JP2015201635A - Multilayer wiring board manufacturing method - Google Patents

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翔三 結城
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寿夫 近藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board which can maintain electrical continuity between wiring layers well by an interlayer connection body to achieve excellent reliability.SOLUTION: A multilayer wiring board manufacturing method comprises the steps of: applying a conductive paste on a first metal foil to form a bump composed of the conductive paste; subsequently depressing a second metal foil to the first metal foil via an insulation resin layer without containing fibrous filler at a first temperature to fluidize the insulation resin layer to remove the insulation resin layer remaining on an upper end of the bump; subsequently depressing the second metal foil to the first metal foil via the insulation resin layer at a second temperature higher than the first temperature to cure the insulation resin layer and the bump and laminate the second metal foil on the insulation resin layer.

Description

本発明は、多層配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board.

近年の電子機器の高性能化・小型化の流れの中、回路部品の高密度、高機能化が一層求められている。かかる観点より、回路部品を搭載したモジュールにおいても、高密度、高機能化への対応が要求されている。このような要求に答えるべく、現在では配線基板を多層化することが盛んに行われている。   In recent years, electronic devices are required to have higher density and higher functionality in the trend of higher performance and smaller size. From this point of view, even modules with circuit components are required to support high density and high functionality. In order to meet such demands, multilayer wiring boards are now being actively performed.

このような多層配線基板においては、複数の配線層を互いに略平行となるようにして配置し、配線層間に絶縁部材を配し、絶縁部材間を厚さ方向に貫通した層間接続体(ビア)を形成し、複数の配線層を互いに電気的に接続するようにしている。   In such a multilayer wiring board, a plurality of wiring layers are arranged so as to be substantially parallel to each other, an insulating member is disposed between the wiring layers, and an interlayer connection body (via) that penetrates between the insulating members in the thickness direction. And a plurality of wiring layers are electrically connected to each other.

上述のような多層配線基板は、以下のような方法によって形成することができる。例えば第1の金属箔上にAgなどの金属を含有する導電性ペーストをスクリーン印刷などの方法で塗布してバンプを形成し、当該バンプを乾燥させた後、ロールラミネーターや真空ラミネーターなどの装置を用い、上記金属箔上に、当該バンプが厚さ方向に貫通するようにして絶縁樹脂層をプレス形成する。次いで、絶縁樹脂層上にさらに第2の金属箔を積層し、プレス装置により、加熱下、加圧することによって、当該第2の金属箔を絶縁樹脂層を貫通したバンプの上端部と接合する(積層プレス)。   The multilayer wiring board as described above can be formed by the following method. For example, a conductive paste containing a metal such as Ag is applied to the first metal foil by a method such as screen printing to form bumps, and after drying the bumps, a device such as a roll laminator or a vacuum laminator is installed. The insulating resin layer is press-formed on the metal foil so that the bumps penetrate in the thickness direction. Next, a second metal foil is further laminated on the insulating resin layer, and the second metal foil is bonded to the upper end portion of the bump penetrating the insulating resin layer by applying pressure under heating with a press device ( Laminating press).

これによって、上記第1の金属箔及び第2の金属箔は配線層を構成し、絶縁樹脂層はこれら配線層間に介在する絶縁部材を構成し、バンプは層間接続体(ビア)を構成するようになり、多層配線基板を得ることができる(特許文献1等参照)。   Thus, the first metal foil and the second metal foil constitute a wiring layer, the insulating resin layer constitutes an insulating member interposed between these wiring layers, and the bump constitutes an interlayer connection (via). Thus, a multilayer wiring board can be obtained (see Patent Document 1, etc.).

なお、さらなる多層化に際しては、上述の工程を繰り返し、第2の金属箔上に順次バンプ、絶縁樹脂層(絶縁部材)及び金属箔を形成することによって実現することができる。   Further multilayering can be realized by repeating the above-described steps and sequentially forming bumps, an insulating resin layer (insulating member) and a metal foil on the second metal foil.

しかしながら、多層配線基板を構成する絶縁部材、すなわち絶縁樹脂層中には一般にガラスクロス等が含有されている。したがって、上述のような第1の積層プレスを実施した際に、バンプが絶縁樹脂層を厚さ方向に完全に貫通せずに、その上端部が絶縁樹脂層の一部によって被覆されてしまう場合がある。その結果、第2の積層プレスにおいて、バンプの上端部と第2の金属箔との間に絶縁樹脂層が残存し、完成した多層配線基板の層間接続体の上端部と配線層との間に絶縁部材の一部が残存してしまう場合があった。   However, the insulating member constituting the multilayer wiring board, that is, the insulating resin layer generally contains glass cloth or the like. Therefore, when the first laminated press as described above is performed, the bump does not completely penetrate the insulating resin layer in the thickness direction, and the upper end portion thereof is covered with a part of the insulating resin layer. There is. As a result, in the second lamination press, the insulating resin layer remains between the upper end of the bump and the second metal foil, and between the upper end of the interlayer connection body of the completed multilayer wiring board and the wiring layer. Some insulating members may remain.

この結果、絶縁部材によって離隔された配線層間を層間接続体によって電気的に導通した状態に保持することが困難となり、多層配線基板の電気的特性が劣化するとともに、その信頼性が低下してしまうという問題があった。   As a result, it becomes difficult to hold the wiring layers separated by the insulating member in an electrically conductive state by the interlayer connector, and the electrical characteristics of the multilayer wiring board deteriorate and the reliability thereof decreases. There was a problem.

特開第5182421号Japanese Patent No. 5182421

本発明は、層間接続体によって配線層間の電気的導通を十分に保持することができ、信頼性に優れた多層配線基板を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a multilayer wiring board that can sufficiently maintain electrical continuity between wiring layers by an interlayer connection body and has excellent reliability.

上記目的を達成すべく、本発明は、
第1の金属箔上に導電性ペーストを塗布し、当該導電性ペーストからなるバンプを形成する工程と、
前記第1の金属箔に対して、繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層を介して第2の金属箔を第1の温度で押圧し、前記絶縁樹脂層を流動化させて、前記バンプの上端部に残存する前記絶縁樹脂層を除去し、前記絶縁樹脂層から前記バンプの上端部を露出させる工程と、
前記第1の金属箔に対して、前記第2の金属箔を、前記絶縁樹脂層を介して、前記第1の温度よりも高い第2の温度で押圧し、前記絶縁樹脂層及び前記バンプを硬化させるとともに、当該絶縁樹脂層上に前記第2の金属箔を積層する工程と、
を具えることを特徴とする、多層配線基板の製造方法に関する。
In order to achieve the above object, the present invention provides:
Applying a conductive paste on the first metal foil and forming a bump made of the conductive paste;
The second metal foil is pressed against the first metal foil through an insulating resin layer that does not contain a fibrous filler at a first temperature to fluidize the insulating resin layer, and the upper end of the bump Removing the insulating resin layer remaining in the part, exposing the upper end of the bump from the insulating resin layer;
The second metal foil is pressed against the first metal foil via the insulating resin layer at a second temperature higher than the first temperature, and the insulating resin layer and the bump are Curing, and laminating the second metal foil on the insulating resin layer;
It is related with the manufacturing method of a multilayer wiring board characterized by comprising.

本発明によれば、第1の金属箔上に導電性ペーストからなるバンプを形成した後、第1の金属箔に対して繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層を介して第2の金属箔を第1の温度で押圧するようにしている。このとき、絶縁樹脂層は温度の上昇とともに粘度が低下して流動化するようになるので、押圧の際にバンプの上端部に残存している絶縁樹脂層が排除され、当該上端部が絶縁樹脂層から露出するようになる。   According to the present invention, after the bump made of the conductive paste is formed on the first metal foil, the second metal foil is passed through the insulating resin layer not containing the fibrous filler with respect to the first metal foil. The pressing is performed at the first temperature. At this time, since the viscosity of the insulating resin layer decreases and fluidizes as the temperature rises, the insulating resin layer remaining on the upper end portion of the bump during pressing is eliminated, and the upper end portion is insulated with the insulating resin layer. Be exposed from the layer.

したがって、後に第1の温度より高い第2の温度で再度第2の金属箔を第1の金属箔に対して押圧して積層プレスを行う際に、第2の金属箔は、絶縁樹脂層から露出した硬化後のバンプ(ビア)の上端部と確実に結合するようになり、これによって、後に配線層となる第1の金属箔及び第2の金属箔は高い信頼性の下に電気的に接続されるようになる。結果として、層間接続体(ビア)によって配線層間の電気的導通を十分に保持することができ、信頼性に優れた多層配線基板を提供することができるようになる。   Therefore, when the second metal foil is pressed against the first metal foil again at a second temperature higher than the first temperature and the lamination press is performed later, the second metal foil is separated from the insulating resin layer. As a result, the first metal foil and the second metal foil, which later become wiring layers, are electrically connected with high reliability. Get connected. As a result, the electrical connection between the wiring layers can be sufficiently retained by the interlayer connector (via), and a multilayer wiring board having excellent reliability can be provided.

なお、本発明では、多層配線基板を構成する絶縁部材を繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層から構成し、第1の温度で加熱して流動化させて、バンプの上端部に残存している絶縁樹脂層を排除し、当該上端部を絶縁樹脂層から露出するようにしている。したがって、従来とは異なり、第1の金属箔上に絶縁樹脂層をプレス形成する際に、バンプを絶縁樹脂層に対して貫通させるという工程を省略することができる。   In the present invention, the insulating member that constitutes the multilayer wiring board is formed of an insulating resin layer that does not contain a fibrous filler, and is heated and fluidized at the first temperature to remain at the upper end of the bump. The insulating resin layer is excluded, and the upper end portion is exposed from the insulating resin layer. Therefore, unlike the conventional case, when the insulating resin layer is press-formed on the first metal foil, a step of penetrating the bumps with respect to the insulating resin layer can be omitted.

また、本発明では、多層配線基板を構成する絶縁部材を繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層から構成しているので、絶縁部材の厚さを狭小化することができる。したがって、多層配線基板の微細化及び高密度を図ることもできる。   Moreover, in this invention, since the insulating member which comprises a multilayer wiring board is comprised from the insulating resin layer which does not contain a fibrous filler, the thickness of an insulating member can be reduced. Therefore, miniaturization and high density of the multilayer wiring board can be achieved.

なお、本発明における“バンプの上端部”とは、第2の金属箔、すなわち配線層と結合するバンプ領域の一部を指すものである。   In the present invention, the “upper end portion of the bump” refers to a part of the bump region that is coupled to the second metal foil, that is, the wiring layer.

また、絶縁樹脂層は、繊維状のフィラーを含まないことが要求されるものであって、例えば粒子状あるいは粉末状のフィラーは含まれていてもよい。   The insulating resin layer is required not to contain a fibrous filler, and for example, a particulate or powdery filler may be included.

本発明の一例において、バンプを構成する導電性ペーストは、少なくともSn,Bi,Cu及びAgを含む導電性ペーストとすることができる。この場合、導電性ペーストからなるバンプを形成し、適宜乾燥した後、第1の金属箔に対して繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層を配設して加熱し、バンプの上端部が絶縁樹脂層から露出した後、第2の金属箔を当該絶縁樹脂層を介して加熱下押圧した際に、上記バンプを構成する金属のうち、Sn Bi及びCuが焼結助剤として機能するようになり、例えば上記加熱によって液相となって、上記バンプは樹脂等のバインダー成分を含む少なくともSn,Bi,Cu及びAgの金属焼結体となる。   In an example of the present invention, the conductive paste constituting the bump can be a conductive paste containing at least Sn, Bi, Cu, and Ag. In this case, after forming a bump made of a conductive paste and drying it as appropriate, an insulating resin layer not containing a fibrous filler is disposed on the first metal foil and heated, and the upper end of the bump is insulated resin. After being exposed from the layer, when the second metal foil is pressed under heat through the insulating resin layer, among the metals constituting the bump, Sn Bi and Cu function as a sintering aid. For example, a liquid phase is formed by the heating, and the bump becomes a metal sintered body of at least Sn, Bi, Cu, and Ag containing a binder component such as a resin.

この結果、従来のように、多層配線基板を構成するバンプ(加熱硬化後のビア)中に銀などの粒子が含有されている場合に比較して、粒子間の界面減少によるバンプ(ビア)の表面積が減少するので、高速伝送時に表皮効果による導体損失が減少し、信号遅延が発生してしまうという問題を抑制することができる。   As a result, as compared with the case where particles such as silver are contained in the bumps (heat-cured vias) constituting the multilayer wiring board as in the prior art, the bumps (vias) due to the reduction in the interface between the particles are reduced. Since the surface area is reduced, it is possible to suppress the problem that the conductor loss due to the skin effect is reduced during high-speed transmission and signal delay occurs.

本発明の一例において、バンプは円錐形状とすることができる。この場合、絶縁樹脂層を第1の温度で加熱して流動化させた際に、バンプの上端部から絶縁樹脂層がより流れやすくなるので、当該上端部に残存する絶縁樹脂層をより効果的に排除して除去することができる。   In one example of the present invention, the bump can be conical. In this case, when the insulating resin layer is heated and fluidized at the first temperature, the insulating resin layer more easily flows from the upper end portion of the bump. Therefore, the insulating resin layer remaining on the upper end portion is more effective. Can be eliminated and removed.

以上、本発明によれば、層間接続体によって配線層間の電気的導通を十分に保持することができ、信頼性に優れた多層配線基板を提供することができる。   As described above, according to the present invention, the electrical connection between the wiring layers can be sufficiently maintained by the interlayer connector, and a multilayer wiring board having excellent reliability can be provided.

第1の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 1st Embodiment. 第1の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 1st Embodiment. 第1の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 1st Embodiment. 第1の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 1st Embodiment. 第1の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 1st Embodiment. 第2の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the multilayer wiring board of 2nd Embodiment.

以下、本発明の具体的特徴について、発明を実施するための形態に基づいて説明する。   Hereinafter, specific features of the present invention will be described based on embodiments for carrying out the invention.

(第1の実施形態)
図1〜図5は、本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための断面図であり、本実施形態における特徴を明確にすべく、1つのバンプの近傍の領域を拡大して示している。
(First embodiment)
1 to 5 are cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present embodiment. In order to clarify the features of the present embodiment, an area near one bump is enlarged and shown. ing.

最初に、図1に示すように、第1の金属箔11上に、例えばスクリーン印刷法、ディスペンス法又はインクジェット法などの任意の方法で導電性ペーストを塗布し、当該導電性ペーストからなるバンプ12を形成する。   First, as shown in FIG. 1, a conductive paste is applied on the first metal foil 11 by an arbitrary method such as a screen printing method, a dispensing method, or an ink jet method, and bumps 12 made of the conductive paste are applied. Form.

第1の金属箔11は、後に多層配線基板の配線層を構成することから、銅(Cu),金(Au),銀(Ag)あるいはアルミニウム(Al)などの電気的良導体から構成する。また、第1の金属箔11の厚さt1は、例えば1.5μm〜40μmとする。   Since the first metal foil 11 will later constitute the wiring layer of the multilayer wiring board, it is made of a good electrical conductor such as copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), or aluminum (Al). The thickness t1 of the first metal foil 11 is, for example, 1.5 μm to 40 μm.

バンプ12を構成する導電性ペーストは、たとえば銀,金,銅,錫,ビスマス及びAg半田粉などの導電性粉末、これらの合金粉末若しくは複合(混合)金属粉末と、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などのバインダー成分とを混合して調製された導電性組成物などから構成する。   The conductive paste constituting the bumps 12 is, for example, conductive powder such as silver, gold, copper, tin, bismuth and Ag solder powder, alloy powder or composite (mixed) metal powder, and epoxy resin, phenol resin, A conductive composition prepared by mixing a binder component such as polyimide resin, polysulfone resin, polyester resin, or polycarbonate resin is used.

なお、導電性ペーストが銅、錫あるいはビスマスを含む場合、以下に説明するように、導電性ペーストからなるバンプを形成し、適宜乾燥した後、第1の金属箔に対して繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層を配設して加熱し、バンプの上端部が絶縁樹脂層から露出した後、第2の金属箔を当該絶縁樹脂層を介して加熱下押圧した際に、上記バンプを構成する金属のうち、銅、錫あるいはビスマスが焼結助剤として機能するようになり、例えば上記加熱によって液相となって、上記バンプは樹脂等のバインダー成分を含む金属焼結体となる。   When the conductive paste contains copper, tin, or bismuth, as described below, a bump made of the conductive paste is formed, dried appropriately, and then contains a fibrous filler with respect to the first metal foil. When the second metal foil is pressed under heat through the insulating resin layer after the upper insulating resin layer is exposed and heated, and the upper end of the bump is exposed from the insulating resin layer, the bump is configured. Among metals, copper, tin, or bismuth comes to function as a sintering aid. For example, the above-described heating becomes a liquid phase, and the bump becomes a metal sintered body containing a binder component such as a resin.

この結果、従来のように、多層配線基板を構成するバンプ(加熱硬化後のビア)中に銀などの粒子が含有されている場合に比較して、粒子間の界面減少によるバンプ(ビア)の表面積が減少するので、高速伝送時に表皮効果による導体損失が減少し、信号遅延が発生してしまうという問題を抑制することができる。   As a result, as compared with the case where particles such as silver are contained in the bumps (heat-cured vias) constituting the multilayer wiring board as in the prior art, the bumps (vias) due to the reduction in the interface between the particles are reduced. Since the surface area is reduced, it is possible to suppress the problem that the conductor loss due to the skin effect is reduced during high-speed transmission and signal delay occurs.

本実施形態において、バンプ12は円錐台形状を呈しており、その高さhは例えば15μm〜200μmの範囲とすることができ、下面の直径Rは10μm〜200μmの範囲とすることができる。   In the present embodiment, the bump 12 has a truncated cone shape, and its height h can be set in the range of 15 μm to 200 μm, for example, and the lower surface diameter R can be set in the range of 10 μm to 200 μm.

次いで、図2に示すように、第1の金属箔11上に、繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層13を介して第2の金属箔14を配設し、図3に示すように、プレス装置17を用い、第1の金属箔11に対して、絶縁樹脂層13を介して第2の金属箔14を第1の温度で押圧する。   Next, as shown in FIG. 2, a second metal foil 14 is disposed on the first metal foil 11 via an insulating resin layer 13 that does not contain a fibrous filler, and as shown in FIG. Using the device 17, the second metal foil 14 is pressed against the first metal foil 11 through the insulating resin layer 13 at the first temperature.

絶縁樹脂層13は、その厚さt2が例えば10μm〜40μmの範囲であって、第1の温度による加熱によって流動化し、バンプ12の上端部12Aに残存する絶縁樹脂層13が、図中矢印で示すように、バンプ12の上端部12Aから側面12Bに向けて流れ、残存する絶縁樹脂層13がバンプ12の上端部12Aから排除(除去)されることが必要である(図4参照)。   The insulating resin layer 13 has a thickness t2 in the range of 10 μm to 40 μm, for example, and is fluidized by heating at the first temperature, and the insulating resin layer 13 remaining on the upper end portion 12A of the bump 12 is indicated by an arrow in the figure. As shown, the insulating resin layer 13 that flows from the upper end portion 12A of the bump 12 toward the side surface 12B needs to be removed (removed) from the upper end portion 12A of the bump 12 (see FIG. 4).

このためには、絶縁樹脂層13の第1の温度における溶融粘度の上限値が1×10Pa・sであることが好ましく、さらには1×10Pa・sであることが好ましい。当該溶融粘度が上記値を超えて大きくなると、絶縁樹脂層13が十分に流動しきれず、バンプ12の上端部12Aに樹脂残渣が比較的多量に存在し、その後に第2の温度で押圧し、樹脂硬化及びバンプ焼結させた際に、第2の金属箔14とバンプ12の上端部12Aとの界面に樹脂層が残存することになり、接続信頼性が損なわれる場合がある。 For this purpose, the upper limit of the melt viscosity at the first temperature of the insulating resin layer 13 is preferably 1 × 10 5 Pa · s, and more preferably 1 × 10 4 Pa · s. When the melt viscosity becomes larger than the above value, the insulating resin layer 13 cannot flow sufficiently, a relatively large amount of resin residue is present on the upper end portion 12A of the bump 12, and then pressed at the second temperature, When the resin is cured and the bump is sintered, the resin layer remains at the interface between the second metal foil 14 and the upper end portion 12A of the bump 12, and connection reliability may be impaired.

また、絶縁樹脂層13の第1の温度における溶融粘度の下限値が1×101Pa・sであることが好ましく、さらには1×102Pa・sであることが好ましい。当該溶融粘度が、上記値より小さくなると、絶縁樹脂層13の厚さを制御することが困難になる場合がある。 The lower limit of the melt viscosity at the first temperature of the insulating resin layer 13 is preferably 1 × 10 1 Pa · s, and more preferably 1 × 10 2 Pa · s. If the melt viscosity is smaller than the above value, it may be difficult to control the thickness of the insulating resin layer 13.

なお、当該溶融粘度は、300mm〜500mm□及び厚さ300μmの試験片を用い、TA instrument社製(型番ARES−G2)でレオメータ測定を行い、最低の溶融粘度から求めた値である。   In addition, the said melt viscosity is a value calculated | required from the minimum melt viscosity by performing a rheometer measurement by TA instrument company make (model number ARES-G2) using the test piece of 300 mm-500 mm □ and thickness 300 micrometers.

特に、バンプ12の大きさが上述した高さh及び直径Rで画定され、絶縁樹脂層13の厚さが上述したt2で画定されるような場合は、残存する絶縁樹脂層13をバンプ12の上端部12Aから確実に排除(除去)することができる。   In particular, when the size of the bump 12 is defined by the height h and the diameter R described above, and the thickness of the insulating resin layer 13 is defined by t2 described above, the remaining insulating resin layer 13 is removed from the bump 12. It can be surely excluded (removed) from the upper end 12A.

なお、本実施形態における“バンプ12の上端部12A”とは、第2の金属箔14、すなわち配線層と結合するバンプ領域の一部を指すものであり、“バンプ12の側面12B”とは、バンプ12の表面に露出した面の内、上端部12Aを除く領域を指すものである。   In the present embodiment, the “upper end portion 12A of the bump 12” refers to a part of the second metal foil 14, that is, a bump region to be coupled to the wiring layer, and “the side surface 12B of the bump 12”. In the surface exposed on the surface of the bump 12, the region excluding the upper end portion 12A is indicated.

また、絶縁樹脂層13は、繊維状のフィラーを含まないことが要求されるものであって、例えばシリカやアルミナ等の粒子状あるいは粉末状のフィラーは含まれていてもよい。   Further, the insulating resin layer 13 is required not to contain a fibrous filler, and for example, a particulate or powdery filler such as silica or alumina may be included.

絶縁樹脂層13を構成する絶縁樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などを挙げることができる。   Examples of the insulating resin constituting the insulating resin layer 13 include an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polysulfone resin, a polyester resin, and a polycarbonate resin.

また、絶縁樹脂層13を上述のような絶縁樹脂から構成する場合、上記第1の温度は、例えば120℃〜160℃の範囲に設定することができる。   Moreover, when the insulating resin layer 13 is comprised from the above insulating resins, the said 1st temperature can be set to the range of 120 to 160 degreeC, for example.

第2の金属箔14も、後に多層配線基板の配線層を構成することから、銅(Cu),金(Au),銀(Ag)あるいはアルミニウム(Al)などの電気的良導体から構成する。また、第2の金属箔14の厚さt3は、例えば1.5μm〜40μmとする。   The second metal foil 14 is also composed of a good electrical conductor such as copper (Cu), gold (Au), silver (Ag) or aluminum (Al) because it will later constitute the wiring layer of the multilayer wiring board. Further, the thickness t3 of the second metal foil 14 is, for example, 1.5 μm to 40 μm.

次いで、図5に示すように、さらに第1の金属箔11に対して、プレス装置17により、第2の金属箔14を、絶縁樹脂層13を介して、第1の温度よりも高い第2の温度で押圧し、絶縁樹脂層13及びバンプ11を硬化させるとともに、絶縁樹脂層13上に第2の金属箔14を積層する(積層プレス)。これによって、第1の金属箔11及び第2の金属箔14は配線層を構成し、絶縁樹脂層13は配線層間に介在する絶縁部材を構成し、バンプ11は絶縁部材を貫通し、配線層間を電気的に接続する層間接続体(ビア)を構成して多層配線基板を形成することができる。   Next, as shown in FIG. 5, the second metal foil 14 is further applied to the first metal foil 11 by the press device 17 via the insulating resin layer 13, which is higher than the first temperature. The insulating resin layer 13 and the bumps 11 are cured at a temperature of 2 mm, and the second metal foil 14 is laminated on the insulating resin layer 13 (lamination press). Accordingly, the first metal foil 11 and the second metal foil 14 constitute a wiring layer, the insulating resin layer 13 constitutes an insulating member interposed between the wiring layers, and the bump 11 penetrates the insulating member, and the wiring layer A multilayer wiring board can be formed by constituting an interlayer connector (via) that electrically connects the two.

なお、第2の温度は、第1の温度よりも高く、絶縁樹脂層13及びバンプ11を硬化させる温度であるので、例えば160℃〜230℃の温度範囲に設定することができる。   The second temperature is higher than the first temperature and is a temperature at which the insulating resin layer 13 and the bumps 11 are cured, and can be set to a temperature range of 160 ° C. to 230 ° C., for example.

また、上述のようにして得る多層配線基板は、2層の配線層を有する多層配線基板であるが、配線層の数を増大させるには、上述した工程を繰り返し行えばよい。   In addition, the multilayer wiring board obtained as described above is a multilayer wiring board having two wiring layers. To increase the number of wiring layers, the above-described steps may be repeated.

具体的には、図1に示すように、最上層に位置する配線層を第1の金属箔11として例えばスクリーン印刷法、ディスペンス法又はインクジェット法などの任意の方法で導電性ペーストを塗布して当該導電性ペーストからなるバンプ12を形成した後、図2に示すように、第1の金属箔11上に、繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層13を介して第2の金属箔14を配設し、図3に示すように、ロールラミネーターや真空ラミネーターなどのプレス装置17を用い、第1の金属箔11に対して、絶縁樹脂層13を介して第2の金属箔14を第1の温度で押圧し、図4に示すように、絶縁樹脂層13をバンプ12の上端部12Aから側面12Bに向けて流動させ、残存する絶縁樹脂層13をバンプ12の上端部12Aから排除(除去)する。   Specifically, as shown in FIG. 1, a conductive paste is applied by an arbitrary method such as a screen printing method, a dispensing method, or an ink jet method, with the wiring layer located at the uppermost layer as the first metal foil 11. After forming the bumps 12 made of the conductive paste, as shown in FIG. 2, the second metal foil 14 is arranged on the first metal foil 11 via the insulating resin layer 13 not containing a fibrous filler. As shown in FIG. 3, the second metal foil 14 is attached to the first metal foil 11 via the insulating resin layer 13 using the press device 17 such as a roll laminator or a vacuum laminator. As shown in FIG. 4, the insulating resin layer 13 is caused to flow from the upper end portion 12 </ b> A of the bump 12 toward the side surface 12 </ b> B, and the remaining insulating resin layer 13 is excluded (removed) from the upper end portion 12 </ b> A of the bump 12. To do.

次いで、図5に示すように、さらに第1の金属箔11に対して、第2の金属箔14を、絶縁樹脂層13を介して、第1の温度よりも高い第2の温度で押圧し、絶縁樹脂層13及びバンプ11を硬化させるとともに、絶縁樹脂層13上に第2の金属箔14を積層する(積層プレス)。   Next, as shown in FIG. 5, the second metal foil 14 is further pressed against the first metal foil 11 through the insulating resin layer 13 at a second temperature higher than the first temperature. The insulating resin layer 13 and the bumps 11 are cured, and the second metal foil 14 is laminated on the insulating resin layer 13 (lamination press).

以上、本実施形態の製造方法によれば、上述したように、第1の金属箔11上に導電性ペーストからなるバンプ12を形成した後、第1の金属箔11に対して繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層13を介して第2の金属箔14を第1の温度で押圧するようにしている。このとき、絶縁樹脂層13は温度の上昇とともに粘度が低下して流動化するようになるので、押圧の際にバンプ12の上端部12Aに残存している絶縁樹脂層13が排除され、当該上端部12Aが絶縁樹脂層13から露出するようになる。   As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, as described above, after forming the bumps 12 made of the conductive paste on the first metal foil 11, the fibrous filler is applied to the first metal foil 11. The second metal foil 14 is pressed at the first temperature through the insulating resin layer 13 not included. At this time, since the viscosity of the insulating resin layer 13 decreases and fluidizes as the temperature rises, the insulating resin layer 13 remaining on the upper end portion 12A of the bump 12 is eliminated during pressing, and the upper end of the insulating resin layer 13 is removed. The part 12 </ b> A is exposed from the insulating resin layer 13.

したがって、後に第1の温度より高い第2の温度で再度第2の金属箔14を第1の金属箔11に対して押圧して積層プレスを行う際に、第2の金属箔14は、絶縁樹脂層13から露出した硬化後のバンプ(ビア)12の上端部12Aと確実に結合するようになり、これによって、後に配線層となる第1の金属箔11及び第2の金属箔14は高い信頼性の下に電気的に接続されるようになる。結果として、層間接続体(ビア)によって配線層間の電気的導通を十分に保持することができ、信頼性に優れた多層配線基板を提供することができるようになる。   Therefore, when the second metal foil 14 is pressed against the first metal foil 11 again at a second temperature higher than the first temperature and the lamination press is performed later, the second metal foil 14 is insulated. The hardened bumps (vias) 12 exposed from the resin layer 13 are securely bonded to the upper end portions 12A of the bumps (vias) 12, whereby the first metal foil 11 and the second metal foil 14 that later become wiring layers are high. It becomes electrically connected with reliability. As a result, the electrical connection between the wiring layers can be sufficiently retained by the interlayer connector (via), and a multilayer wiring board having excellent reliability can be provided.

また、本実施形態では、多層配線基板を構成する絶縁部材を繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層13から構成し、第1の温度で加熱して流動化させて、バンプ12の上端部12Aに残存している絶縁樹脂層13を排除し、当該上端部12Aを絶縁樹脂層13から露出するようにしている。したがって、従来とは異なり、第1の金属箔11上に絶縁樹脂層13をプレス形成する際に、バンプ12を絶縁樹脂層13に対して貫通させるという工程を省略することができる。   Further, in this embodiment, the insulating member constituting the multilayer wiring board is constituted by the insulating resin layer 13 that does not contain the fibrous filler, and is heated and fluidized at the first temperature to form the upper end portion 12A of the bump 12. The remaining insulating resin layer 13 is excluded, and the upper end portion 12 </ b> A is exposed from the insulating resin layer 13. Therefore, unlike the prior art, when the insulating resin layer 13 is press-formed on the first metal foil 11, the step of penetrating the bumps 12 into the insulating resin layer 13 can be omitted.

また、本実施形態では、多層配線基板を構成する絶縁部材を繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層13から構成しているので、絶縁部材の厚さを狭小化することができる。したがって、多層配線基板の微細化及び高密度を図ることもできる。   Moreover, in this embodiment, since the insulating member which comprises a multilayer wiring board is comprised from the insulating resin layer 13 which does not contain a fibrous filler, the thickness of an insulating member can be narrowed. Therefore, miniaturization and high density of the multilayer wiring board can be achieved.

(第2の実施形態)
図6及び図7は、本実施形態の多層配線基板の製造方法を説明するための工程図であり、第1の実施形態における図1に示す工程に相当するものである。
(Second Embodiment)
6 and 7 are process diagrams for explaining the method of manufacturing the multilayer wiring board according to the present embodiment, and correspond to the process shown in FIG. 1 in the first embodiment.

第1の実施形態においては、第1の金属箔11上にバンプ12を円錐台形状に形成したが、本実施形態においては、バンプ22を円錐形状に形成している点で相違する。したがって、第1の実施形態における図2〜図4に示す工程において、絶縁樹脂層13を第1の温度で加熱して流動化させた際に、バンプ22の上端部22Aから側面22Bへ絶縁樹脂層13がより流れやすくなるので、当該上端部22Aに残存する絶縁樹脂層13をより効果的に排除して除去することができる。   In the first embodiment, the bumps 12 are formed in a truncated cone shape on the first metal foil 11, but the present embodiment is different in that the bumps 22 are formed in a cone shape. Accordingly, in the steps shown in FIGS. 2 to 4 in the first embodiment, when the insulating resin layer 13 is heated and fluidized at the first temperature, the insulating resin is transferred from the upper end portion 22A of the bump 22 to the side surface 22B. Since the layer 13 becomes easier to flow, the insulating resin layer 13 remaining on the upper end 22A can be more effectively removed and removed.

結果として、後に第1の温度より高い第2の温度で再度第2の金属箔14を第1の金属箔11に対して押圧して積層プレスを行う際に、第2の金属箔14は、絶縁樹脂層13から露出した硬化後のバンプ(ビア)12の上端部12Aとより確実に結合するようになり、これによって、後に配線層となる第1の金属箔11及び第2の金属箔14はより高い信頼性の下に電気的に接続されるようになる。このため、層間接続体(ビア)によって配線層間の電気的導通をより十分に保持することができ、より信頼性に優れた多層配線基板を提供することができるようになる。   As a result, when the second metal foil 14 is pressed against the first metal foil 11 again at a second temperature higher than the first temperature later to perform the lamination press, the second metal foil 14 is The hardened bumps (vias) 12 exposed from the insulating resin layer 13 are more securely bonded to the upper end portions 12A of the bumps (vias) 12, and thereby, the first metal foil 11 and the second metal foil 14 that later become wiring layers. Are electrically connected with higher reliability. For this reason, the electrical connection between the wiring layers can be more sufficiently maintained by the interlayer connection body (via), and a multilayer wiring board with higher reliability can be provided.

バンプ22の高さ及び底面の直径は、第1の実施形態におけるバンプ11の高さh及び直径Rと同様に画定することができる。   The height of the bump 22 and the diameter of the bottom surface can be defined in the same manner as the height h and the diameter R of the bump 11 in the first embodiment.

なお、その他の特徴及び利点については、第1の実施形態と同様であるので、説明を省略する。   Since other features and advantages are the same as those in the first embodiment, description thereof will be omitted.

以上、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいて、あらゆる変形や変更が可能である。   The present invention has been described in detail based on the above specific examples. However, the present invention is not limited to the above specific examples, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態では、金属箔上にバンプ等を形成して多層配線基板を製造する場合について説明したが、予めコア基板(両面あるいは多層)を準備しておき、このコア基板上に上述した工程にしたがって多層配線基板を積層することもできる。この場合は、最上層に位置する配線層を第1の金属箔11と見做して、例えば第1の実施形態で説明したような工程を行う。   For example, in the above-described embodiment, a case where a multilayer wiring board is manufactured by forming bumps or the like on a metal foil has been described. However, a core board (both sides or multilayer) is prepared in advance, and the above-described core board is described above. A multilayer wiring board can also be laminated | stacked according to a process. In this case, the wiring layer located at the uppermost layer is regarded as the first metal foil 11 and, for example, a process as described in the first embodiment is performed.

11 第1の金属箔
12、22 バンプ
12A、22A バンプの上端部
12B、22B バンプの側面
13 絶縁樹脂層
14 第2の金属箔
17 真空プレス装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 1st metal foil 12, 22 Bump 12A, 22A Bump upper end part 12B, 22B Bump side surface 13 Insulating resin layer 14 2nd metal foil 17 Vacuum press apparatus

Claims (5)

第1の金属箔上に導電性ペーストを塗布し、当該導電性ペーストからなるバンプを形成する工程と、
前記第1の金属箔に対して、繊維状フィラーを含まない絶縁樹脂層を介して第2の金属箔を第1の温度で押圧し、前記絶縁樹脂層を流動化させて、前記バンプの上端部に残存する前記絶縁樹脂層を除去する工程と、
前記第1の金属箔に対して、前記第2の金属箔を、前記絶縁樹脂層を介して、前記第1の温度よりも高い第2の温度で押圧し、前記絶縁樹脂層及び前記バンプを硬化させるとともに、当該絶縁樹脂層上に前記第2の金属箔を積層する工程と、
を具えることを特徴とする、多層配線基板の製造方法。
Applying a conductive paste on the first metal foil and forming a bump made of the conductive paste;
The second metal foil is pressed against the first metal foil through an insulating resin layer that does not contain a fibrous filler at a first temperature to fluidize the insulating resin layer, and the upper end of the bump Removing the insulating resin layer remaining in the part;
The second metal foil is pressed against the first metal foil via the insulating resin layer at a second temperature higher than the first temperature, and the insulating resin layer and the bump are Curing, and laminating the second metal foil on the insulating resin layer;
A method for manufacturing a multilayer wiring board, comprising:
前記第1の温度における前記絶縁樹脂層の溶融粘度が1×10Pa・s以下であることを特徴とする、請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。 2. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein a melt viscosity of the insulating resin layer at the first temperature is 1 × 10 5 Pa · s or less. 前記第1の温度における前記絶縁樹脂層の溶融粘度が1×101Pa・s以上であることを特徴とする、請求項2に記載の多層配線基板の製造方法。 The method for producing a multilayer wiring board according to claim 2, wherein the insulating resin layer has a melt viscosity of 1 × 10 1 Pa · s or more at the first temperature. 前記バンプは、少なくともSn,Bi,Cu及びAgを含む導電性ペーストからなることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載の多層配線基板の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the bump is made of a conductive paste containing at least Sn, Bi, Cu, and Ag. 前記バンプは円錐形状を呈することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の多層配線基板の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the bump has a conical shape.
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