JP2015230439A - 照明光学系、顕微鏡装置、及び照明方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源からの光を複数の光束に分岐する分岐部と、複数の光束のうちの第1光束が入射する第1領域、及び複数の光束のうちの第2光束が入射する第2領域を有し、第1領域の屈折率分布および第2領域の屈折率分布のそれぞれを変化可能な位相変調装置21と、第1光束および第2光束を互いに干渉させ、その干渉縞で照明領域を照明する第1光学系24と、位相変調装置からの第1光束を、第1光学系の後側焦点面に集光し、位相変調装置からの第2光束を後側焦点面において第1光束が集光される位置と異なる位置に集光する第2光学系と、を備え、後側焦点面の第1光束の位置を第1領域の屈折率分布の変化により調整し、後側焦点面の第2光束の位置を第2領域の屈折率分布の変化により調整する照明光学系に関する。
【選択図】図2
Description
一般的に、蛍光顕微鏡では、蛍光物質を含む標本の蛍光分布が観察されるが、2D−SIMでは、2光束干渉による干渉縞(構造化照明)を用いて標本を照明することにより、標本の蛍光分布と構造化照明の分布によるモアレが形成される。そして、このモアレ像(変調像)を取得し、復調することにより、標本面と水平な方向(光軸と垂直な方向)の標本の構造に対して、解像度の高い標本画像を得ることができる。
一方、3D−SIMでは、3光束干渉による干渉縞(構造化照明)を用いて標本を照明することにより、光軸方向にも干渉縞を形成することができるため、光軸方向の標本の構造に対してもモアレを発生させることができる。これにより、光軸方向の標本の構造に対しても解像度の高い標本画像を得ることができる。
以下の実施形態の説明では、2D−SIMを例に挙げて説明するが、3D−SIMに対しても適用可能である。
図3(a)は、分岐部32を光ファイバ11側から見た図であり、図3(b)は、光学系24の後側焦点面(瞳面24A)を撮像装置5側から見た図である。なお、図3(a)は模式図であるため、図3(a)に示した分岐部32の構造周期は実際の構造周期と同じとは限らない。なお、本実施形態は2D−SIMに関するものであって、0次回折光を遮光している。そのため、図3(b)においては、便宜上、0次回折光はマスク51に遮光されていないものとし、該0次回折光の集光点19aを図示した。しかしながら、0次回折光は、実際には後述のようにマスク51で遮光されることから、瞳面24Aにて集光点を形成することはない(図1参照)。本実施形態において、±1次回折光束は、ダイクロイックミラー23で反射されて、光学系24の後側焦点面(瞳面24A)に集光する。そのため、図3(b)において、光学系24の後側焦点面(瞳面24A)は、XY平面に平行な面で規定される。
また、以上の分岐部32は、上述の並進機構35によって並進移動が可能である。並進機構35による分岐部32の並進移動の方向は、照明光学系3の光軸AZと垂直な方向であって、周期構造の方向(Z軸方向)に対して非垂直な方向である。この方向に分岐部32が並進移動すると、干渉縞の位相がシフトする。なお、詳細については後述する。以下、本実施例では、分岐部32が一次元回折格子である場合を例に挙げて説明する。
図5(a)に示すように、レンズアレイ34は、0次回折光をコリーメートするレンズ要素34aと、±1次回折光をコリーメートするレンズ要素34aの周囲に配置された6つのレンズ要素34b〜34gを含む。6つのレンズ要素34b〜34gのうち、レンズ要素34aを挟むように配置される2個1組のレンズ要素34b、34eは、回転機構38の回動角θが0°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第1方向V1に対応しており、レンズ要素34d、34gは、回転機構38の回動角θが120°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第2方向V2に対応しており、レンズ要素34c、34fは、回転機構38の回動角θが240°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第3方向V3に対応している。
このような2個1組のレンズ要素34b、34e、レンズ要素34d、34g、及びレンズ要素34c、34fが3組設けられる。そのため、本実施形態においては、レンズアレイ34を分岐部32の回転に同期して回転させる必要が無い。
図5(b)に示すように、位相変調装置21は、回転機構38の回動角θが0°のときに、レンズ要素34bからの第1光束L1が入射する第1領域A1と、レンズ要素34eからの第2光束L2が入射する第2領域A2とを含む。第2領域A2の位置は、照明光学系3の光軸AZに関して、第1領域A1の位置と対称的である。
さらに、位相変調装置21は、回転機構38の回動角θが120°のときに、レンズ要素34dからの第1光束L1が入射する第1領域A3と、レンズ要素34gからの第2光束L2が入射する第2領域A4とを有する。第1領域A3の位置は、照明光学系3の光軸AZに関して、第2領域A4の位置と対称的である。
さらに、位相変調装置21は、回転機構38の回動角θが240°のとき、レンズ要素34fからの第1光束L1が入射する第1領域A5と、レンズ要素34cからの第2光束L2が入射する第2領域A6とを含む。第1領域A5の位置は、照明光学系3の光軸AZに関して、第2領域A6の位置と対称的である。
このような2個1組の第1領域A1と第2領域A2、第1領域A3と第2領域A4、及び第1領域A5と第2領域A6が3組設けられる。そのため、本実施形態においては、位相変調装置21を分岐部32の回転に同期して回転させる必要が無い。
位相変調器36および位相変調器37は、それぞれ、いわゆる空間光変調器(SLM;Spatial Light Modulator)である。位相変調器36は、レンズアレイ34のレンズ要素34b、34d、34fの後側焦点の位置にそれぞれ配置される。位相変調器37は、レンズアレイ34のレンズ要素34e、34g、34cの後側焦点の位置にそれぞれ配置される。
図6は、本実施形態に係る位相変調器36を示す図である。本実施形態において、位相変調器36は、いわゆる透過型の液晶パネルを含む。位相変調器36は、第1基板40と、第1基板40に対向する第2基板41と、第1基板40と第2基板41との間に配置された液晶層42と、液晶層42に電界を印加する第1電極43および第2電極44と、を含む。
瞳共役面20bに向かった回折光束群は、瞳共役面20bの近傍に配置された後述のマスク51へ入射する。このマスク51を通過した回折光束群は、後述の高次光カット部材へ入射する。
本実施形態において、光学系22と光学系24との間の光路には、ダイクロイックミラー23(図1参照)が配置されており、光学系22からの第1光束L1および第2光束L2は、ダイクロイックミラー23で反射して光学系24に入射する。
図5(c)に示すように、レンズアレイ50は、位相変調装置21を介した第3光束(0次回折光)L3を集光するレンズ要素50aと、第1光束L1および第2光束L2(±1次回折光)を集光するレンズ要素50aの周囲に配置された6つのレンズ要素50b〜50gを含む。6つのレンズ要素50b〜50gのうち、レンズ要素50aを挟むように配置される2個1組のレンズ要素50b、50eは、回転機構38の回動角θが0°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第1方向V1に対応しており、レンズ要素50d、50gは、回転機構38の回動角θが120°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第2方向V2に対応しており、レンズ要素50c、50fは、回転機構38の回動角θが240°であるときに分岐部32により回折される光の回折方向(分岐方向)である第3方向V3に対応している。
このような2個1組のレンズ要素50b、50e、レンズ要素50d、50g、及びレンズ要素50c、50fが3組設けられる。そのため、本実施形態においては、レンズアレイ50を分岐部32の回転に同期して回転させる必要が無い。
また、位相変調装置21は、第2光束L2の進行方向を変化させて第2光束L2´とすることにより、瞳共役面20b上で第2光束L2(第2光束L2´)の集光位置(集光点119c)を調整可能である(図2参照)。本実施形態において、照明光学系3の光軸AZと瞳共役面20bとの交点である第3光束L3が集光する集光位置(集光点119a)から第1光束L1の集光点119bまでの距離は、集光点119aから第2光束L2の集光点119cまでの距離とほぼ同じに調整される。すなわち、±1次回折光束である第1光束L1および第2光束L2の集光点119b、119cは、それぞれ光軸AZに関して対称の位置に調整される(図2参照)。
以下、復調装置7がモアレ像を復調する方法について説明する。復調方法は、例えば、米国特許番号8115806に記載の方法が使用できるが、この方法に限られない。以下、復調方法の一例を説明する。まず、簡単のため、2D−SIMの復調方法を例に挙げて説明する。
Ikj(k)は、j番目の画像の構造化照明位相をφjと表すと、下記の式(3)で表される。
図1に示した制御装置6は、並進機構35を制御し、並進機構35により分岐部32を所定の位置にセットする(ステップS1)。次に、制御装置6は、光源装置2を制御し、光源装置2からの照明光Laにより標本S上に干渉縞を形成する(ステップS2)。次に、制御装置6は、並進機構35により分岐部32を並進移動させる(ステップS3)。次に、制御装置6は、並進機構35により分岐部32を格子ピッチの方向へシフトさせつつ、撮像装置5を制御して、撮像装置5に変調画像を撮像させる(ステップS4)。次に、制御装置6は、変調画像の復調演算に必要とされる枚数の変調画像が撮像されているか否かを判定する(ステップS5)。制御装置6は、変調演算に必要な枚数の変調画像が撮像されていない場合(ステップS5;No)に、ステップS5の処理を適宜繰り返すことによって、変調演算に必要な枚数の変調画像を取得する。一方、制御装置6は、変調演算に必要な枚数の変調画像が撮像されている場合(ステップS5;Yes)に、超解像効果を被観察物上の各方向に亘り得るべく干渉縞の向きを変更するか否かを判定する(ステップS6)。制御装置6は、干渉縞の向きを変更する場合(ステップS6;Yes)に、回転機構38を制御し、回転機構38により分岐部32を回転させる(ステップS7)。そして、ステップS2〜ステップS5の処理を適宜繰り返すことによって、変更後の干渉縞の向きにおいて変調演算に必要な枚数の変調画像を取得する。制御装置6は、干渉縞の向きを変更しない場合(ステップS6;No)に、被観察物上の各方向に亘って超解像効果が得られる変調画像を取得したと判定し、復調装置7による復調演算を実行する(ステップS8)。このようにして、顕微鏡装置1は、高い解像度を持った顕微鏡画像を得ることができる。なお、制御装置6は、変調演算に必要な枚数の変調画像が撮像される毎に、復調装置7による復調演算(ステップS8)を実行するようにしても構わない。すなわち、ステップS5とステップS6との間において、ステップS8を実行するようにしても良い。
D2/D1=Fcutoff/(Fcutoff+Fi) ・・・(4)
Fcutoff=2×NA/λ ・・・(5)
Fi=2d/(fobj×λ) ・・・(6)
D2/D1=2×fobj×NA/(2×fobj×NA+2d) ・・・(7)
Δφ=2π/λ×ρsinβ+φ0 ・・・(8)
sinβ=Δy/f ・・・(9)
Δp=λ/2NA ・・・(10)
照明光学系3は、位相変調装置21によって第1光束L1および第2光束L2のそれぞれの進行方向を変化可能であるので、瞳共役面20b上での第1光束L1の集光点119bおよび第2光束L2の集光点119c、すなわち、光学系24の後側焦点面(瞳面24A)上での第1光束L1の集光点19bおよび第2光束L2の集光点19cを調整可能である。その結果、式(10)のNAが可変となり、標本Sに形成される干渉縞のピッチΔpが可変になる。また、顕微鏡装置1は、光学系24の後側焦点面(瞳面24A)上での第1光束L1の集光点19bおよび第2光束L2の集光点19cを照明光学系3によって調整することで、式(7)に示した超解像効果を示すD2/D1を調整可能となる。
Claims (12)
- 光源からの光を複数の光束に分岐する分岐部と、
前記複数の光束のうちの第1光束が入射する第1領域、及び前記複数の光束のうちの第2光束が入射する第2領域を有し、前記第1領域の屈折率分布および前記第2領域の屈折率分布のそれぞれを変化可能な位相変調装置と、
前記第1光束および前記第2光束を互いに干渉させ、その干渉縞で照明領域を照明する第1光学系と、
前記位相変調装置からの前記第1光束を、前記第1光学系の後側焦点面に集光し、前記位相変調装置からの前記第2光束を前記後側焦点面において前記第1光束が集光される位置と異なる位置に集光する第2光学系と、
を備え、
前記後側焦点面の前記第1光束の位置を前記第1領域の屈折率分布の変化により調整し、前記後側焦点面の前記第2光束の位置を前記第2領域の屈折率分布の変化により調整する
照明光学系。 - 前記位相変調装置に入射する前記第1光束および前記第2光束のそれぞれを平行化する第3光学系を備え、
前記位相変調装置は、前記第1領域の屈折率分布により前記第1光束に付与される位相を、前記第1光束の中心光線に交差する方向において可変であり、前記第2領域の屈折率分布により前記第2光束に付与される位相を、前記第2光束の中心光線に交差する方向において可変である
請求項1に記載の照明光学系。 - 前記第3光学系は、前記分岐部からの前記第1光束および前記第2光束のそれぞれを集光する第1集光レンズと、
前記第1集光レンズからの前記第1光束を平行化するレンズ要素、及び前記第1集光レンズからの前記第2光束を平行化するレンズ要素を有する第2レンズアレイと、を備え、
前記位相変調装置は、前記第2レンズアレイの後側焦点に配置される
請求項2に記載の照明光学系。 - 前記位相変調装置は、前記第1領域上の前記第1光束の中心光線と前記第2領域上の前記第2光束の中心光線とを結ぶ方向の位置に比例する位相を、前記第1光束および前記第2光束のそれぞれに付与する
請求項2又は3に記載の照明光学系。 - 前記位相変調装置は、前記第1光束に付与する位相と前記第2光束に付与する位相とを変化させることにより、前記干渉縞の位相を変化させる
請求項1〜4のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記位相変調装置は、前記分岐部により分岐された光束が入射する液晶層と、前記液晶層に電界を印加可能な電極とを含む
請求項1〜5のいずれか一項に記載の照明光学系。 - 前記液晶層に入射する光束を直線偏光にする偏光素子を備える
請求項6記載の照明光学系。 - 前記第2光学系は、前記第1領域からの前記第1光束を集光するレンズ要素、及び前記第2領域からの前記第2光束を集光するレンズ要素を有する第1レンズアレイを含む
請求項1〜7のいずれか一項に記載の照明光学系。 - 前記分岐部は、回折光学素子を含む
請求項1〜8のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記位相変調装置は、前記共役面上の前記第1光束の位置および前記第2光束の位置を、前記干渉縞によってエバネッセント場が形成されるように、調整可能である
請求項1〜9のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の照明光学系と、
前記照明光学系が形成する前記干渉縞で変調された試料の変調像を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置が撮像した前記変調像を復調する復調装置と、を備える顕微鏡装置。 - 光源からの光を複数の光束に分岐することと、
前記複数の光束のうちの第1光束が入射する第1領域、及び前記複数の光束のうちの第2光束が入射する第2領域を有し、前記第1領域の屈折率分布および前記第2領域の屈折率分布のそれぞれを変化可能な位相変調装置を配置することと、
前記位相変調装置からの前記第1光束を、該第1光束および前記第2光束を互いに干渉させ、その干渉縞で照明領域を照明させる光学系の後側焦点面に集光し、前記位相変調装置からの前記第2光束を前記後側焦点面において前記第1光束が集光される位置と異なる位置に集光することと、
前記後側焦点面の前記第1光束の位置を前記第1領域の屈折率分布の変化により調整し、前記後側焦点面の前記第2光束の位置を前記第2領域の屈折率分布の変化により調整することと、
前記光学系により前記第1光束および前記第2光束を互いに干渉させ、その干渉縞で照明領域を照明することと、を含む照明方法。
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