JP2015198121A5 - - Google Patents

Description

本発明は、基板上にビームを照射する光学系を有する鏡筒と、前記基板の主走査方向への長距離移動と副走査方向への前記長距離移動よりも短い短距離移動とを繰り返すステージ装置とを備え、前記ビームにより前記基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記ステージ装置が、前記主走査方向に移動する第１移動体と、前記第１移動体が主走査方向に移動可能なように、該第１移動体を磁気力により浮上支持する浮上ユニットと、前記副走査方向に移動する第２移動体と前記第２移動体が副走査方向に移動可能なように、該第２移動体を接触支持するリニアガイドとを有することを特徴とする。

Claims (13)

1. 基板上にビームを照射する光学系を有する鏡筒と、前記基板の主走査方向への長距離移動と副走査方向への前記長距離移動よりも短い短距離移動とを繰り返すステージ装置とを備え、前記ビームにより前記基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
   前記ステージ装置が、
   前記主走査方向に移動する第１移動体と、
   前記第１移動体が主走査方向に移動可能なように、該第１移動体を磁気力により浮上支持する浮上ユニットと、
   前記副走査方向に移動する第２移動体と
   前記第２移動体が副走査方向に移動可能なように、該第２移動体を接触支持するリニアガイドとを有することを特徴とするリソグラフィ装置。
2. 前記第１移動体は前記第２移動体の上方にあり、前記第１移動体は前記第２移動体と連動して前記副走査方向にも移動することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記主走査方向及び前記副走査方向に直交する方向に前記第１移動体及び前記第２移動体は並んでおり、前記第１移動体は前記第２移動体に対向したまま移動することを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
4. 真空チャンバを有し、前記ステージ装置は、前記真空チャンバ内で前記基板を移動させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
5. １枚の前記基板に対する前記パターンの形成に伴う、前記第２移動体の総移動距離は、前記第１移動体の総移動距離の１／５００以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記ステージ装置の移動を制御する制御部を有し、
   前記制御部は、前記パターンを形成している間における前記第１移動体の最大の速さが１０００ｍｍ／ｓ以上となるように制御することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記ステージ装置の移動を制御する制御部を有し、
   前記制御部は、前記パターンを形成している間における前記第２移動体の最大の速さが５ｍｍ／ｓ以下となるように制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記浮上ユニットは、前記第１移動体に設けられている永久磁石と、前記第１移動体の下方に固定して設けられている磁性体とを有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
9. 複数の前記鏡筒を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
10. 主走査方向に長距離移動する第１移動体と、
    該第１移動体を磁気力により浮上支持し、移動可能とする浮上ユニットと、
    副走査方向に短距離移動する第２移動体と、
    該第２移動体を接触支持し、移動可能とするリニアガイドとを有し、
    前記第１移動体と前記第２移動体とが連動して移動することを特徴とするステージ装置。
11. 第１方向に移動する第１移動体と、前記第１方向の移動量より短い移動量で、前記第１方向とは異なる第２方向に移動する第２移動体とを有し、前記第１移動体と前記第２移動体とが連動して移動するステージ装置であって、
    前記第１移動体を磁気力により浮上支持し、前記第１移動体の前記第１方向への移動を案内する第１ガイドと、
    該第２移動体を接触支持し、前記第２移動体の前記第２方向への移動を案内する第２ガイドとを有することを特徴とするステージ装置。
12. 前記第１方向及び前記第２方向に直交する方向に前記第１移動体及び前記第２移動体は並んでおり、前記第１移動体は前記第２移動体に対向したまま移動することを特徴とする請求項１０又は１１に記載のステージ装置。
13. 請求項１乃至９のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板にビームを照射する工程と、前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方の処理を施す工程とを有し、前記工程で処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。