KR20240031051A

KR20240031051A - 정보 처리 장치, 정보 처리 방법, 프로그램, 노광 장치, 노광 방법, 및 물품의 제조방법

Info

Publication number: KR20240031051A
Application number: KR1020230107001A
Authority: KR
Inventors: 요시히로 오마메우다
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2022-08-29
Filing date: 2023-08-16
Publication date: 2024-03-07
Also published as: EP4332679A3; US20240069444A1; EP4332679A2

Abstract

본 발명은, 제1 정보와 제2 정보간의 차이에 상당하는 차분 정보, 복수의 샷 영역 각각에 대한 노광 처리 동안의 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및 복수의 샷 영역 각각에 대한 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보 중 어느 하나를 표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하도록 구성된 생성부를 구비하는 정보 처리 장치를 제공한다.

Description

정보 처리 장치, 정보 처리 방법, 프로그램, 노광 장치, 노광 방법, 및 물품의 제조방법{INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, PROGRAM, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD}

본 발명은, 정보 처리 장치, 정보 처리 방법, 프로그램, 노광 장치, 노광 방법, 및 물품의 제조방법에 관한 것이다.

반도체 디바이스 등의 제조 공정(리소그래피 공정)에서 사용되는 장치 중 하나로서, 투영 광학계로부터의 광에 의해 기판을 주사함으로써 기판상의 복수의 샷 영역을 각각 노광하는 노광 장치가 알려져 있다. 노광 장치에서는, 각 샷 영역의 노광 처리에 있어서, 광의 조사에 앞서 기판의 표면 위치의 계측(포커스/틸트 계측)을 행하면서, 그 계측 결과에 기초하여 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나의 제어(포커스/틸트 제어)가 행하여진다.

노광 장치의 사용자는, 기판의 각 샷 영역에 대한 노광 처리가 종료한 후, 각 샷 영역의 노광 정밀도가 원하는 정밀도를 만족시키는지 여부를 확인하는 경우가 있다. 노광 정밀도가 원하는 정밀도를 만족시키지 않는 샷 영역이 있을 경우, 그 원인(이유)을 파악하는 것이, 후속의 기판에 대하여 고정밀의 노광 처리를 행하는데 중요하다. 일본특허공개 제2006-165122호 공보에는, 각 샷 영역의 노광 처리중에 있어서의 기판의 표면 위치의 제어 오차(Error z) 및 자세의 제어 오차(Error Tilt(X), Error Tilt(Y))를 그래프로 나타내는 것이 개시되어 있다.

노광 정밀도의 저하는, 노광 처리중에 있어서의 기판의 제어 오차뿐만 아니라, 샷의 레이아웃에 기인하는 경우가 있다. 예를 들면, 복수의 샷 내에서 고저 차이가 있는 레이아웃의 경우는, 샷 사이의 기판의 구동량이 커지고, 이에 의해 기판의 제어 잔차(residual error)가 커져 버린다. 일본특허공개 제2006-165122호 공보에 기재된 방법에 의해서는, 노광 장치의 사용자는, 노광 정밀도의 저하 원인이, 샷의 레이아웃에 의한 것인지를 파악할 수 없다.

본 발명은, 예를 들면, 노광 장치의 사용자가 노광 정밀도의 저하 원인을 파악하는데 유리한 기술을 제공한다.

본 발명의 일 양태에 따르면, 노광 장치에 의해 노광 처리가 행하여지는 기판상의 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리가 행하여지는 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 차분 정보, 상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및 상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보 중 어느 하나를 표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하도록 구성된 생성부를 구비하는 정보 처리 장치가 제공된다.

본 발명의 다른 특징들은 첨부된 도면들을 참조하여 예시적인 실시예를 이하에서 설명함으로써 명백해질 것이다.

본 발명에 의하면, 노광 정밀도의 저하 원인을 용이하게 파악할 수 있다.

도 1은 노광 장치의 구성예를 나타내는 개략도이다.
도 2는 제1 샷 영역 및 제2 샷 영역의 각각에 대하여 노광 처리를 행할 때의 동작예를 제시하는 도면이다.
도 3은 제1 샷 영역 및 제2 샷 영역의 각각에 대하여 노광 처리를 행할 때의 동작예를 제시하는 도면이다.
도 4는 제1 샷 영역 및 제2 샷 영역의 각각에 대하여 노광 처리를 행할 때의 동작예를 제시하는 도면이다.
도 5는 포커스/틸트의 차이의 일 예를 제시하는 도면이다.
도 6은 표시부에 있어서의 차분 정보의 표시예를 나타내는 도면이다.
도 7은 노광 장치의 동작 플로우를 나타내는 플로우차트이다.
도 8은 정보 처리 장치의 처리 플로우를 나타내는 플로우차트이다.
도 9는 표시부에 있어서의 통계 정보의 표시예를 나타내는 도면이다.
도 10a는 표시부에 있어서의 보정값의 표시예를 나타내는 도면이다.
도 10b는 포커스/틸트의 차이의 예측 결과의 표시예를 나타내는 도면이다.
도 11은 제1 샷 영역 및 제2 샷 영역의 각각에 대하여 노광 처리를 행할 때의 동작예를 제시하는 도면이다.

이하에 첨부 도면을 참조하여, 실시 형태를 상세히 설명한다. 단, 이하의 실시 형태들은 청구 발명의 범위를 한정하는 취지의 것이 아니다. 실시 형태들에 있어서 복수의 특징들이 설명되나, 하나의 발명이 그러한 모든 특징들을 요구하는 것으로 한정되지 않으며, 그러한 복수의 특징들은 적절히 조합될 수 있다. 또한, 첨부 도면에 있어서, 동일한 참조 부호는 동일하거나 유사한 구성에 대해 부여되며, 중복되는 설명은 생략된다.

본 명세서 및 첨부 도면에서는, 기판의 표면(상면)에 평행한 방향을 XY평면으로 하는 XYZ좌표계에 의해 방향을 나타낸다. XYZ좌표계에 있어서의 X축, Y축 및 Z축의 각각 평행한 방향을 X방향, Y방향 및 Z방향으로 하고 X축 주위의 회전, Y축 주위의 회전 및 Z축 주위의 회전 각각을, θX, θY 및 θZ로 한다. X축, Y축, Z축에 관한 제어 및 구동(이동)은, 각각, X축에 평행한 방향, Y축에 평행한 방향, Z축에 평행한 방향에 관한 제어 또는 구동(이동)을 의미한다. 또한, θX축, θY축, θZ축에 관한 제어 또는 구동은, 각각, X축에 평행한 축 주위의 회전, Y축에 평행한 축 주위의 회전, Z축에 평행한 축 주위의 회전에 관한 제어 또는 구동을 의미한다.

<제1 실시 형태>

본 발명에 관한 제1 실시 형태의 시스템(S)에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시 형태의 시스템(S)의 구성예를 나타내는 개략도이다. 본 실시 형태의 시스템(S)은, 노광 장치(100)와, 정보 처리 장치(200)를 구비할 수 있다. 노광 장치(100)는, 반도체 디바이스 등의 제조 공정(리소그래피 공정)에 사용되며, 기판에 있어서의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 노광 처리를 행한다. 본 실시 형태의 노광 장치(100)는, 기판에 있어서의 복수의 샷 영역 각각에 대해서, 스텝·앤드·스캔 방식으로 기판을 주사하면서 노광 처리를 행하는 주사 노광 장치이다. 이러한 노광 처리에서는, 투영 광학계로부터 방출된 노광 광(슬릿 광, 패턴 광)에 의해 기판을 주사함으로써 기판의 샷 영역의 주사 노광을 행하여, 원판 패턴을 기판의 샷 영역 위로 전사할 수 있다. 이하에서는, 원판으로서 레티클(LT)을 사용하고, 기판으로서 웨이퍼(WF)를 사용하는 예를 설명한다. 단, 명세서 내에서 기판이라고 기재하고 있는 것은 웨이퍼(WF)와 동일한 의미이다.

먼저, 노광 장치(100)의 구성예에 대해서 설명한다. 노광 장치(100)는, 조명 광학계(8)와, 레티클 스테이지(4)와, 투영 광학계(9)와, 웨이퍼 스테이지(7)와, 얼라인먼트 검출부(10)와, 포커스/틸트 계측부(11)와, 제어부(12)를 구비할 수 있다.

조명 광학계(8)는, 미도시의 광원으로부터 방출된 광을 슬릿 광으로서 정형하여 레티클(LT)을 조명한다. 레티클(LT)은, 예를 들면 석영 글래스 등에 의해 제작되며, 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역 위로 전사되어야 할 패턴(예를 들면 회로 패턴)이 형성되어 있다. 레티클 스테이지(4)는, 레티클(LT)을 보유지지하는 척을 포함하고, 적어도 XY의 각 축방향으로 이동가능하다. 레티클 스테이지(4)는, 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역의 노광 처리시에는, 투영 광학계(9)의 광축(AX)과 수직한 방향인 Y방향을 따라 주사된다. 여기에서, 노광 처리란, 투영 광학계(9)로부터 방출된 노광 광(슬릿 광)을 웨이퍼(WF)의 샷 영역에 조사하는 것에 의해 해당 샷 영역을 노광하는 기간의 처리로서 정의될 수 있다.

투영 광학계(9)는, 조명 광학계(8)로부터의 광에 의해 조명된 레티클(LT) 위의 패턴 상을 소정의 배율(예를 들면 1/2~1/5)로 웨이퍼(WF) 위로 투영한다. 웨이퍼(WF)는, 표면상에 레지스트(감광제)가 도포된, 예를 들면 단결정 실리콘으로 이루어지는 기판이다. 웨이퍼 스테이지(7)는, 웨이퍼(WF)를 보유지지하는 척을 포함하고, XYZ의 각 축방향 및 각 축의 회전 방향인 θX, θY, θZ방향으로 이동(회전)가능하다. 웨이퍼 스테이지(7)는, 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역의 노광 처리시에는, 투영 광학계(9)의 광축(AX)과 수직한 방향인 Y방향을 따라 주사된다.

얼라인먼트 검출부(10)는, 예를 들면, 검출광을 웨이퍼(WF)상의 기준 마크에 투사하는 투사계와, 해당 기준 마크로부터의 반사광을 수광하는 수광계를 가지고, 웨이퍼(WF)의 X방향 및 Y방향의 위치(얼라인먼트 위치)를 검출한다. 본 실시 형태의 경우, 얼라인먼트 검출부(10)는, 예를 들면, 투영 광학계(9)를 거치지 않고 웨이퍼(WF)상의 기준 마크를 광학적으로 검출할 수 있는 오프 액시스 얼라인먼트 검출계로서 구성되어 있다.

포커스/틸트 계측부(11)는, 웨이퍼 스테이지(7)에 의해 보유지지되어 있는 웨이퍼(WF)의 표면 위치의 계측(포커스/틸트 계측)을 행한다. 웨이퍼(WF)의 틸트(자세, 기울기)는, 복수 점에 있어서 포커스 계측을 행함으로써 측정할 수 있다. 포커스/틸트 계측부(11)는, 초점면 검출 장치로서 이해해도 된다. 본 실시 형태의 포커스/틸트 계측부(11)는, 웨이퍼(WF)에 광을 경사지게 조사하는 경사입사형이며, 웨이퍼(WF)에 계측용의 복수의 광속을 투광하는 투광부(11a)와, 투광부에 의해 웨이퍼(WF)상으로 투광되어 웨이퍼(WF)에서 반사된 복수의 광속을 수광하는 수광부(11b)를 포함할 수 있다. 포커스/틸트 계측부(11)는, 투광부(11a)에 의해 복수의 광속이 각각 입사한 웨이퍼(WF)상의 복수의 위치 각각에 대해서 표면 위치(표면 높이)를 계측할 수 있다.

제어부(12)는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit) 등의 프로세서 및 메모리 등의 기억부를 포함하는 컴퓨터에 의해 구성되며, 노광 장치(100)의 각 구성요소의 동작 및 조정 등을 통괄적으로 제어할 수 있다. 제어부(12)는, 노광 장치(100)의 각 구성요소에 회선을 통해 접속되며, 기억부에 기억된 프로그램 등에 따라 각 구성요소를 제어함으로써, 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역의 노광 처리를 실행할 수 있다. 예를 들면, 제어부(12)는, 웨이퍼(WF)의 높이 및 자세(기울기) 중 적어도 일방을 나타내는 기판 상태를 웨이퍼 스테이지(7)에 의해 제어하면서, 레티클 스테이지(4)와 웨이퍼 스테이지(7)를, 투영 광학계(9)의 투영 배율에 따른 속도비로 상대적으로 주사한다. 이에 의해, 투영 광학계(9)로부터의 노광 광이 조사되는 조사 영역(즉, 투영 광학계(9)에 의해 레티클(LT)의 패턴 상이 투영되는 영역)을 웨이퍼(WF)의 샷 영역상에서 이동시키어, 레티클(LT)의 패턴을 해당 샷 영역에 전사할 수 있다. 이러한 노광 처리(주사 노광)를, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 순차적으로 행함으로써, 1장의 웨이퍼(WF)에 있어서의 노광 처리를 완료시킬 수 있다. 한편, 이하에서는, 웨이퍼(WF)의 높이 및 자세(기울기) 중 적어도 일방을 나타내는 기판 상태를, 「포커스/틸트」라고 칭하는 경우가 있다.

다음으로, 정보 처리 장치(200)의 구성예에 대해서 설명한다. 정보 처리 장치(200)는, 노광 장치(100)와 통신가능하게 접속되며, 처리부(13)와, 표시부(17)와, 입력부(18)를 포함할 수 있다. 처리부(13)는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit) 등의 프로세서 및 메모리 등의 기억부를 포함하는 컴퓨터로 구성된다. 본 실시 형태의 처리부(13)는, 노광 장치(100)로부터 정보를 취득하는 취득부(14)와, 취득부(14)에서 취득된 정보에 기초하여 표시부(17)를 제어하는 표시 제어부(15)와, 노광 장치(100)에 정보를 공급(송신, 제공)하는 공급부(16)를 포함할 수 있다. 표시 제어부(15)는, 취득부(14)에서 취득된 정보에 기초하여 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 생성부로서 기능하고, 이하에서 「생성부(15)」라고 표기할 경우가 있다. 취득부(14) 및 공급부(16)는, 노광 장치(100)와 통신하여 정보를 송수신하는 통신부를 구성하는 유닛으로서 이해하여도 된다. 또한, 표시부(17)는, 예를 들면 디스플레이이며, 표시 제어부(15)의 제어하에서 정보를 표시한다. 입력부(18)는, 예를 들면 마우스나 키보드이며, 사용자로부터 지시 입력을 접수한다. 표시부(17) 및 입력부(18)는, 유저 인터페이스를 구성하는 유닛으로서 이해되어도 된다.

본 실시 형태의 정보 처리 장치(200)는, 노광 장치(100)와는 별체로서(별도의 케이스내에) 구성된다. 그러나, 노광 장치(100)의 구성요소로서 다른 부분과 일체로(공통인 케이스내에) 구성되어도 된다. 이 경우, 노광 장치(100)의 제어부(12)가, 정보 처리 장치(200)의 처리부(13)의 기능을 갖출 수 있다. 또한, 본 실시 형태에서는 정보 처리 장치(200)가 표시부(17)와 표시 제어부(15)를 구비하는 예를 나타낸다. 그러나, 표시부(17)와 표시 제어부(15)는 정보 처리 장치(200)의 외부에 구비되어도 되고, 예를 들면, 노광 장치(100)나 외부의 컴퓨터에 구비되어도 된다. 이 경우, 정보 처리 장치(200)에 구비된 생성부(15)에서 생성된 화상정보에 기초하여 정보 처리 장치(200)의 외부에 있는 표시 제어부(15)가 표시부(17)의 표시를 제어한다. 그리고, 본 실시 형태에서는 정보 처리 장치(200)가 입력부(18)를 구비하는 예를 제시했지만, 입력부(18)는 정보 처리 장치(200)의 외부에 구비되어도 된다.

[각 샷 영역의 노광 처리]

다음으로, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 각각에 대한 노광 처리(주사 노광)에 대해서, 도 2 ~ 도 4를 참조하여 설명한다. 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 각각은, 미리 결정된 순서로 노광 처리가 행하여진다. 여기에서는, 설명을 이해하기 쉽게 하기 위해서, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 가운데, 노광 처리를 행하는 순서가 연속하는 2개의 샷 영역(제1 샷 영역(21), 제2 샷 영역(22))에 착안해서 설명한다. 여기에서, 제1 샷 영역(21) 및 제2 샷 영역(22)은, 웨이퍼(WF)에 있어서의 특정한 샷 영역을 나타내는 것은 아니고, 단지, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중에서 임의로 선택된 샷 영역을 나타낸다. 즉, 제1 샷 영역(21)은, 제2 샷 영역보다 하나의 영역 전에 노광 처리가 행하여지는 (i-1)번째의 샷 영역(전회(preceding) 샷 영역)을 나타내고 있다. 또한, 제2 샷 영역(22)은, 제1 샷 영역(21)의 다음에 노광 처리가 행하여지는 i번째의 샷 영역(다음번(succeeding) 샷 영역)을 나타내고 있다. 한편, 「i」는 자연수이다.

도 2 ~ 도 4는, 제1 샷 영역(21) 및 제2 샷 영역(22)의 각각에 대하여 노광 처리를 행할 때의 동작예를 나타내고 있다. 도 2 ~ 도 4에는, 제1 샷 영역(21) 및 제2 샷 영역(22) 이외에, 투영 광학계(9)로부터의 노광 광이 조사되는 조사 영역(23)과, 포커스/틸트 계측부(11)에 의해 포커스/틸트 계측이 각각 행하여지는 복수의 계측점(24)이 도시되어 있다. 한편, 포커스/틸트 계측은 표면 위치의 계측이다. 도 2 ~ 도 4에 있어서의 파선 화살표(P)는, 웨이퍼(WF)(제1 샷 영역(21), 제2 샷 영역(22))에 대한 조사 영역(23) 및 복수의 계측점(24)의 이동 경로를 나타내고 있다. 본 실시 형태의 노광 장치(100)(제어부(12))는, 각 샷 영역의 노광 처리에 있어서, 조사 영역(23)에서의 노광 광의 조사에 앞서 복수의 계측점(24)에서 포커스 계측을 행하고, 그 계측 결과에 기초하여 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트를 제어한다.

제1 샷 영역(21)의 노광 처리에서는, 도 2에 나타낸 바와 같이, +Y방향으로 웨이퍼(WF)가 주사되어, 복수의 계측점(24) 중 계측점(24a)을 사용하여, 조사 영역(23)에서의 노광 광의 조사에 앞서 포커스/틸트 계측이 순차적으로 행하여진다. 그리고, 계측점(24a)의 계측 결과에 기초하여 조사 영역(23)내의 웨이퍼 표면(기판표면)이 투영 광학계(9)의 베스트 포커스 위치(결상 위치)에 배치되도록, 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트가 순차 제어된다. 제1 샷 영역(21)의 노광 처리가 종료하면, 도 3에 나타낸 바와 같이, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리가 개시되는 위치(노광 개시 위치)에 조사 영역(23)이 배치되도록 웨이퍼(WF)를 스텝 이동시킨다.

제2 샷 영역(22)의 노광 처리에서는, 도 4에 나타낸 바와 같이, -Y방향으로 웨이퍼(WF)가 주사되어, 복수의 계측점(24) 중 계측점(24b)을 사용하여, 조사 영역(23)에서의 노광 광의 조사에 앞서 포커스/틸트 계측이 순차적으로 행하여진다. 그리고, 계측점(24b)의 계측 결과에 기초하여 조사 영역(23)내의 웨이퍼 표면이 투영 광학계(9)의 베스트 포커스 위치에 배치되도록, 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트가 순차 제어 된다. 계측점(24b)에 의한 포커스/틸트 계측과, 그 계측 결과에 기초한 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트의 제어는, 웨이퍼(WF)의 스텝 이동(도 3 참조)에 있어서 계측점(24b)이 제2 샷 영역(22)내에 들어갔을 때에 개시된다.

[차분 정보의 표시]

노광 장치(100)의 사용자는, 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역에 대해서 노광 처리가 종료한 후, 각 샷 영역의 노광 정밀도(예를 들면 오버레이 정밀도나 선 폭 등)이 원하는 정밀도를 만족시키고 있는지 여부를 확인하는 경우가 있다. 노광 정밀도가 원하는 정밀도를 만족시키지 않는 샷 영역이 있을 경우, 그 원인(이유)을 파악하는 것이, 후속의 웨이퍼(WF)에 대하여 고정밀의 노광 처리를 행하는데 중요하다.

노광 정밀도의 저하 원인의 하나로서는, 제1 샷 영역(21)(전회 샷 영역)의 노광 처리의 종료시와 제2 샷 영역(22)(다음번 샷 영역)의 노광 처리의 개시시와의 사이의 포커스/틸트의 차이를 들 수 있다. 이러한 포커스/틸트의 차이에 따라서는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시와 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시와의 사이에서의 웨이퍼(WF)(기판)의 구동량이 커진다. 이에 따라, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리가 개시된 후의 웨이퍼(WF)의 제어 잔차가 커지고, 노광 정밀도가 저하될 수 있다.

예를 들면, 도 5는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료 시점(t1)과 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시 시점(t2)에 있어서의 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트의 차이의 예를 제시하고 있다. 전술한 바와 같이, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리에서는, 계측점(24b)이 제2 샷 영역(22)내에 들어갔을 때에, 계측점(24b)에서의 포커스 계측과 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트의 제어가 개시된다. 그 때문에, 해당 포커스/틸트의 차이에 따라서는, 웨이퍼(WF)를 급격하게 구동할 필요가 생긴다. 이는, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리에 있어서의 웨이퍼(WF)의 제어 잔차를 증가시킬 수있다.

본 실시 형태의 정보 처리 장치(200)에서는, 처리부(13)(생성부(15))는, 제1 샷 영역(21)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 제2 샷 영역(22)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보인 차분 정보(표시 정보)를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 본 실시 형태에서는, 제1 정보가, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리(주사 노광)의 종료시에 있어서의 기판 상태를 나타내는 정보이며, 제2 정보가, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리(주사 노광)의 개시시에 있어서의 기판 상태를 나타내는 정보인 예에 대해서 설명한다. 차분 정보는, 제1 정보와 제2 정보와의 차이 바로 그것을 나타내는 정보이어도 되고, 해당 차이를 처리(연산, 가공)해서 얻어지는 정보이어도 된다.

기판 상태란, 전술한 바와 같이, 기판(웨이퍼(WF))의 높이 및 자세 중 적어도 일방이며, 포커스/틸트로 칭해질 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시에 있어서의 포커스/틸트와, 제2 샷 영역(22)의 주사 노광의 개시시에 포커스/틸트 계측부(11)의 계측 결과에 기초하여 제어된 포커스/틸트와의 차이를 나타내는 정보이다. 이러한 차분 정보를 화상정보로서 표시부(17)에 표시함으로써, 노광 장치(100)의 사용자는, 노광 정밀도의 저하 원인이, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시와 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시의 포커스/틸트의 차이에 의한 것인지 여부를 파악하는 것이 가능해진다. 한편, 이하에서는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시와 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시와의 포커스/틸트의 차이를, 단지 「포커스/틸트의 차이」라고 표기하는 경우가 있다.

본 실시 형태에서는, 제1 정보가, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시에 있어서의 기판 상태를 나타내는 정보이며, 제2 정보가, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시에 있어서의 기판 상태를 나타내는 정보인 예를 제시하지만, 이에 한정되는 것이 아니다. 예를 들면, 제2 정보는, 제1 샷 영역의 노광 처리가 시작되고 나서 제2 샷 영역(22)의 노광 처리가 시작될 때까지 계측된 제2 샷 영역(22)의 계측 결과를 나타내는 정보이어도 된다. 이 경우, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시에 있어서의 기판 상태를 나타내는 제1 정보와, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리가 시작되고 나서 제2 샷 영역(22)의 노광 처리가 시작될 때까지 계측된 제2 샷 영역(22)의 계측 결과를 나타내는 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보가 될 수 있다. 또한, 상기 설명을 조합하는 것도 가능하다. 계측 결과는, 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 기판의 높이 및 자세(기울기) 중 적어도 일방이며, 예를 들면, 포커스/틸트 계측부(11)에 의해 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어질 수 있다. 또한, 기판 상태는, 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 계측 결과(계측값) 자체에 기초하여 취득되어도 되고, 기판의 표면 위치의 목표값 자체에 기초하여 취득되어도 된다. 기판 상태는, 기판의 표면 위치의 목표값과 계측값과의 편차에 기초하여 취득되어도 되고, 스테이지를 구동하기 위해서 해당 편차에 따라 생성되는 지령값(높이 방향, 틸트 방향, 또는 회전 방향에 있어서의 구동 지령값)에 기초하여 취득되어도 된다.

또한, 제1 정보는, 제1 샷 영역(21)의 계측 결과를 나타내는 정보이며, 제2 정보는, 제2 샷 영역(22)의 계측 결과를 나타내는 정보이어도 된다. 이 경우, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 계측 결과를 나타내는 제1 정보와, 제2 샷 영역(22)의 계측 결과를 나타내는 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보가 될 수 있다. 예를 들면, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리를 종료하는 위치에 대한 계측 결과를 나타내는 제1 정보와, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리를 시작하는 위치에 대한 계측 결과를 나타내는 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 계측 결과는, 상기와 마찬가지로 정의되며, 예를 들면, 포커스/틸트 계측부(11)로 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방일 수 있다.

본 실시 형태에 있어서의 노광 개시 시점(노광 처리의 개시 시점)은, 샷 영역에 대하여 노광을 시작하는 시각과 반드시 일치하지 않아도 된다. 마찬가지로, 본 실시 형태에 있어서의 노광 개시 위치(노광 처리를 시작하는 위치)는, 노광을 시작하는 샷 영역의 단부 위치와 반드시 일치하지 않아도 된다. 예를 들면, 샷 영역이 휘어져 있을 경우는, 샷 영역의 단부보다 내측의 위치를 노광 개시 위치로 하고 이 위치를 노광하는 시각을 노광 개시 시점으로 하여도 된다. 혹은, 샷 영역에의 노광을 시작하고 나서 웨이퍼 스테이지(7)의 구동이 안정된 위치를 노광 개시 위치로 해서 이 위치를 노광하는 시각을 노광 개시 시점으로 하여도 된다. 혹은, 포커스/틸트 계측부(11)의 샘플링 주기(계측 주기)에 기인하여, 기판의 표면 위치를 계측하는 위치가 노광을 시작하는 샷 영역의 단부 위치로부터 벗어났을 경우에는, 그 벗어난 위치를 노광 개시 위치로 해서 이 위치를 노광하는 시각을 노광 개시 시점으로 하여도 된다.

이처럼, 본 실시 형태에 있어서의 노광 개시 위치란, 노광을 시작하는 샷 영역의 단부 위치이어도 되고, 그 근방이어도 된다. 그리고, 본 실시 형태에 있어서의 노광 개시 시점이란, 샷 영역에 대하여 노광을 시작하는 시각이어도 되고, 그로부터 벗어난 시각이어도 된다. 노광 종료 시점(노광 처리의 종료 시점) 및 노광 종료 위치(노광 처리를 종료하는 위치)에 대해서도 마찬가지이다. 노광 종료 위치란, 노광을 종료하는 샷 영역의 단부 위치이어도 되고, 그 근방이어도 된다. 그리고, 본 실시 형태에 있어서의 노광 종료 시점이란, 샷 영역에 대하여 노광을 종료하는 시각이어도 되고, 그로부터 벗어난 시각이어도 된다.

이하, 노광 개시 위치 및 노광 종료 위치 각각에 대해 허용되는 편차량에 대해서 구체적으로 설명한다. 노광 개시 위치는, 예를 들면, 노광을 시작하는 샷 영역의 단부(해당 샷 영역 중 노광을 시작하는 측의 단부)의 위치로부터, 샷 영역의 주사 방향에 있어서의 길이의 3분의 1(바람직하게는 5분의 1)의 위치까지의 범위내에 있어서의 임의의 위치이면 된다. 그리고, 노광 개시 시점은, 해당 범위내에서 결정된 노광 개시 위치에서 노광을 시작하는 시각이다. 또한, 노광 종료 위치는, 예를 들면, 노광을 시작하는 샷 영역의 단부 위치를 기준으로 하여 샷 영역의 주사 방향에 있어서의 길이의 3분의 2(바람직하게는 5분의 4)의 위치로부터, 노광을 종료하는 샷 영역의 단부 위치까지의 범위내에 있어서의 임의의 위치이면 된다. 바꾸어 말하면, 노광 종료 위치는, 예를 들면, 샷 영역의 노광을 종료하는 측의 단부 위치로부터, 샷 영역의 주사 방향에 있어서의 길이의 3분의 1(바람직하게는 5분의 1)의 위치까지의 범위내에 있어서의 임의의 위치이면 된다. 그리고, 노광 종료 시점은, 해당 범위내에서 결정된 노광 종료 위치에서 노광을 종료하는 시각이다. 한편, 「노광」이란, 투영 광학계(9)로부터의 광을 기판에 조사하는 것으로 정의되며, 「노광 처리」란, 투영 광학계(9)로부터의 광을 샷 영역에 조사하는 처리로 정의될 수 있다.

본 실시 형태에서는, 처리부(13)(취득부(14))는, 노광 장치(100)의 제어부(12)에서 구해진 차분 정보(즉, 포커스/틸트의 차이를 나타내는 정보)를 취득할 수 있다. 이 경우, 처리부(13)(생성부(15))는, 노광 장치(100)로부터 취득한 차분 정보를 표시부(17)에 표시시킨다. 즉, 생성부(15)는, 노광 장치(100)로부터 취득한 차분 정보를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 단, 처리부(13)(취득부(14))는, 제1 샷 영역(21)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 제2 샷 영역(22)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보를 취득해도 된다. 이 경우, 처리부(13)(생성부(15))는, 노광 장치(100)로부터 취득한 제1 정보 및 제2 정보에 기초하여 차분 정보를 생성하고, 생성된 차분 정보를 표시부(17)에 표시시킨다. 즉, 생성부(15)는, 노광 장치(100)로부터 취득한 제1 정보 및 제2 정보에 기초하여 차분 정보를 생성하고, 생성된 차분 정보를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다.

도 6은, 표시부(17)에 있어서의 차분 정보의 표시예를 나타내고 있다. 도 6의 예에서는, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역(SH)의 레이아웃에 따라, 웨이퍼(WF)에 있어서의 샷 영역(SH)의 위치마다 포커스/틸트의 차이의 크기를 색의 농도로 나타낸 분포가, 차분 정보로서 표시되어 있다. 차분 정보의 표시는, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역(SH)의 레이아웃에 맞춘 표시에 한정되지 않고, 테이블 등에 의한 표시이어도 된다. 또한, 차분 정보의 표시는, 색의 농도에 의한 표시에 한정되지 않고, 색의 종류나 수치 등에 의한 표시이어도 되고, 색의 농도나 종류에 수치를 중첩시킨 표시이어도 된다. 즉, 사용자가 시각적으로 차분 정보를 인식할 수 있는 한 임의의 타입의 표시가 사용될 수 있다. 생성부(15)는, 상기 예의 적어도 1개에 의해 사용자가 시각적으로 인식할 수 있도록, 표시부(17)에 표시시키는 차분 정보의 화상정보를 생성한다.

또한, 복수의 웨이퍼(WF)(기판)에 걸쳐 노광 처리가 실시되었을 경우, 생성부(15)는, 샷 영역의 위치마다, 복수의 웨이퍼(WF)에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 대표값을 차분 정보로서 표시부(17)에 표시해도 된다. 즉, 생성부(15)는, 샷 영역의 위치마다, 복수의 웨이퍼(WF)에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 대표값을 차분 정보로서 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성해도 된다. 대표값으로서는, 평균값, 중간값, 최대값, 최빈값 등을 들 수 있다.

차분 정보에 있어서의 포커스/틸트의 차이가 클 경우, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시와 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시와의 사이(즉, 웨이퍼(WF)의 스텝 이동 중)에 있어서의 웨이퍼(WF)의 구동량이 증가하게 된다. 해당 구동량이 크면, 전술한 바와 같이 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시후의 웨이퍼(WF)의 제어 잔차나 포커스/틸트 계측부(11)의 오차가 커지는 요인이 된다. 또한, 샷 영역이 웨이퍼(WF)의 주변부에 있을 경우, 웨이퍼(WF)의 틸트 성분을 검출할 수 없는, 혹은, 계측점이 한정되기 때문에 포커스/틸트 계측의 정밀도가 저하되는 등의 영향이 발생할 수 있다. 그러한 영향도 차분 정보로서 표시부(17)에 표시되기 때문에, 노광 장치(100)의 사용자는, 표시부(17)를 통해서 차분 정보를 확인하는 것에 의해, 노광 정밀도가 저하된 원인을 용이하게 동시에 적절하게 파악하는 것이 가능해진다.

본 실시 형태에서는, 차분 정보로서, 제1 샷 영역(21)의 노광 종료시와 제2 샷 영역(22)의 노광 개시시의 기판 상태 또는 계측 결과의 차이에 상당하는 정보를 예시해서 설명하였다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 주사 방향에 있어서의 중앙 부분과 제2 샷 영역(22)의 주사 방향에 있어서의 중앙 부분의 기판 상태 또는 계측 결과의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 즉, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리중의 기판 상태와 제2 샷 영역(22)의 노광 처리중의 기판 상태와의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 또한, 차분 정보는, 샷 영역내의 위치에 기초하지 않고, 제1 샷 영역(21)의 내부를 계측해서 얻어진 계측 결과와 제2 샷 영역(22)의 내부를 계측해서 얻어진 계측 결과와의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 혹은, 차분 정보는, 제1 샷 영역(21)의 복수 위치에 있어서의 기판 상태 또는 계측 결과를 평균한 포커스/틸트의 값과, 제2 샷 영역(22)의 복수 위치에 있어서의 기판 상태 또는 계측 결과를 평균한 포커스/틸트의 값과의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 한편, 중앙부분이란, 샷 영역의 무게 중심(중심)으로부터 주사 방향 및 그 반대 방향으로 어느 정도의 폭을 가지는 범위로서 정의될 수 있다. 해당 폭은, 샷 영역의 주사 방향에 있어서의 길이의 3분의 1(바람직하게는 5분의 1)일 수 있다.

본 실시 형태에서는, 노광 처리로서 주사 노광에 있어서의 차분 정보를 표시부(17)에 표시하는 예를 설명했지만, 노광 처리로서 스텝 노광에 있어서의 차분 정보를 표시부(17)에 표시해도 된다. 이 경우, 전술한 바와 같이 제1 샷 영역(21)의 노광 처리(스텝 노광)중의 기판 상태를 제1 정보로 하고 제2 샷 영역(22)의 노광 처리(스텝 노광)중의 기판 상태를 제2 정보로 하여 제1 정보와 제2 정보의 차이에 상당하는 정보를 차분 정보로 하여도 된다. 혹은, 차분 정보는, 샷 영역내의 위치에 기초하지 않고, 제1 샷 영역(21)의 내부를 계측해서 얻어진 계측 결과를 제1 정보로 하고 제2 샷 영역(22)의 내부를 계측해서 얻어진 계측 결과를 제2 정보로 하여 제1 정보와 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보를 차분 정보로 하여도 된다. 이 기판 상태나 계측 결과를, 각 샷내에서 복수회 취득할 경우는, 각 샷 영역의 중앙부분에서 취득된 기판 상태 또는 계측 결과의 차이에 상당하는 정보를 차분 정보로서 사용해도 되고, 해당 차이를 취득했을 때에 가장 커지는 조합에 의한 차이에 상당하는 정보를 차분 정보로서 사용해도 된다. 혹은, 제1 샷 영역(21)의 복수 위치에 있어서의 기판 상태 또는 계측 결과를 평균한 포커스/틸트의 값을 제1 정보로 하고 제2 샷 영역(22)의 복수 위치에 있어서의 기판 상태 또는 계측 결과를 평균한 포커스/틸트의 값을 제2 정보로 하여 제1 정보와 제2 정보와의 차이에 상당하는 정보를 차분 정보로서 하여도 된다.

또한, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 레이아웃에 맞춰서 차분 정보를 표시하는 것에 의해, 사용자는, 웨이퍼(WF)에 생긴 기복이나, 웨이퍼(WF)의 합착 등에 의한 구조상의 특성에 의해 영향을 받고 있는 장소를, 시각적으로 파악할 수 있다. 즉, 사용자는, 웨이퍼(WF)의 제조 프로세스에 대한 포커스/틸트의 차이 영향을 적절하게 인식할 수 있다. 이는, 해당 제조 프로세스의 개선으로 연결될 수 있다.

게다가, 노광 정밀도의 저하 원인으로서는, 포커스/틸트의 차이 이외에, 예를 들면, 웨이퍼(WF)의 기복이나, 렌즈와 연관된 초점위치의 오차, 공조의 영향, 노광 장치에 전해지는 진동 등도 들 수 있을 수 있다. 단, 본 실시 형태와 같이, 포커스/틸트의 차이에 착안하여, 포커스/틸트의 차이를 나타내는 차분 정보를 표시부(17)에 표시함으로써, 사용자는, 포커스/틸트의 차이의 관점으로부터 노광 정밀도의 저하 원인을 용이하게 동시에 적절하게 파악할 수 있다. 즉, 포커스/틸트의 차이의 관점에서 원인을 파악함으로써, 웨이퍼(WF)의 제조 프로세스의 개선에 도움을 줄 수 있다.

[보정값의 생성]

본 실시 형태의 노광 장치(100)에서는, 포커스/틸트의 차이가 저감하도록 포커스/틸트를 보정하기 위한 보정값을 구해도 된다. 해당 보정값은, 샷 영역의 위치마다 산출되어, 후속의 웨이퍼(WF)(제2 기판)의 각 샷 영역에 대하여 적용될 수 있다.

예를 들면, 제어부(12)는, 제1 웨이퍼(WF)(제1 기판)를 사용해서 포커스/틸트의 차이가 얻어졌을 경우, 해당 포커스/틸트의 차이가 스텝 이동중에 저감되도록 웨이퍼(웨이퍼 스테이지(7))를 구동하기 위한 보정값을 산출(생성)한다. 본 실시 형태에 있어서의 보정값은, 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시에 있어서의 기판 상태의 기판 높이(포커스)와 자세(기울기, 틸트) 중 적어도 일방을 보정한다. 본 실시 형태에서는, 보정값을 적용했을 경우의 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시에 있어서의 기판 상태를 목표값(목표 포커스값, 목표 틸트값)으로 하여 웨이퍼(웨이퍼 스테이지(7))를 구동한다. 보정값은 제2 샷 영역(22)의 노광 처리의 개시시에 있어서의 웨이퍼 스테이지(7)(기판 보유지지부)의 기판 높이(포커스)와 자세(기울기, 틸트) 중 적어도 일방을 보정하도록 구성되어도 된다. 즉, 보정값은 기판 상태 또는 웨이퍼 스테이지(7)의 목표값(예를 들면, 목표 위치, 목표 좌표, 목표 포커스값, 목표 틸트값)을 보정하기 위해서 사용되는 값이다.

보정값은, 샷 영역의 위치마다 산출되어서 기억부에 기억된다. 그리고, 제어부(12)는, 제1 웨이퍼(WF) 이후에 노광 처리를 행하는 제2 웨이퍼(WF)(제2 기판)의 각 샷 영역에 대하여 보정값을 적용할 수 있다. 구체적으로는 제2 웨이퍼(WF)에 있어서 전회 샷 영역(제1 샷 영역(21))의 노광 처리가 종료한 후 그리고 다음번 샷 영역(제2 샷 영역(22))의 포커스/틸트 계측이 시작되지 전에 보정값에 기초하여 제2 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트를 제어한다. 즉, 제1 웨이퍼(WF)의 노광 처리에 있어서의 포커스/틸트(그 구동 이력)에 근거해서 구한 보정값은, 제2 웨이퍼(WF)를 노광 처리할 때의 기판 상태 또는 웨이퍼 스테이지(7)의 목표값을 보정하기 위해서 사용되는 값이다.

이렇게 보정값을 적용함으로써 포커스/틸트 계측이 시작하기 전에 포커스/틸트의 제어를 시작할 수 있다. 이에 의해, 보정값을 적용하지 않고 포커스/틸트 계측을 시작한 후에 포커스/틸트의 제어를 시작할 경우에 비해, 웨이퍼의 급격한 구동을 저감할 수 있다. 즉, 보정값을 적용하는 것에 의해, 노광 처리에 있어서의 웨이퍼의 제어 잔차를 저감할 수 있다.

제어부(12)는, 제1 웨이퍼(WF)를 사용해서 보정값을 샷 영역의 위치마다 획득하고, 제1 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중 사용자에 의해 선택된 샷 영역에 대해서 구해진 보정값을, 제2 웨이퍼(WF)에 대하여 적용해도 된다. 예를 들면, 정보 처리 장치(200)의 표시 제어부(15)는, 샷 영역의 위치마다 보정값을 적용할 것인지 아닌지를 사용자가 선택할 수 있도록, 웨이퍼(WF)에 있어서의 샷 영역의 레이아웃에 맞춰서 샷 영역의 위치마다 차분 정보를 표시부(17)에 표시시킨다. 즉, 생성부(15)는, 샷 영역의 위치마다 보정값을 적용할 것인지 아닌지를 사용자가 선택할 수 있도록, 웨이퍼(WF)에 있어서의 샷 영역의 레이아웃에 맞춰서 샷 영역의 위치마다 차분 정보를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 이 경우, 사용자는, 샷 영역의 위치마다 표시부(17)에 표시된 차분 정보를 참조하여, 입력부(18)를 통해, 보정값을 적용해야 할 샷 영역의 위치를 선택할 수 있다. 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 위치 정보는, 공급부(16)에 의해 노광 장치(100)(제어부(12))에 공급된다. 이에 의해, 노광 장치(100)의 제어부(12)는, 후속의 제2 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중, 사용자에 의해 선택된 샷 영역과 동일한 위치에 있는 샷 영역에 대하여 보정값을 적용할 수 있다.

제어부(12)는, 사용자의 선택을 개재시키지 않고, 제2 웨이퍼(WF)에 적용하는 보정값을 결정해도 된다. 구체적으로는, 제어부(12)는, 제1 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중 포커스/틸트의 차이가 임계값 이상인 샷 영역에 대해서 구해진 보정값을, 제2 웨이퍼(WF)에 대하여 적용해도 된다. 이에 의해, 노광 정밀도의 저하가 클 것으로 예측되는 샷 영역에 대해서만 보정값을 적용할 수 있다. 환언하면, 보정값을 적용함으로 인해 노광 정밀도가 저하될 가능성이 높은 샷 영역에 대하여 보정값이 적용되는 것을 저감할 수 있다.

한편, 제어부(12)에 의한 보정값의 선택은, 기계 학습 등을 사용해서 행하여져도 된다. 단, 기계 학습은 100%의 결과를 제공하지 못한다. 따라서, 정밀도를 향상시키기 위해서는, 사용자가 보정값을 선택하는 것이 바람직하다. 본 실시 형태의 경우, 사용자가 보정값을 선택하기 위한 판단 재료(평가 지표)로서, 전술한 것 같이 차분 정보가 표시부(17)에 표시된다. 또한, 기계 학습에서는 충분한 학습 데이터가 필요하지만, 웨이퍼에 대한 전처리나 노광 조건은 순차적으로 변하기 때문에, 충분한 학습 데이터를 준비하는 것은 곤란하다. 본 실시 형태에서는, 차분 정보를 표시부(17)에 표시하기 때문에, 보정값을 적용하는 샷 영역을 사용자가 선택하는 것이 가능해지고, 충분한 학습 데이터를 필요로 하는 기계 학습을 사용하지 않아도 된다.

[노광 장치의 동작 절차]

다음으로, 본 실시 형태의 노광 장치(100)의 동작 플로우에 대해서, 도 7을 참조하여 설명한다. 도 7은, 본 실시 형태의 노광 장치(100)의 동작 플로우를 나타내는 플로우차트이다. 도 7의 플로우차트의 각 공정은, 제어부(12)에 의해 실행될 수 있다. 또한, 도 7의 플로우차트를 시작하기 전에, 미도시의 웨이퍼 반송 기구를 사용하여, 웨이퍼(WF)가 웨이퍼 스테이지(7)위로 반송된다.

스텝 S11에서, 제어부(12)는, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중 노광 처리를 행하는 대상 샷 영역이 노광 개시 위치에 배치되도록, 웨이퍼 스테이지(7)에 의해 웨이퍼(WF)를 스텝 이동한다. 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 각각에 대한 노광 처리의 순서는, 미리 설정되어 있다. 이어서, 스텝 S12에서, 제어부(12)는, 대상 샷 영역에 대하여 노광 처리를 행한다. 노광 처리에서는, 전술한 바와 같이, 조사 영역(23)에서의 노광 광의 조사에 앞서 포커스/틸트 계측부(11)가 포커스/틸트 계측을 행하고, 그 계측 결과에 기초하여 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트를 제어한다. 스텝 S13에서는, 제어부(12)는, 스텝 S12에서 얻어진 포커스/틸트 계측의 계측 결과를 기억부에 기억한다.

스텝 S14에서는, 제어부(12)는, 스텝 S12에서의 노광 처리의 개시시에 있어서의 포커스/틸트와, 전회 샷 영역의 노광 처리의 종료시에 있어서의 포커스/틸트와의 차이를, 차분 정보로서 구한다. 해당 포커스/틸트의 차이에 대해서는 전술한 대로이기 때문에, 여기에서는 상세한 설명을 생략한다. 지금까지 복수의 웨이퍼(WF)에 대하여 노광 처리가 행하여졌을 경우에는, 샷 영역의 위치마다, 복수의 웨이퍼(WF)에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 대표값(예를 들면 평균값)을 차분 정보로서 구해도 된다. 또한, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역 중 노광 처리가 최초로 행하여지는 샷 영역에 대해서는, 포커스/틸트의 차이가 얻어질 수 없기 때문에, 본 스텝 S14을 생략해도 된다.

스텝 S15에서는, 제어부(12)는, 노광 처리가 아직 행하여지지 않은 샷 영역 (이하에서는, 다음 샷 영역으로 칭해질 경우가 있다)이 있는지 여부를 판단한다. 다음 샷 영역이 있을 경우에는, 해당 다음 샷 영역을 대상 샷 영역으로서 설정하고 나서 스텝 S11로 진행한다. 한편, 다음 샷 영역이 없을 경우, 즉, 웨이퍼(WF)상의 복수의 샷 영역 모두에 대하여 노광 처리를 행했을 경우에는, 스텝 S16으로 진행한다.

스텝 S16에서, 제어부(12)는, 스텝 S14에서 얻어진 포커스/틸트의 차이에 기초하여 해당 포커스/틸트의 차이가 저감하도록 포커스/틸트를 보정하기 위한 보정값을 구한다. 해당 보정값은, 샷 영역의 위치마다 구해진다. 전술한 바와 같이, 복수의 샷 영역 중, 차분 정보의 표시에 따라 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 보정값이, 후속의 웨이퍼에 대하여 적용될 수 있다. 혹은, 복수의 샷 영역 중, 포커스/틸트의 차이가 임계값 이상인 샷 영역의 보정값이, 후속의 웨이퍼에 대하여 적용될 수 있다. 보정값은, 웨이퍼의 노광 처리가 반복될 때마다, 샷 영역의 각 위치에 대해 순차적으로 갱신될 수 있다.

스텝 S17에서는, 제어부(12)는, 노광 처리가 아직 행하여지지 않은 웨이퍼(WF)(이하에서는, 다음 웨이퍼(WF)라고 칭할 경우가 있다)가 있는지 여부를 판단한다. 다음 웨이퍼(WF)가 있을 경우에는, 미도시의 웨이퍼 반송 기구를 사용해서 웨이퍼 스테이지(7)상의 웨이퍼(WF)를 변경(교환)하고 나서 스텝 S11로 진행한다. 한편, 다음 웨이퍼(WF)가 없을 경우에는, 미도시의 웨이퍼 반송 기구를 사용해서 웨이퍼 스테이지(7)상으로부터 웨이퍼(WF)를 반출하고 나서 플로우차트를 종료한다.

[정보 처리 장치의 처리 절차]

다음으로, 본 실시 형태의 정보 처리 장치(200)의 처리 플로우에 대해서, 도 8을 참조하여 설명한다. 도 8은, 본 실시 형태의 정보 처리 장치(200)의 처리 플로우를 나타내는 플로우차트이다. 도 8의 플로우차트 각 공정은, 처리부(13)에 의해 실행될 수 있다. 도 8의 플로우차트는, 예를 들면, 도 7의 플로우차트에 있어서 1장의 웨이퍼에 대한 노광 처리가 종료할 때마다 실행될 수 있다.

스텝 S21에서는, 처리부(13)(취득부(14))는, 노광 장치(100)에서 구해진 차분 정보를, 샷 영역의 위치마다 노광 장치(100)로부터 취득한다. 그 다음에, 스텝 S22에서는, 처리부(13)(표시 제어부(15))는, 스텝 S21에서 취득한 차분 정보를 샷 영역의 위치마다 표시부(17)에 표시한다. 즉, 생성부(15)는, 스텝 S21에서 취득한 차분 정보를 샷 영역의 위치마다 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성한다. 예를 들면, 처리부(13)는, 차분 정보를, 웨이퍼(WF)에 있어서의 샷 영역의 레이아웃에 맞춰, 샷 영역의 위치마다 표시부(17)에 표시하거나, 또는 표시하기 위한 화상정보를 생성해도 된다. 이에 의해, 사용자는, 노광 정밀도의 저하 원인이, 포커스/틸트의 차이에 의한 것인지 여부를 적절하게 파악하는 것이 가능해진다.

스텝 S23에서는, 처리부(13)는, 입력부(18)를 통해서 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 위치가 있는지 여부를 판단한다. 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 위치가 있을 경우에는 스텝 S24로 진행한다. 스텝 S24에서는, 처리부(13)(공급부(16))는, 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 위치 정보를 노광 장치(100)에 공급(송신)한다. 이에 의해, 노광 장치(100)에서는, 후속의 웨이퍼(기판)에 있어서의 복수의 샷 영역 중, 사용자에 의해 선택된 샷 영역과 동일한 위치에 있는 샷 영역에 대하여만 보정값을 적용할 수 있다. 즉, 후속의 웨이퍼의 각 샷 영역에 대한 보정값의 적용을, 사용자의 요청에 따라 실행하는 것이 가능해진다.

상술한 바와 같이, 본 실시 형태의 정보 처리 장치(200)는, 제1 샷 영역(21)(전회 샷 영역)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 제2 샷 영역(22)(다음번 샷 영역)의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 정보인 차분 정보(표시 정보)를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 이에 의해, 노광 장치(100)의 사용자는, 표시부(17)에 표시된 정보로부터 노광 정밀도의 저하 원인이, 포커스/틸트의 차이에 의한 것인지 여부를 적절하게 파악하는 것이 가능해진다.

본 실시 형태에서는, 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 계측 결과 및 기판 상태에 대해서 설명하였다. 하지만, 이들 정보는, 웨이퍼 스테이지(7)(기판 보유지지부)의 상태(기판 보유지지부 상태)에 상당한다. 웨이퍼 스테이지(7)의 상태란, 웨이퍼 스테이지(7)가 구동되었을 때의 포커스/틸트의 상태 또는 그 위치이다. 즉, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시에 있어서의 웨이퍼 스테이지(7)(기판 보유지지부)의 상태인 기판 보유지지부 상태와 제2 샷 영역의 노광 처리의 개시시에 있어서의 기판 보유지지부 상태와의 차이를 나타내는 차분 정보를 표시 정보로 하여도 된다. 혹은, 표시 정보는, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리의 종료시에 있어서의 기판 보유지지부 상태와, 제1 샷 영역(21)의 노광 처리가 시작되고 나서 제2 샷 영역(22)의 노광 처리가 시작될 때까지 계측된 제2 샷 영역(22)의 계측 결과와의 차이를 나타내는 정보로서 생성된 차분 정보이어도 된다.

<제2 실시 형태>

본 발명에 관한 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에서는, 복수의 웨이퍼(WF)에 걸쳐 노광 처리를 실시했을 경우에 있어서, 샷 영역의 위치마다, 복수의 웨이퍼(WF)에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 편차를 나타내는 통계 정보(편차 정보, 제2 정보)를 표시부(17)에 표시하는 예를 설명한다. 이 예에서는, 생성부(15)는, 복수의 웨이퍼(WF)에 걸쳐 노광 처리를 실시했을 경우에 있어서, 샷 영역의 위치마다, 복수의 웨이퍼(WF)에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 편차를 나타내는 통계 정보를 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다.

도 9는, 표시부(17)에 있어서의 통계 정보의 표시예를 나타내고 있다. 도 9의 예에서는, 통계 정보는, 원의 크기에 의해 나타내어지며, 차분 정보(표시 정보)에 겹쳐서 표시부(17)에 표시되어 있다. 통계 정보에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 편차로서는, 표준 편차나 왜도(skewness) 등을 들 수 있다. 이렇게 통계 정보를 표시함으로써, 사용자는, 노광 정밀도의 저하 원인이 포커스/틸트의 차이에 의한 것인지 여부를 더욱 적절하게 파악하는 것이 가능해짐과 동시에, 보정값이 적용되는 샷 영역의 선택을 더 적절하게 행하는 것이 가능해진다. 예를 들면, 사용자는, 통계 정보의 표시에 기초하여 편차가 비교적 큰 샷 영역의 위치에서는 보정값을 적용하지 않는 것이 바람직하다고 판단할 수 있다. 또한, 차분 정보 및 통계 정보를 포함하는 복수의 정보를 표시함으로써, 사용자는, 해당 복수의 정보에 기초하여 웨이퍼(WF)의 제조 프로세스에 대한 포커스/틸트의 차이의 영향을 더 적절하게 인식할 수 있다. 이는, 해당 제조 프로세스의 개선으로 이어질 수 있다.

도 9의 예에서는, 차분 정보를 색의 농도로 나타내고, 통계 정보를 원의 크기로 나타내고 있다. 하지만, 이에 한정되는 것이 아니고, 차분 정보 및 통계 정보를 다른 표시 형식으로 나타내도 된다. 예를 들면, 차분 정보를 색의 종류로 나타내고, 통계 정보를 버블 맵으로 나타내도 된다. 또한, 차분 정보와 통계 정보를 분리하여 표시부(17)에 표시해도 된다.

<제3 실시 형태>

본 발명에 관한 제3 실시 형태에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에서는, 샷 영역의 위치마다 산출된 보정값을 표시부(17)에 표시하는 예를 설명한다. 이 예에서는, 생성부(15)는, 샷 영역의 위치마다 산출된 보정값을 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 한편, 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 또한, 제3 실시 형태에는, 제2 실시 형태가 적용되어도 된다.

도 10a는, 표시부(17)에 있어서의 보정값의 표시예를 나타내고 있다. 도 10a의 예에서는, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역(SH)의 레이아웃에 맞춰, 샷 영역의 위치마다 보정값의 크기(즉, 포커스/틸트를 보정하기 위한 웨이퍼 구동량)이 색의 농도로 나타내지고 있다. 여기에서, 보정값의 표시는, 웨이퍼(WF)에 있어서의 복수의 샷 영역(SH)의 레이아웃에 맞춘 표시에 한정되지 않고, 테이블 등에 의한 표시이어도 된다. 보정값의 표시는, 색의 농도에 의한 표시에 한정되지 않고, 색의 종류나 수치 등에 의한 표시이어도 되고, 색의 농도나 종류에 수치를 중첩한 표시이어도 된다.

또한, 표시 제어부(생성부)(15)는, 후속의 웨이퍼(WF)(제2 기판)에 대하여 보정값을 적용했을 경우에 잔존하는 포커스/틸트의 차이를 샷 영역의 위치마다 예측하고, 그 예측 결과를 표시부(17)에 표시해도 된다. 즉, 생성부(15)는, 후속의 웨이퍼(WF)(제2 기판)에 대하여 보정값을 적용했을 경우에 잔존하는 포커스/틸트의 차이를 샷 영역의 위치마다 예측하고, 그 예측 결과를 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성해도 된다. 도 10b는, 후속의 웨이퍼(WF)의 각 샷 영역(SH)에 대하여 보정값을 적용했을 경우에 잔존하는 포커스/틸트의 차이에 대한 예측 결과의 표시예를 나타내고 있다. 이에 의해, 사용자는, 해당 예측 결과의 표시에 기초하여 후속의 웨이퍼(WF)에 대하여 보정값을 적용했을 경우에, 어느 정도 포커스/틸트의 차이가 저감할 것인지, 및, 어느 정도 포커스/틸트의 차이가 잔존할 것인지를 파악할 수 있다. 즉, 사용자는, 해당 예측 결과의 표시에 기초하여 입력부(18)를 통하고, 보정값을 적용해야 할 샷 영역을 더욱 적절하게 선택하는 것이 가능해진다.

여기에서, 제어부(12)는, 보정값을 적용했을 경우에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 예측 결과(도 10b)뿐만 아니라, 보정값을 적용하지 않을 경우에 있어서의 포커스/틸트의 차이의 예측 결과를 표시부(17)에 표시해도 된다. 이 경우, 사용자는, 보정값의 적용과 비적용의 예측 결과를 비교할 수 있기 때문에, 보정값을 적용한 것에 의해 얻어지는 효과를 인식할 수 있다. 즉, 사용자는, 보정값의 유효성을 직관적으로 이해할 수 있음과 동시에, 후속의 웨이퍼에 대하여 보정값을 적용할 것인지 여부의 판단에 이용할 수 있다.

<제4 실시 형태>

본 발명에 관한 제4 실시 형태에 대해서 설명한다. 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 또한, 제4 실시 형태에는, 제2 ~ 제3 실시 형태가 적용되어도 된다.

제1 실시 형태에서는, 샷 영역의 위치마다의 차분 정보를 1개의 지표로서 나타냈지만, 차분 정보(표시 정보)를 복수의 방향 성분으로 나누어서 표시부(17)에 표시해도 된다. 예를 들면, 표시 제어부(15)(생성부)는, 차분 정보에 있어서의 포커스/틸트의 차이를, Z방향의 포커스 성분과, θX방향의 틸트 성분과, θY방향의 틸트 성분으로 나누고, 그들 성분을 따로따로 표시부(17)에 표시해도 된다. 즉, 생성부(15)는, 차분 정보에 있어서의 포커스/틸트의 차이를, Z방향의 포커스 성분과, θX방향의 틸트 성분과, θY방향의 틸트 성분으로 나누고, 그들 성분을 따로따로 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성해도 된다. 일 예로서, 포커스 성분의 크기는, 색의 농도 또는 색의 종류에 의해 나타내질 수 있다. 틸트 성분의 크기에 대해서도, 색의 농도 또는 색의 종류에 의해 나타내질 수 있다. 틸트 성분의 방향에 대해서는, 틸트의 변화 방향에 대하여 그라데이션을 제공함으로써 나타내어도 된다. 각 방향 성분의 표시는, 샷 영역의 전역에 대해서 행하여져도 되지만, 포커스/틸트 계측부(11)로 계측된 부분에만 행하여져도 된다. 이에 의해, 사용자는, 포커스/틸트의 차이에 있어서, 어느 방향 성분의 영향이 큰 지를 판단할 수 있다.

<제5 실시 형태>

본 발명에 관한 제5 실시 형태에 대해서 설명한다. 한편, 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 또한, 제5 실시 형태에는, 제2 ~ 제4 실시 형태가 적용되어도 된다.

상술한 실시 형태에 있어서의 포커스/틸트의 차이(차분 정보, 표시 정보)는, 전회 샷 영역의 노광 처리의 종료시부터, 다음번 샷 영역의 노광 처리의 개시시까지 구동한 웨이퍼(WF)의 포커스/틸트의 양이어도 된다. 또는, 상술한 실시 형태에 있어서의 포커스/틸트의 차이는, 포커스/틸트 계측부(11)를 사용하지 않고, 외부의 계측 장치를 사용하여, 전회 샷 영역의 종료 단과 다음번 샷 영역의 개시단의 차이를 계측한 결과이어도 된다.

<제6 실시 형태>

본 발명에 관한 제6 실시 형태에 대해서 설명한다. 한편, 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 또한, 제6 실시 형태에는, 제2 ~ 제5 실시 형태가 적용되어도 된다.

본 실시 형태에서, 제어부(12)는, 표시부(17)에 표시된 정보(차분 정보, 통계 정보, 표시 정보)에 기초하여 사용자에 의해 선택된 샷 영역에 대하여만 보정값을 적용(반영)해도 된다. 예를 들면, 사용자는, 표시부(17)에 표시된 정보에 기초하여 편차가 큰 샷 영역을 제외하고, 보정값을 효율적으로 사용할 수 있는 샷 영역만을, 보정값을 적용하는 샷 영역으로서 선택할 수 있다.

예를 들면, 웨이퍼의 구조로 인해, 접착(본딩) 위치나 레지스트의 도포 불균일의 발생하기 쉬운 위치 등을 포함하는 샷 영역에서는, 편차가 큰 경향이 있어, 보정값을 적용하면 반대로 노광 정밀도가 저하될 경우가 있다. 차분 정보나 통계 정보를 표시부(17)에 표시함으로써, 사용자는, 해당 정보를 확인하면서, 보정값을 적용할 샷 영역을 적절하게 선택하는 것이 가능해진다. 사용자가 웨이퍼의 그러한 구조적 특성을 몰라도, 편차의 지표에 기초하여 선택가능하다. 표시부(17)에 차분 정보(대표값)과 통계 정보(편차)를 표시함으로써, 그 크기의 정도로부터, 보정값을 효율적으로 사용할 수 있을 것인지 여부의 판단이 가능하다. 예를 들면, 주어진 샷 영역에서 편차가 어느 정도 커도, 평균값이 충분히 크면 보정값의 적용에 의해 좋은 결과가 얻어질 것이 기대된다. 또한, 1개의 웨이퍼로부터 얻어지는 각 샷 영역에 대한 보정값 중, 시간축에 기초한 필터링에 의해 영향을 받기 쉬운 최근 보정값을 선택하여 적용할지 여부를 판단하는 것도 가능하다.

또한, 동일한 웨이퍼 대신 복수의 웨이퍼를 선택함으로써, 웨이퍼를 보유지지하는 웨이퍼 스테이지(7)(기판 척을 포함하는 기판 보유지지부)의 영향의 정도도 보다 전체적인 관점에서 확인할 수 있다. 예를 들면, 평균값이 큰 위치는, 웨이퍼보다 척의 영향이 강하다고 판단할 수 있다. 이에 의해, 예컨대, 보정값을 효율적으로 적용하는 것에 더해서, 샷 영역의 레이아웃을 변경해야 할지 여부 등도 검토하는 것이 가능해진다.

또한, 웨이퍼의 중심 부근과 같이 단차가 비교적 작은 위치에서는, 보정값을 사용하지 않더라도 충분히 노광 정밀도가 확보할 수 있는 경우가 있다. 이러한 위치에 배치되어 있는 샷 영역에 대하여는, 보정값을 적용하지 않아도, 노광 정밀도의 개선이 예상된다. 즉, 표시부(17)의 표시에 기초하여 사용자는, 웨이퍼의 중심부근과 같은 범위를 확인하면서 보정값의 적용 여부를 판단하는 것이 가능해진다.

<제7 실시 형태>

본 발명에 관한 제7실시 형태에 대해서 설명한다. 한편, 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 또한, 제7 실시 형태에는, 제2 ~ 제 6실시 형태가 적용되어도 된다.

본 실시 형태에서는, 차분 정보(표시 정보)와 노광 정밀도의 계측 결과(검사 결과)를 동시에 표시한다. 구체적으로는, 계측 장치(검사 장치) 등으로부터 얻은 계측 결과(검사 결과)와, 차분 정보를 표시부(17)에 겹쳐서 표시하거나, 또는 비교가능한 위치에 표시한다. 이에 의해, 사용자는 노광 정밀도와 차분 정보를 용이하게 비교할 수 있다. 생성부(15)는, 차분 정보와 노광 정밀도의 계측 결과(검사 결과)를 동시에 표시부(17)에 표시시키기 위한 화상정보를 생성한다. 표시 제어부(15)는 차분 정보와 노광 정밀도의 계측 결과(검사 결과)를 동시에 표시부(17)에 표시하도록 표시부(17)를 제어한다.

<제8 실시 형태>

본 발명에 관한 제8 실시 형태에 대해서 설명한다. 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 제8 실시 형태에는, 제2 ~ 제7 실시 형태가 적용되어도 된다. 예를 들면, 전술의 실시 형태에서 설명된 차분 정보를 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 동작은, 본 실시 형태에서 설명하는 정보를 표시하기 위한 화상정보를 생성한다고 바꿔서 읽어도 된다.

본 실시 형태의 생성부(15)는, 상기의 실시 형태에서 설명한 차분 정보와, 복수의 샷 영역 각각의 노광 처리중의 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방(기판 상태)을 나타내는 정보와, 복수의 샷 영역 각각에 대해서 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 계측 결과를 나타내는 정보 중 어느 하나인 표시 정보를 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성한다. 계측 결과는 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 것으로 정의될 수 있다.

예를 들면, 복수의 샷 영역 각각의 노광 처리중의 기판 상태는, 복수의 샷 영역 각각의 노광 개시시의 기판 상태이어도 되고, 복수의 샷 영역 각각의, 샷 영역내에 있어서의 특정한 위치를 노광할 때의 기판 상태이어도 된다. 또한, 복수의 샷 영역 각각의 계측 결과는, 예를 들면, 복수의 샷 영역 각각의 노광 개시 위치에 대해서 계측해서 얻어진 계측 결과이어도 되고, 복수의 샷 영역 각각의, 샷 영역내에 있어서의 특정한 위치를 계측하여 얻어진 계측 결과이어도 된다. 나아가, 계측 결과는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 조사 영역(23)에서의 노광 광의 조사에 앞서 계측점(24a 또는 24b)에서 행하여진 포커스/틸트 계측의 결과이어도 되고, 조사 영역(23)의 내측에 배치된 계측점(24c)에서 행하여진 포커스/틸트 계측의 결과이어도 된다. 한편, 도 11은, 도 2에 대응하는 도면이며, 조사 영역(23)의 내측에도 포커스/틸트 계측부(11)의 계측점(24c)이 배치되는 예를 제시하고 있다.

본 실시 형태에 의하면, 차분 정보와, 복수의 샷 영역 각각의 노광 처리중의 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방(기판 상태)을 나타내는 정보와, 복수의 샷 영역 각각에 대해서 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 계측 결과를 나타내는 정보 중에서 선택된 정보인 표시 정보를 표시부(17)에 표시할 수 있다. 이에 의해서도, 노광 장치(100)의 사용자가 노광 정밀도의 저하 원인을 파악할 수 있다.

<제9 실시 형태>

본 발명에 관한 제9 실시 형태에 대해서 설명한다. 한편, 본 실시 형태는, 제1 실시 형태를 기본적으로 이어받는 것이며, 이하에서 언급하는 사항 이외에는 제1 실시 형태를 따를 수 있다. 제9 실시 형태에는, 제2 ~ 제8 실시 형태가 적용되어도 된다.

본 실시 형태의 생성부(15)는, 외부의 검사 장치로부터 얻은 검사 결과에 근거한 표시 정보를 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 것을 특징으로 한다. 외부의 검사 장치는, 예를 들면, 기판상의 복수의 샷 영역 각각의 높이 검출이 가능한 높이 검출 장치이다. 검출 장치에 의해 검출된 정보에 기초하여 노광 장치(100) 또는 정보 처리 장치(200)가 표시 정보를 생성한다. 그리고, 생성부(15)는 생성된 표시 정보를 표시부(17)에 표시하기 위한 화상정보를 생성한다.

본 실시 형태에 있어서의 표시 정보란, 제1 샷 영역(21)의 계측 결과와, 제2 샷 영역(22)의 계측 결과의 차이에 상당하는 정보이어도 된다. 혹은, 복수의 샷 영역 각각의 계측 결과이어도 된다. 여기에서, 계측 결과는, 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타낸다.

<물품의 제조방법 실시 형태>

본 발명의 실시 형태에 따른 물품의 제조방법은, 예를 들면, 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세구조를 가지는 소자 등의 물품을 제조하는데도 바람직하다. 본 실시 형태에 따른 물품 제조방법은, 기판상의 감광제에 상기의 노광 장치(노광 방법)를 사용해서 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 잠상 패턴이 형성된 기판을 가공(현상)하는 공정과, 가공된 기판으로부터 물품을 제조하는 공정을 포함한다. 제조방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 더 포함한다. 본 실시 형태의 물품 제조방법은, 종래의 방법에 비해, 물품의 성능·품질·생산성·생산 비용 중 적어도 1개에 있어서 유리하다.

<다른 실시 형태>

본 발명의 실시 형태(들)는 또한, 전술한 실시 형태(들) 중 하나 이상의 실시 형태의 기능을 행하기 위해 기억 매체(이는 또한, 더욱 완전하게는 '비일시적인 컴퓨터 판독가능 기억 매체'라고 지칭될 수도 있음)에 기록된 컴퓨터 실행가능한 명령어(예컨대, 하나 이상의 프로그램)를 판독하여 실행하고/하거나, 전술한 실시 형태(들) 중 하나 이상의 실시 형태의 기능을 행하기 위한 하나 이상의 회로(예컨대, 주문형 집적 회로(ASIC))를 포함하는 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해, 그리고 예를 들면, 전술한 실시 형태(들) 중 하나 이상의 실시 형태의 기능을 행하기 위해 기억 매체로부터 컴퓨터 실행가능한 명령어를 판독하여 실행하고/하거나, 전술한 실시 형태(들) 중 하나 이상의 실시 형태의 기능을 행하기 위한 하나 이상의 회로를 제어함으로써, 상기 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해 행해지는 방법에 의해 실현될 수 있다. 컴퓨터는 하나 이상의 프로세서(예컨대, 중앙연산처리장치(CPU), 마이크로프로세싱 유닛(MPU))를 포함할 수도 있고, 컴퓨터 실행가능한 명령어를 판독하여 실행하기 위한 별개의 컴퓨터 또는 별개의 프로세서의 네트워크를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능한 명령어는, 예를 들면, 네트워크 또는 기억 매체로부터, 컴퓨터로 제공될 수도 있다. 기억 매체는, 예를 들면, 하드 디스크, RAM(random-access memory), ROM(read only memory), 분산 컴퓨팅 시스템의 저장소, 광 디스크(예컨대, CD(compact disc), DVD(digital versatile disc), 또는 블루레이 디스크(BD)^TM), 플래시 메모리 디바이스, 메모리 카드 등 중 하나 이상을 포함할 수도 있다.

(기타의 실시 형태)

본 발명은, 상기의 실시 형태의 1개 이상의 기능을 실현하는 프로그램을, 네트워크 또는 기억 매체를 개입하여 시스템 혹은 장치에 공급하고, 그 시스템 혹은 장치의 컴퓨터에 있어서 1개 이상의 프로세서가 프로그램을 읽어 실행하는 처리에서도 실현가능하다.

또한, 1개 이상의 기능을 실현하는 회로(예를 들어,ASIC)에 의해서도 실행가능하다.

예시적인 실시 형태를 참조하여 본 발명을 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시 형태로 한정되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 하기의 청구범위의 범주는 그러한 모든 변형예와 등가의 구성 및 기능을 포괄하도록 하는 가장 넓은 해석에 부합되어야 한다.

Claims

노광 장치에 의해 노광 처리가 행하여지는 기판상의 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리가 행하여지는 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 차분 정보,
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보
중 어느 하나를 표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하도록 구성된 생성부를 구비하는 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 정보는, 상기 제1 샷 영역에 대한 상기 노광 처리의 종료시에 있어서의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보이며,
상기 제2 정보는, 상기 제2 샷 영역에 대한 상기 노광 처리의 개시시에 있어서의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보인, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 정보는, 상기 제1 샷 영역에 대한 상기 노광 처리의 종료시에 있어서의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보이며,
상기 제2 정보는, 상기 제2 샷 영역에 대한 상기 노광 처리의 개시시까지 상기 제2 샷 영역에 대해서 상기 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보인, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 정보는, 상기 제1 샷 영역에 대해서 상기 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보이며,
상기 제2 정보는, 상기 제2 샷 영역에 대해서 상기 기판의 표면 위치를 계측해서 얻어진 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 정보인, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 생성부는, 상기 기판상의 샷 영역의 위치마다 상기 표시 정보를 나타낸 분포를 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 생성부는, 사용자가 상기 기판상의 샷 영역의 위치마다 상기 표시 정보를 시각적으로 인식할 수 있도록, 색의 농도, 색의 종류 또는 수치 중 적어도 하나에 의해 상기 표시 정보를 나타낸 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
복수의 기판에 걸쳐 상기 노광 처리가 실시되었을 경우, 상기 생성부는, 샷 영역의 위치마다, 상기 복수의 기판에 대한 상기 표시 정보의 대표값을 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항에 있어서,
복수의 기판에 걸쳐 상기 노광 처리가 실시되었을 경우, 상기 생성부는, 샷 영역의 위치마다, 상기 복수의 기판에 대한 상기 표시 정보의 편차를 나타내는 통계 정보를 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노광 장치로부터 정보를 취득하도록 구성된 취득부를 더 포함하고,
상기 생성부는, 상기 취득부에 의해 상기 노광 장치로부터 취득된 정보에 기초하여 상기 표시 정보를 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노광 장치로부터 정보를 취득하도록 구성된 취득부를 더 포함하고,
상기 취득부는, 상기 노광 장치로부터 상기 표시 정보를 취득하도록 구성되며,
상기 생성부는, 상기 취득부에 의해 취득된 상기 표시 정보를 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 생성부는, 상기 표시 정보를 복수의 방향 성분에 나누어서 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 생성부는, 샷 영역의 위치마다 상기 차이를 저감시키기 위한 보정값을 적용할 것인지 아닌지를 사용자가 선택할 수 있도록, 샷 영역의 위치마다 상기 표시 정보를 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제12항에 있어서,
상기 사용자로부터 지시 입력을 접수하는 입력부와,
상기 입력부를 통해서 상기 사용자에 의해 선택된 샷 영역의 위치 정보를 상기 노광 장치에 공급하는 공급부
를 더 포함하는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 생성부는, 후속의 기판에 대하여 상기 차이를 저감시키기 위한 보정값을 적용했을 경우에 해당 후속의 기판의 각각의 샷 영역에 대해 상기 노광 처리의 개시시에 잔존하는 차이를 예측하고, 그 예측 결과를, 샷 영역의 위치마다 상기 보정값을 적용할 것인지 아닌지를 사용자가 선택할 수 있도록, 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노광 장치는, 상기 기판을 주사하면서 상기 노광 처리를 행하도록 구성된 주사 노광 장치이며, 상기 제2 샷 영역의 상기 노광 처리에 있어서, 상기 제2 샷 영역의 표면 위치를 계측하면서, 그 계측 결과에 기초하여 상기 제2 샷 영역의 위치 및 기울기 중 적어도 일방을 제어하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 정보 처리 장치는, 상기 노광 장치와 통신가능하게 접속되어 있는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 정보 처리 장치는 상기 노광 장치의 구성요소로서 상기 노광 장치와 일체로 구성되어 있는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 생성부는, 상기 표시 정보와 상기 노광 처리의 노광 정밀도에 대한 검사 결과를 동시에 상기 표시부에 표시하기 위한 상기 화상정보를 생성하도록 구성되는, 정보 처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 표시 정보는, 상기 정보 처리 장치의 외부에 있는 검사 장치의 검사 결과에 기초하여 얻어진 정보인, 정보 처리 장치.
기판상의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 노광 처리를 행하는 노광 장치의 정보를 처리하는 정보 처리 방법으로서,
상기 노광 장치로부터 정보를 취득하는 취득 공정과,
상기 노광 장치로부터 취득한 상기 정보에 기초하여 표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 생성 공정,
을 포함하고,　
상기 표시 정보는,
노광 장치에 의해 노광 처리가 행해지는 기판상의 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리를 행하여지는 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보와의 차이에 상당하는 차분 정보,
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보
중 어느 하나인, 정보 처리 방법.
컴퓨터에 제20항에 따른 정보 처리 방법을 실행시키기 위해 비일시적 컴퓨터-판독가능 기억 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
기판상의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 노광 처리를 행하는 노광 장치로서,
상기 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역에 대한 상기 노광 처리를 종료한 후, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리를 행하는 제2 샷 영역의 표면 위치를 계측하도록 구성된 계측부와,
상기 제2 샷 영역의 상기 노광 처리에 있어서, 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 상기 계측부에 의해 얻어진 계측 결과에 기초하여 제어하도록 구성된 제어부,
를 포함하고,
상기 제어부는,
상기 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 차분 정보,
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보
중 어느 하나를 표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하도록 구성되는, 노광 장치.
기판상의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 노광 처리를 행하는 노광 방법으로서,
상기 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역의 상기 노광 처리를 종료한 후, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리를 행하는 제2 샷 영역의 표면 위치를 계측하는 계측 공정과,
상기 제2 샷 영역의 상기 노광 처리에 있어서, 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 상기 제2 샷 영역의 상기 표면 위치에 대한 계측 결과에 기초하여 제어하는 제어공정과,
표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 생성 공정을 포함하고,
상기 표시 정보는, 　
상기 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 차분 정보,
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보
중 어느 하나인, 노광 방법.
기판상의 복수의 샷 영역 각각에 대해서 노광 처리를 행하는 노광 공정과,
상기 노광 공정에서 노광된 상기 기판을 가공하는 가공 공정과,
상기 가공 공정에서 가공된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 제조 공정
을 포함하고,　
상기 노광 공정은,
상기 복수의 샷 영역 가운데 제1 샷 영역에 대한 상기 노광 처리를 종료한 후, 상기 복수의 샷 영역 가운데 상기 제1 샷 영역의 다음에 상기 노광 처리를 행하는 제2 샷 영역의 표면 위치를 계측하는 계측 스텝과,
상기 제2 샷 영역의 상기 노광 처리에 있어서, 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 상기 제2 샷 영역의 상기 표면 위치에 대한 계측 결과에 기초하여 제어하는 제어 스텝과,
표시부에 표시 정보로서 표시하기 위한 화상정보를 생성하는 생성 스텝을 포함하고,
상기 표시 정보는,　
상기 제1 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제1 정보와, 상기 제2 샷 영역의 높이 및 자세 중 적어도 일방을 나타내는 제2 정보의 차이에 상당하는 차분 정보,
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 노광 처리 동안의 상기 기판의 높이 및 자세 중 적어도 하나를 나타내는 정보, 및
상기 복수의 샷 영역 각각에 대한 상기 기판의 표면 위치를 계측함으로써 얻어지는 계측 결과를 나타내는 정보
중 어느 하나인, 물품의 제조방법.