JP2015228403A - 加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】位置検出機構の為のスペースを用意することなく、簡単な構成でウェーハの切り欠きや、中心位置の検出を行うことのできる加工装置を提供する。【解決手段】カセット12からウェーハ11を搬出する保持ハンド28と、保持ハンドからウェーハを引き取ってチャックテーブルにウェーハを搬送する搬送手段とを備え、カセットから搬出されたウェーハを保持ハンドに保持された状態で上方から撮像し、ウェーハの外周を含む撮像画像を取得する撮像手段と、撮像画像のウェーハ外周3点以上の座標から保持されたウェーハの中心位置を割り出す算出手段と、チャックテーブルの中心にウェーハの中心が位置づけられるようにチャックテーブルの移動距離と搬送手段の移動距離とを制御する制御手段とを更に備え、カセットから搬出されるウェーハが上方を通過する撮像領域と保持ハンドのウェーハ外周が位置づけられる領域とに反射材52、54が配設されている加工装置。【選択図】図4

Description

本発明は、切削装置、レーザー加工装置等の加工装置に関する。
IC,LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウェーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスチップに分割され、分割されたデバイスチップは携帯電話、パソコン等の各種電子機器に広く利用されている。
半導体ウェーハ(以下、単にウェーハと略称することがある)を加工する加工装置には、上述した切削装置、研削装置の他にレーザー加工装置がある。これらの各種加工装置では、カセットに収容されたウェーハをカセットから引き出して装置内で搬送し各種加工を施すようにしている。
例えば、ウェーハを分割予定ラインに沿ってフルカットしてウェーハを個々のデバイスチップに分割する場合には、ウェーハを外周部が環状フレームに装着されたダイシングテープに貼着してフレームユニットを形成し、フレームユニットの形態でカセット内に収容し、装置内で搬送してフレームユニットをチャックテーブルに保持した状態でウェーハに切削加工を施す。
しかし、先ダイシング法(Dicing Before Grinding)、エッジトリミング、ウェーハ内部に改質層を形成するレーザー加工等では、ウェーハは単体で搬送され、ウェーハにハーフカット、円形加工、改質層の形成が行われる。
このような場合には、カセット内に収容された状態ではウェーハの向きはばらばらであるため、カセットからチャックテーブルにウェーハを搬送する際に、ウェーハの結晶方位を示す切り欠き(ノッチやオリエンテーションフラット)の位置検出及び調整を事前に行う必要があった。
また、ウェーハの中心をチャックテーブルの中心に位置付けてウェーハをチャックテーブル上に載置させるために、ウェーハの中心位置合わせ(センタリング)も行う必要があった。
この要求を満たすために、特開2005−11917号公報に開示された半導体ウェーハの加工装置では、カセット載置台の下方に、ノッチ検出部とセンタリング部を備えた位置検出機構を設け、カセットから搬出されたウェーハはいったん位置検出機構に送られて切り欠きの位置検出及びセンタリングが行われた後、再度搬送してチャックテーブルに載置するようにしている。
特開2005−11917号公報
ウェーハ単体でカセット内に複数のウェーハを収容し、ウェーハ単体で加工を行う場合には、特許文献1に開示されたような位置検出機構によりウェーハのノッチの検出及びセンタリングを行った後、搬送装置により再度搬送してチャックテーブル上に載置する。
よって、フレームユニット形状のウェーハに比べて、調整作業時間がかかっていた。また、反ったウェーハについては、位置調整で用いる突き当て手段による位置調整ができないという問題もあった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、特別に位置検出機構を配設するためのスペースを用意することなく、簡単な構成でウェーハの切り欠きの検出や中心位置の検出を行うことのできる加工装置を提供することである。
本発明によると、ウェーハを保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハを加工する加工手段と、該チャックテーブルを加工送り方向に移動させる加工送り手段と、複数のウェーハを収容するカセットを載置するカセット載置台と、該カセット載置台に載置された該カセットからウェーハを搬出する保持ハンドと、該保持ハンドからウェーハを引き取って保持し該チャックテーブルにウェーハを搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、該カセットから搬出されたウェーハを該保持ハンドに保持された状態で上方から撮像し、外周を含むウェーハの撮像画像を取得する撮像手段と、該撮像画像のウェーハの外周の3点以上の座標から、該保持ハンドに保持されたウェーハの中心位置を割り出す算出手段と、該搬送手段が該保持ハンドから引き取って保持したウェーハを該チャックテーブルに搬送する際に、該チャックテーブルの中心に該ウェーハの中心が位置づけられるように、該チャックテーブルの該加工送り方向の移動距離と該搬送手段の移動距離とを制御する制御手段と、を更に備え、該保持ハンドで該カセットから搬出中のウェーハを撮像する撮像領域には反射材が配設され、該反射材は、該カセットから搬出されるウェーハが上方を通過し該保持ハンドの搬出方向と直交する方向でウェーハの直径を超える幅の領域と、該保持ハンドの保持面において保持したウェーハの外周が位置づけられる領域と、に配設されていることを特徴とする加工装置が提供される。
好ましくは、前記ウェーハは結晶方位を示す切り欠きを外周に有し、前記算出手段は、前記撮像画像から前記保持ハンドに保持されたウェーハの該切り欠きの所定方向からの角度を割り出し、前記制御手段は、該保持面と直交する回転軸で回転する該チャックテーブルの回転角度を制御し、該保持ハンドから前記搬送手段を介して前記チャックテーブルに保持されるウェーハの該切り欠きが該所定方向を向くように、ウェーハを保持した該チャックテーブルを回転させる。
好ましくは、前記ウェーハは外周に面取り部を有し、前記加工手段は前記チャックテーブルに保持されたウェーハの該面取り部を切削して除去する。
本発明の加工装置によると、保持ハンドでカセット内からウェーハを搬出して保持した状態でウェーハを撮像し、ウェーハの撮像画像から切り欠きの向きやウェーハの中心位置を検出することで、チャックテーブルの回転角度や搬送手段でのウェーハ搬送時の移動距離及びチャックテーブルの移動距離を調整することができるため、従来必要であった位置検出機構を省略することができる。
また、反射材の設置によって、ウェーハの外周を確実に鮮明に撮像することができるので、より正確にウェーハの撮像画像から切り欠きの向きやウェーハの中心位置を検出することができる。
更に、反ったウェーハも保持ハンド中に吸引保持することで、部分的であるにせよ平坦に矯正することができるため、平坦部分の撮像画像を用いることで容易に中心位置を割り出すことができる。
本発明実施形態に係る切削装置の斜視図である。 半導体ウェーハの表面側斜視図である。 本発明実施形態に係る切削装置の要部の作用を説明する一部断面側面図である。 切削装置の要部の作用を示す平面図である。 ハンドに保持されたウェーハとウェーハの所定位置との関係を示す平面図である。 制御手段の調整方法(制御方法)を説明する模式図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る切削装置2の斜視図が示されている。4は切削装置2のベースであり、このベース4にチャックテーブル6が回転可能且つ図示しない加工送り機構によってX軸方向に往復動可能に配設されている。チャックテーブル6はウェーハ11を吸引保持する保持面6aを有している。8は加工送り機構をカバーする蛇腹である。
ベース4には、カセット載置台10がカセットエレベーター(昇降手段)により鉛直方向(Z軸方向)に昇降可能に配設されている。カセット載置台10上には図3に示すような複数の半導体ウェーハ11を収容したカセット12が載置される。
図2に示すように、半導体ウェーハ(以下、単にウェーハと略称することがある)11の表面11aには複数の分割予定ライン(ストリート)13によって区画された各領域にIC,LSI等のデバイス15が形成されている。
ウェーハ11の外周にはウェーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。このノッチ21に代わり、ウェーハ11の外周部分を大きく直線状に切り欠いたオリエンテーションフラットが形成されているウェーハもある。本明細書及び特許請求の範囲では、ノッチ21及びオリエンテーションフラットを総称して切り欠きと称することにする。
ウェーハ11の外周には表面11aから裏面11bにわたる円弧状の面取り部11eが形成されている。このように形成されたウェーハ11は、複数のデバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19とをその表面に有している。
再び図1を参照すると、ベース4の後方には門型形状の第1コラム14が立設されており、この第1コラム14に第1切削ユニット16A及び第2切削ユニット16BがY軸方向及びZ軸方向に移動可能に取り付けられている。
第1及び第2切削ユニット16A,16Bは、回転駆動されるスピンドルの先端に装着された切削ブレード18を含んでいる。ベース4の中間部分には門型形状の第2コラム20が立設されている。第2コラム20には3本のガイドレール(直動軸)22,24,26が固定されている。
28はカセット12内に収容されたウェーハ11を搬出したりカセット12内にウェーハ11を搬入したりする保持ハンドであり、支持部材30を介してガイドレール22に沿ってY軸方向に往復動可能に配設されている。保持ハンド28の先端部表面には吸引孔28aが形成されている。吸引孔28aは電磁弁を介して吸引手段に接続されている。
32は吸引保持部34を有する第1保持手段(第1保持ユニット)であり、ガイドレール24に沿ってY軸方向に往復動可能に配設されている。36は吸引保持部38を有する第2搬送手段(第2搬送ユニット)であり、ガイドレール26に沿ってY軸方向に往復動可能に配設されている。
40は切削加工後のウェーハ11をスピン洗浄及びスピン乾燥するスピンナー洗浄ユニットであり、ウェーハを保持する回転可能なスピンナーテーブル42を有している。保持ハンド28がウェーハ11をカセット12に搬出入する搬送経路の上方には撮像手段(撮像ユニット)44が配設されている。撮像手段44は撮像領域を撮像するCCDカメラ等のカメラを含んでいる。
カセット載置台10上に載置されたカセット12と蛇腹8との間の撮像手段44の撮像領域には反射材52が配設されている。更に、保持ハンド28の保持面において保持したウェーハ11の外周が位置づけられる領域にも反射材54が配設されている。反射材52,54としては、例えばテープ型反射板を貼付する形態が採用可能である。或いは、保持ハンド28の反射材54は保持ハンド28を鏡面仕上げするようにしても良い。
次に、図3乃至図6を参照して、上述した切削装置2の要部の作用について説明する。図3に示すように、カセット12の側壁内面には所定間隔離間して複数の棚12aが形成されており、ウェーハ11はこれらの棚12aに支持されてカセット12内に複数枚収容されている。カセット12内に収容されたウェーハ11のノッチ21の方向は一定ではなくばらばらである。
カセット12内に収容されたウェーハ11をカセット12から搬出する際には、図3(A)及び図4(A)に示すように、保持ハンド28をカセット12内に挿入して保持ハンド28の上面にウェーハ11を吸引保持した後、保持ハンド28を矢印Y1方向に一定速度で移動する。図4で45は撮像手段44の撮像領域を示している。
保持ハンド28でウェーハ11をカセット12内から搬出しながら撮像手段44でウェーハ11を複数回撮像する。例えば、図3(A)及び図4(A)に示すように、ウェーハ11を略半分引き出した状態で1回撮像し、次に図3(B)及び図4(B)に示すように、ウェーハ11をカセット12から完全に引き出した状態で1回撮像する。撮像時には保持ハンド28の移動を停止する必要なく、保持ハンド28がY軸方向に移動しながら撮像手段44で保持ハンド28に保持されたウェーハ11を撮像する。
カセット載置台10上に載置されたカセット12と蛇腹8との間の撮像手段44の撮像領域に反射材52が配設され、更にウェーハ保持ハンド28の表面に反射材54が配設されているため、撮像手段44によりウェーハ11の外周を確実に鮮明に撮像することができる。
撮像手段44は制御手段46に接続されている。特に図示しないが、制御手段46はチャックテーブル6の回転及び移動を含む他の多くの機構部分の動作を制御する。制御手段46は、撮像手段44が撮像した複数の撮像画像を1つの撮像画像に合成し、この画像を例えば切削装置2の表示モニタ上に表示する。
図5を参照すると、表示モニタ上に表示された撮像画像の一例が示されている。図5で2点斜線で示すウェーハ11は保持ハンド28で吸引保持された所定位置のウェーハを示している。
このように所定位置で吸引保持されたウェーハ11では、保持ハンド28及び第1搬送手段32の移動距離に何ら補正を加えることなく、ウェーハ11の中心C0を原点位置に停止されたチャックテーブル6の中心に合わせてウェーハ11をチャックテーブル6上に載置することができるように調整されている。
撮像手段44で撮像されたウェーハ11の画像が実線で示すような場合には、ウェーハ11は所定位置からずれて保持ハンド28により保持され、ノッチ21は所定方向(例えばY軸方向)から所定角度(例えば20°)回転して保持されていることになる。
この場合には、撮像画像からウェーハ11の外周の少なくとも3点をとり、2点同士を結んだ線分の垂直2等分線の交点として制御手段46の中心検出部50でウェーハ11の中心C1を検出する。
制御手段46の算出手段48で、保持ハンド28に保持されたウェーハ11の中心C1と所定位置のウェーハ11の中心C0との間のX軸方向の距離aとY軸方向の距離bとを算出する。
算出手段48ではさらに、保持ハンド28に保持されたウェーハ11のノッチ21のY軸方向からの角度を割り出す。本実施形態では、この角度が20°であったものとする。尚、算出手段48は上述した中心位置検出部50を有している。
このように制御手段46の算出手段48で保持ハンド28に保持されたウェーハ11の所定位置からのずれ量a,b及びノッチ21の角度を割り出した後、制御手段46は以下のように制御する。
すなわち、制御手段46は、第1搬送手段32が保持ハンド28から引き取って保持したウェーハ11をチャックテーブル6に搬送する際に、チャックテーブル6の中心にウェーハ11の中心C1が位置づけられるよう、第1搬送手段32のガイドレール(直動軸)22に沿った移動距離bと、チャックテーブル6の加工送り方向の移動距離aとを制御する。
制御手段46はさらに、このようにウェーハ11の中心C1がチャックテーブル6の中心に合わされてウェーハ11がチャックテーブル6上に載置された後、図6に示すように、チャックテーブル6を矢印A方向に20°回転して、ウェーハ11のノッチ21がY軸方向に一致するようにチャックテーブル6を回転制御する。
これにより、ウェーハ11の中心C1がチャックテーブル6の中心に合わされ且つノッチ21がY軸方向を向くようにウェーハ11はチャックテーブル6に吸引保持されたことになる。この状態で、第1切削ユニット16A又は第2切削ユニット16Bでチャックテーブル6に保持されたウェーハ11に切削加工を施す。
上述した実施形態では、保持ハンド28がウェーハ11をカセット12内から搬出する搬出経路上に撮像手段44を配設して、撮像手段の撮像画像からノッチ21の向きやウェーハ11の中心C1を検出することで、チャックテーブル6の回転角度やウェーハ搬送時の移動距離及びチャックテーブル6の移動距離を適宜調整できるため、従来必要であった位置検出装置を省略することができる。
更に、カセット載置台10上に載置されたカセット12と蛇腹8との間の撮像手段44の撮像領域に反射材52を配設し、保持ハンド28に反射材54を配設したので、撮像時にウェーハ11の外周を確実に鮮明に撮像することができ、ウェーハ11の撮像画像からノッチ21の向きやウェーハ11の中心位置を確実に検出することができる。
上述した実施形態では、本発明の要部を切削装置に適用した例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、カセット内に単体のウェーハを収容して加工を施すレーザー加工装置、研削装置等の他の加工装置にも同様に適用することができる。
2 切削装置
6 チャックテーブル
11 半導体ウェーハ
12 カセット
16A 第1切削ユニット
16B 第2切削ユニット
28 保持ハンド
32 第1搬送手段
36 第2搬送手段
44 撮像手段
46 制御手段
52,54 反射材

Claims (3)

  1. ウェーハを保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハを加工する加工手段と、該チャックテーブルを加工送り方向に移動させる加工送り手段と、複数のウェーハを収容するカセットを載置するカセット載置台と、該カセット載置台に載置された該カセットからウェーハを搬出する保持ハンドと、該保持ハンドからウェーハを引き取って保持し該チャックテーブルにウェーハを搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、
    該カセットから搬出されたウェーハを該保持ハンドに保持された状態で上方から撮像し、外周を含むウェーハの撮像画像を取得する撮像手段と、
    該撮像画像のウェーハの外周の3点以上の座標から、該保持ハンドに保持されたウェーハの中心位置を割り出す算出手段と、
    該搬送手段が該保持ハンドから引き取って保持したウェーハを該チャックテーブルに搬送する際に、該チャックテーブルの中心に該ウェーハの中心が位置づけられるように、該チャックテーブルの該加工送り方向の移動距離と該搬送手段の移動距離とを制御する制御手段と、を更に備え、
    該保持ハンドで該カセットから搬出中のウェーハを撮像する撮像領域には反射材が配設され、
    該反射材は、該カセットから搬出されるウェーハが上方を通過し該保持ハンドの搬出方向と直交する方向でウェーハの直径を超える幅の領域と、該保持ハンドの保持面において保持したウェーハの外周が位置づけられる領域と、に配設されていることを特徴とする加工装置。
  2. 前記ウェーハは結晶方位を示す切り欠きを外周に有し、
    前記算出手段は、前記撮像画像から前記保持ハンドに保持されたウェーハの該切り欠きの所定方向からの角度を割り出し、
    前記制御手段は、該保持面と直交する回転軸で回転する該チャックテーブルの回転角度を制御し、該保持ハンドから前記搬送手段を介して前記チャックテーブルに保持されるウェーハの該切り欠きが該所定方向を向くように、ウェーハを保持した該チャックテーブルを適宜回転させることを特徴とする請求項1記載の加工装置。
  3. 前記ウェーハは外周に面取り部を有し、
    前記加工手段は前記チャックテーブルに保持されたウェーハの該面取り部を切削して除去する切削ブレードを備える請求項1又は2記載の加工装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019195015A (ja) * 2018-05-01 2019-11-07 株式会社ディスコ 加工装置
CN110828341A (zh) * 2019-10-16 2020-02-21 福建省福联集成电路有限公司 一种自动倾斜晶圆载片装置
CN112388154A (zh) * 2019-07-31 2021-02-23 株式会社迪思科 激光加工装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009255214A (ja) * 2008-04-15 2009-11-05 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2015119003A (ja) * 2013-12-17 2015-06-25 株式会社ディスコ 加工装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009255214A (ja) * 2008-04-15 2009-11-05 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2015119003A (ja) * 2013-12-17 2015-06-25 株式会社ディスコ 加工装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019195015A (ja) * 2018-05-01 2019-11-07 株式会社ディスコ 加工装置
KR20190126248A (ko) * 2018-05-01 2019-11-11 가부시기가이샤 디스코 가공 장치
JP7061012B2 (ja) 2018-05-01 2022-04-27 株式会社ディスコ 加工装置
KR102633607B1 (ko) * 2018-05-01 2024-02-05 가부시기가이샤 디스코 가공 장치
CN112388154A (zh) * 2019-07-31 2021-02-23 株式会社迪思科 激光加工装置
CN112388154B (zh) * 2019-07-31 2022-12-27 株式会社迪思科 激光加工装置
CN110828341A (zh) * 2019-10-16 2020-02-21 福建省福联集成电路有限公司 一种自动倾斜晶圆载片装置

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