク位置として上部左右２箇所の例を挙げ、これらを計測した後の露光順の例を示した。しかし、マーク位置としては下部にある場合も考えられる。また、キャリブレーション計測用マークではなく、露光光強度を測定するセンサーや投影光学系の収差を測定するセンサーやマーク（以下計測センサーと呼ぶ）が下部についており、それらを測定してから露光する場合も考えられる。その場合は図１、３の例を上下反転すれば、本実施形態が適用される。

本実施形態は二つのステージでの露光方法を述べたが、これに限定することは無く、複数のステージを構成した露光装置であれば効果が見られる。

〔第２実施形態〕
前記露光光強度の計測や収差計測を露光処理後に行ってからステージの入れ替えを行う場合がある。計測センサーが他方のステージが駆動する側に構成されていれば、計測センサーでの計測中に、他方のステージは計測エリアから露光エリアへ並行して駆動することが可能となる。

図５に、前記計測センサーが構成されているときの露光方法の例、図６に露光処理シーケンスの例を示す。図５（ａ）、（ｂ）はキャリブレーション基準２２と計測センサー２３が対角線上に構成されており、計測センサーが他方のステージが駆動する側に構成されている場合を想定している。

図５（ａ）は、露光領域を二分しているが、第二露光領域を大幅に減らしている。これは、ステージ入替までに行う計測センサー２３による計測中に他方のステージを露光エリアへ並行駆動できるため、増加する改行の数を減らしたレイアウトである。さらに推し進めたものが図５（ｂ）であり、ステージ入替までに行う計測の時間が充分長ければ、通常露光処理後計測センサーで計測中に他方のステージを露光エリアへ並行駆動させても良い。

図５（ｃ）は、キャリブレーション基準２２と計測センサー２３が左右対称に構成されており、計測センサーが他方のステージが駆動する側に構成されている場合を想定している。この場合は、第一実施形態と同様に二つの領域に分け、第二露光領域露光処理後計測センサー２３で計測を行う。このとき、第二露光領域を露光し始めると他方のステージが露光エリアへ駆動可能となる。なお、レイアウトの分け方や駆動は図５の各ステージの露光中に右側を他方のステージが駆動するとして記載している。逆に左側を他方のステージが駆動する場合は、左右反転した例が適用される。また、ステージ上でのキャリブレーション基準や計測センサー配置が下側に構成されている場合は、上下反転した例が適用される。

本実施形態でのシーケンスを図６を用いて説明する。図６（ａ）が従来の実施例、図６（ｂ）が本実施例である。図６（ｂ）の実施例をフローチャートにしたものが図６（ｃ）である。両実施形態共に露光処理後、露光光量計測や収差計測などを行ってから、ステージの入替を行っている。

図６（ｂ）と（ｃ）では、ステージ４Ａの露光エリアでの露光処理（６ｂ−１）と並行して、ステージ４Ｂの計測エリアでの一連の計測処理（６ｂ−２）を行う。ステージ４Ａは露光処理が終了し次第、露光光量計測や収差計測を行う（６ｂ−３）。露光処理には本実施形態で述べた露光方法を用いることで、ステージ４Ａの露光中や計測中にも露光エリアへのステージ４Ｂの駆動を始めることができる（６ｂ−４）。

ステージ４Ａの計測並びにステージ４Ｂの駆動が終了したら、両ステージを入れ替える（６ｂ−５）。入替を終了したステージ４Ａはウェハ搬出位置まで駆動して、露光終了したウェハを搬出し、未露光のウェハを搭載する。未露光ウェハを搭載したステージ４Ａは計測エリアにてアライメント計測やフォーカス計測を行う（６ｂ−６）。

入替が終了したステージ４Ｂは、露光エリアでのキャリブレーション計測を行い、露光を開始し、終了したら露光光量や収差計測を行う（６ｂ−７、６ｂ−８）。ステージ４Ｂの露光でも本実施例で述べた露光方法を用いる。

計測処理を終了したステージ４Ａは、ステージ４Ｂの第二露光領域が露光されている間から一連の計測を行っている間に露光エリアへ駆動を開始する（６ｂ−９）。露光処理が終了したステージ４Ｂは、露光エリアへ駆動してきたステージ４Ａと入れ替える（６ｂ−１０）。以下、同様の処理・駆動を繰り返すことでウェハの露光処理を行う。

〔第３実施形態〕
前記実施形態では、ウェハステージ４Ａが露光処理中に他方のウェハステージ４Ｂが露光エリアへ駆動する動作について詳細に述べた。しかし、ステージ同士が干渉するかどうかの関係は両者の位置関係によって逐次変化することが考えられる。そこで、露光領域を複数に分け、ウェハステージ４Ａの露光状態によって取りうるウェハステージ４Ｂの駆動可能動作について本実施形態で述べる。

図７−Ａ、図７−Ｂに本実施形態を示す露光方法の例を示す。図７−Ａ、図７−Ｂでは、ステージの入れ替え後の計測をスムーズに行うため、キャリブレーション基準２１，２２の配置を縦に並べている。

図７−Ａに示すステージ４Ａは露光量域を３つに分け、それぞれ第一露光領域、第二露光領域、第三露光領域とした。第二露光領域は第１、第２実施形態で述べたように、ステージ４Ｂが露光エリア側へ駆動しても干渉しない領域を指す。第三露光領域は、図７中ステージ４Ａより上部へステージ４Ｂが駆動しても、ステージ同士が干渉しないで露光できる領域を示す。第一露光領域はこれら以外の領域である。

図７−Ａの（ａ）はステージ４Ａが第一露光領域を露光中の動作を示す。このとき、ステージ４Ｂは露光エリアに駆動すると、ステージ同士の干渉が起こるため、駆動は出来ない。計測エリアにて所定のアライメント計測やフォーカス計測を行っている。

図７−Ａの（ｂ）は、ステージ４Ａが第二露光領域を露光中の動作を示す。計測エリアで所定のアライメント計測やフォーカス計測を行ったステージ４Ｂは露光エリア側への駆動を開始する。

図７−Ａの（ｃ）は、ステージ４Ａが第三露光領域を露光中の動作を示す。このとき、ステージ４ＢはステージＡの上部を駆動することができる。このとき、より上部に近いため不図示のステージ位置計測用の干渉計との間隔を狭くし、空気揺らぎなどによる誤差が少ないステージ４Ｂの位置原点だしなどを行うことも可能である。

図７−Ａの（ｄ）は、ステージの入れ替え動作を示す。これを見てもわかるように、ステージ４Ａはより未露光ウェハと露光済みウェハとの入れ替え位置に近い部分でステージの入れ替えをすることができるため、入れ替え後の待避時間を短縮することができる。

以上のように、ステージの位置関係によって、領域分割数や分割位置を変え、他方のステージとの干渉を回避するシーケンスを汲むことで生産性を向上させることができる。

本実施例をフローチャートにしたものが、図７−Ｂである。図７−Ｂをもとにシーケンスを解説する。ステージ４Ａが露光を終了し、ステージ４Ｂが露光エリアへの駆動を終了し、両者がステージを入れ替えるところから解説する。露光エリアにて、投影光学系下にてステージを入れ替える（７−１）。

入れ替わったステージ４Ａは、露光済みのウェハを搭載したまま、ウェハを入れ替える位置まで駆動する。ウェハ入れ替え位置まで駆動したステージ４Ａは、搭載している露光済みウェハと、未露光のウェハを入れ替える。入替が終了したら、計測エリアへ駆動し、アライメント計測やフォーカス計測など所定の計測を行う（７−２）。

入れ替わったステージ４Ｂは、ステージの姿勢や原点出しなどキャリブレーション計測を行う。この計測が終了したら、第一露光領域を露光する。第一露光領域は、露光時のステージの駆動ストロークが大きい領域を指す（７−３）。

ステージ４Ｂが第一露光領域を露光している間に、ステージ４Ａは計測を並行で処理する。第一露光領域を露光し終えたステージ４Ｂが第二露光領域を露光開始する。第二露光領域の露光は、図７−Ａの（ｂ）に示すように、ステージ４Ａの露光エリアへの駆動がステージの干渉無く、並行で行える露光領域である。そこで、ステージ４Ｂの第二露光領域の露光（７−４）と計測を終了したステージ４Ａの駆動（７−５）を並行して行う。

次に、第二露光領域の露光処理を終了したステージ４Ｂが、第三露光領域の露光を開始する。第三露光領域の露光は図７−Ａの（ｃ）に示すように、ステージ４Ａがステージ４Ｂの上部で駆動してもステージの干渉無く並行して行える領域である。そこで、ステージ４Ｂの第三露光領域の露光（７−６）と、ステージ４Ａの駆動（７−７）を並行して行う。

全ての領域を露光し終えたステージ４Ｂは、ステージ４Ａに押し出されるように、ウェハ入れ替え位置へ向かう。

本実施例では、露光領域と駆動を一例として述べたが、これにこだわることなく、ステージ間の相対位置によって干渉無く露光と駆動が並行で行える領域であればよい。

本実施形態は二つのステージでの露光方法を述べたが、これに限定することは無く、複数のステージを構成した露光装置であれば効果が見られる。

１ 投影光学系、２ 照明光学系、３ ウェハ、４Ａ ウェハステージＡ、
４Ｂ ウェハステージＢ、５ アライメント検出系、６ フォーカス検出系照射側、
７ フォーカス検出系受光側、１０ レチクルステージユニット、１２ レチクル、
２１ キャリブレーション基準、
２２ キャリブレーション基準（露光直前に測定する基準）、
２３ 計測センサー、２４ 露光中心、２５ 露光時のステージの駆動範囲

Claims (6)

1. 複数のウェハステージを構成し、原版のパターンを前記ウエハステージ上に載置されたウェハ上へ繰り返し投影露光する露光装置であって、さらにウエハステージ上に載置された第一のウエハ上に原版のパターンを投影露光している間に、他の少なくとも一つのウエハステージ上に載置された第二のウエハ上の位置情報を並行して計測する露光装置であって、
   ウエハ上に繰り返し投影される行・列を有する格子状に配列された複数のパターンから構成される露光レイアウトを第一の領域と第二の領域に分割し、
   第一の領域を露光した後に第二の領域を露光し、
   前記第一のウエハ上の第二の領域に原版のパターンを露光中に、前記第二のウエハを載置したウエハステージを、第一のウエハを載置したウエハステージに隣接する待機位置へ移動を開始することを特徴とする露光方法。
2. 前記第二の領域は、露光中のウエハステージと、前記待機位置に待機したウエハステージが物理的に干渉しない条件によって決定することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
3. 前記露光レイアウトの第一の領域と第二の領域は、同一行を優先的に露光しつつ、順次改行して露光し、
   露光レイアウトを分割しない場合に実施する全ての改行に必要な動作時間に対して、領域を分割したことで増加する改行に必要な動作時間の増分をＡとし、
   前記第二のウエハを載置したウエハステージが他のウエハステージの露光動作と並行して行うウエハ上の位置計測を終了した時点から、露光動作中のウエハステージに隣接する待機位置まで移動し、停止するまでの時間のうち前記並行して行う時間をＢとし、
   Ｂ≧Ａ を満足することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光方法。
4. 予め記憶させたレイアウトモデルに露光条件を当てはめ、前記式の左辺−右辺が最も大きくなるモデルを選択し、露光レイアウトとすることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の半導体露光方法。
5. 複数のウェハステージを構成し、原版のパターンを前記ウエハステージ上に載置されたウェハ上へ繰り返し投影露光する露光装置であって、さらにウエハステージ上に載置された第一のウエハ上に原版のパターンを投影露光している間に、他の少なくとも一つのウエハステージ上に載置された第二のウエハ上の位置情報を並行して計測する露光装置であって、
   前記第一のウエハ上に構成された計測センサーや計測マークで計測中に、前記第二のウエハを載置したウエハステージを、第一のウエハを載置したウエハステージに隣接する待機位置へ移動を開始することを特徴とする露光方法。
6. 複数のウェハステージを構成し、原版のパターンを前記ウエハステージ上に載置されたウェハ上へ繰り返し投影露光する露光装置であって、さらにウエハステージ上に載置された第一のウエハ上に原版のパターンを投影露光している間に、他の少なくとも一つのウエハステージ上に載置された第二のウエハ上の位置情報を並行して計測する露光装置であって、
   ウエハ上に繰り返し投影される行・列を有する格子状に配列された複数のパターンから構成される露光レイアウトを複数の領域に分割し、
   前記分割した領域を順に露光し、
   第一のウエハ上の所定の領域に原版のパターンを露光中に、前記第二のウエハを載置したウエハステージを、第一のウエハを載置したウエハステージに隣接する待機位置へ移動を開始することを特徴とする露光方法。