JP2021005047A - 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第1実施形態に係る露光装置について説明する。本実施形態では、露光装置として露光装置を用いた例について説明する。図1は、露光装置の構成を示す図である。また、以下では、後述の投影光学系6から照射される光の光軸に平行な方向をZ軸方向とし、Z軸方向に垂直な平面内で互いに直交する2方向をX軸方向およびY軸方向とする。また、X軸回りの回転、Y軸回りの回転、Z軸回りの回転をそれぞれθX、θY、θZとする。
次に、第2実施形態に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。
次に、第3実施形態に係るステージ装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、第1実施形態、第2実施形態に従いうる。
次に露光装置を利用した物品の製造方法を説明する。図12は、物品としてデバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の全体的な製造プロセスを示すフローチャートである。ステップ1(回路設計)ではデバイスの回路設計を行う。ステップ2(レチクル作製)では設計した回路パターンに基づいてレチクル(原版またはマスクともいう)を作製する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハ(基板ともいう)を製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のレチクルとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経てデバイスが完成し、これを出荷(ステップ7)する。
Claims (13)
- 基板を露光する露光処理を行う露光装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記基板に像を投影する投影光学系と、
前記投影光学系により投影される像を計測する像計測部と、
前記ステージを移動させる制御部と、を有し、
前記制御部は、前記像計測部により計測された計測結果から取得した前記像の変化に関する情報に基づき、前記ステージを待機させる第1位置を決定する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記ステージを待機させた直後に計測された前記像の計測結果と、前記ステージを待機位置から移動させて前記露光処理を行った後に計測された前記像の計測結果とに基づき、前記第1位置を決定することを特徴とする、請求項1に記載の露光装置。
- 前記像の計測結果は、前記像の倍率、シフト、回転のうち少なくとも1つを計測した計測結果を含むことを特徴とする、請求項2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記像の変化に関する情報に基づき、前記ステージを待機位置から移動させて開始した前記露光処理を中断した時に前記ステージを待機させる第2位置を決定することを特徴とする、請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記ステージを待機させた直後に計測された前記像の計測結果、前記処理を中断している状態で計測された前記像の計測結果、及び前記処理を完了した直後に計測された前記像の計測結果に基づき、前記第1位置及び前記第2位置を決定することを特徴とする、請求項4に記載の露光装置。
- 基板を露光する露光処理を行う露光装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記基板に像を投影する投影光学系と、
前記投影光学系の温度を計測する温度計測部と、を有し
前記ステージを移動させる制御部と、を有し、
前記制御部は、前記ステージを待機させた直後に計測された前記投影光学系の温度と前記ステージを待機位置から移動させて前記露光処理を行った後に計測された前記投影光学系の温度とに基づき、前記第1位置を決定することを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記温度計測部により計測された温度に基づき、前記処理を中断した時に前記ステージを待機させる第2位置を決定することを特徴とする、請求項6に記載の露光装置。
- 前記投影光学系の温度を計測する温度計測部と、を有し
前記制御部は、前記温度計測部により計測された温度と前記像の計測結果との第1の関係に基づき求めた前記像に関する補正量を用いて前記像を補正させることを特徴とする、請求項1に記載の露光装置。 - 前記制御部は、時間と前記温度計測部により計測された温度との第2の関係を取得して、前記第1の関係と前記第2の関係に基づき求めた補正量を用いて前記像を補正させることを特徴とする、請求項8に記載の露光装置。
- 前記制御部は、複数の位置のそれぞれに前記ステージを待機させた後に前記露光処理を行うことにより、前記複数の位置に対応した前記像の変化に関する情報を取得することを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記像の変化に関する情報は、前記像の倍率、シフト、回転のうち少なくとも1つの変化に関する情報を含むことを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- 基板を露光する露光処理を行う露光装置を制御する制御方法であって、
前記基板に像を投影する投影光学系により投影される像を計測する第1計測工程と、
前記第1計測工程の後に前記基板を保持して移動するステージを移動する移動工程と、
前記移動工程の後に前記投影光学系により投影される像を計測する第2計測工程と、
前記第1計測工程と前記第2計測工程により計測された計測結果から取得した前記像の変化に関する情報に基づき、前記ステージを待機させる第1位置を決定する工程と、を有することを特徴とする制御方法。 - 請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光処理を行う工程と、
前記工程で露光された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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