JP2015195274A - 高周波半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】低周波発振と高周波発振とを共に抑制することができる高周波半導体装置を提供すること。【解決手段】実施形態に係る高周波半導体装置は、並列に配置された複数のユニットFET、入力分配・整合回路、出力合成・整合回路、および低周波発振抑制回路、を具備する。前記入力分配・整合回路は、前記複数のユニットFETに接続され、かつ複数に分割された出力端部、および入力端部、を有し、前記入力端部の中心軸に対して左右対称形状である。前記出力合成・整合回路は、前記複数のユニットFETに接続され、かつ複数に分割された入力端部、および出力端部、を有し、前記出力端部の中心軸に対して左右対称形状である。前記低周波発振抑制回路は、前記入力分配・整合回路の前記入力端部および前記出力合成・整合回路の前記出力端部、のうち、少なくともいずれか一方に接続される。【選択図】図3

Description

本発明の実施形態は、高周波半導体装置に関する。
例えば複数の電界効果トランジスタ(FET)が並列に配列された従来の高周波半導体装置において、複数のユニットFETの入力側には入力分配・整合回路が配置されており、複数のユニットFETの出力側には出力合成・整合回路が配置されている。このような従来の高周波半導体装置は高い周波数から低い周波数まで利得をもつので、様々な周波数で発振する可能性がある。
そこで、従来の高周波半導体装置において、例えばGHzオーダーの高周波発振を抑制するために、入力分配・整合回路の出力端部および出力合成・整合回路の入力端部は、いくつかのユニットFETごとに分割されており、分割されたこれらの出力端部間および入力端部間には、分割された出力端部間および分割された入力端部を接続する抵抗(いわゆるアイソレーション抵抗、もしくはバランス抵抗と呼ばれる)が設けられている。
さらに、従来の高周波半導体装置において、並列に配列された複数のユニットFETのうち、両側に配置されるユニットFETにはそれぞれ、この高周波半導体装置に生ずる例えばMHzオーダーの低周波発振を抑制するために、インダクタL、抵抗R、キャパシタCが直列に接続された低周波発振抑制回路が接続されている。
しかし、上述の従来の高周波半導体装置は、入力分配・整合回路の出力端部および出力合成・整合回路の入力端部をそれぞれ分割し、分割された出力端部間および分割された入力端部をアイソレーション抵抗で接続しているため、並列に配列された複数のユニットFETのうち中央近傍に配置されるユニットFETと、低周波発振抑制回路と、の間には、アイソレーション抵抗が複数設けられることなる。従って、中央近傍に配置されるユニットFETと低周波発振抑制回路との間には抵抗が介在し、中央近傍に配置されるユニットFETからみて、低周波発振抑制回路は、実質的に接続されていない状態となる。これにより、少なくとも両端部に配置されるユニットFETには低周波発振抑制回路が作用するものの、それより内側のユニットFETほど低周波発振抑制回路が作用し難くなり、中央近傍に配置されるユニットFETには低周波発振抑制回路が作用せず、低周波発振を抑制することが困難となる、という問題がある。
この問題を解消するために、複数のユニットFETを、分割されない一つの出力端部を有する入力分配・整合回路、および分割されない一つの入力端部を有する出力合成・整合回路、に共通に接続させると、高周波発振を抑制することが困難となる、という問題がある。
すなわち、従来の高周波半導体装置においては、低周波発振と高周波発振とを共に抑制することは困難であるという問題がある。
なお、入力分配・整合回路の出力端部および出力合成・整合回路の入力端部をそれぞれ分割し、分岐したユニットFETごとにそれぞれ低周波発振抑制回路を接続すれば、低周波発振と高周波発振とを共に抑制することは可能であるが、高周波半導体装置が極めて大型化するため、現実的な解決手段とはならない。
特開2011−254439号公報
実施形態は、低周波発振と高周波発振とを共に抑制することができる高周波半導体装置を提供することを目的とする。
実施形態に係る高周波半導体装置は、並列に配置された複数のユニットFET、入力分配・整合回路、出力合成・整合回路、および低周波発振抑制回路、を具備する。前記入力分配・整合回路は、入力端部、および前記複数のユニットFETに接続され、かつ複数に分割された出力端部、を有し、前記入力端部の中心軸に対して左右対称形状である。前記出力合成・整合回路は、出力端部、および前記複数のユニットFETに接続され、かつ複数に分割された入力端部、を有し、前記出力端部の中心軸に対して左右対称形状である。前記低周波発振抑制回路は、前記入力分配・整合回路の前記入力端部および前記出力合成・整合回路の前記出力端部、のうち、少なくともいずれか一方に接続される。
実施形態に係る高周波半導体装置を模式的に示す斜視図である。 実施形態に係る高周波半導体装置を模式的に示す上面図である。 実施形態に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の構成を模式的に示す上面図である。 実施形態に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の一部構成を拡大して示す上面図である。 低周波発振抑制回路の構成を示す斜視図である。 第1の変形例に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の構成を模式的に示す上面図である。 第2の変形例に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の構成を模式的に示す上面図である。
図1は、実施形態に係る高周波半導体装置を模式的に示す斜視図であり、図2は、実施形態に係る高周波半導体装置を模式的に示す上面図である。図1および図2に示すように、実施形態に係る高周波半導体装置10において、高周波半導体パッケージ11内には、高周波電力増幅器として、例えば複数の電界効果トランジスタ(ユニットFET)が並列に配列されたFETチップ12が複数、並列に配置されている。そして、複数のFETチップ12の入力側には入力分配・整合回路13が設けられており、複数のFETチップ12の出力側には出力合成・整合回路14が設けられている。
入力分配・整合回路13の入力端部は、高周波半導体パッケージ11が有する、入力リード線15に接続された入力パターン16と、パッケージ11の内部において接続導体17によって接続されている。入力分配・整合回路13の分割された複数の出力端部は、複数のFETチップ12と、接続導体18によって接続されている。
同様に、出力合成・整合回路14の出力端部は、高周波半導体パッケージ11が有する、出力リード線19に接続された出力パターン20と、パッケージ11の内部において接続導体21によって接続されている。出力合成・整合回路14の分割された複数の入力端部は、複数のFETチップ12と、接続導体22によって接続されている。
図3は、実施形態に係る高周波半導体装置10の高周波半導体パッケージ11内の構成を模式的に示す上面図である。また、図4は、実施形態に係る高周波半導体装置10の高周波半導体パッケージ11内の一部構成を拡大して示す上面図である。図3に示すように、FETチップ12は、複数のユニットFET23が例えば半導体基板24上に並列に配列形成されたものである。
図3および図4に示すように、FETチップ12の入力側に設けられる入力分配・整合回路13は、絶縁基板25の表面上に分配線路26が形成された分配回路51、および複数のFETチップ12内に設けられるいくつかのユニットFET23ごとに分割され、並列に配列される複数のキャパシタ27、を有する。
分配回路51の分配線路26は、入力側から出力側に向かって2分岐を繰り返すマイクロストリップ線路であり、入力端部の中心軸Oinを中心に左右対称な形状となっている。なお、本実施形態において、分配線路26の入力端部とは、図3および図4において示されるように、入力側の端部から分岐直前に至る領域Rinを意味する。
また、分配線路26の出力端部は複数に分割されており、分割された複数の出力端部間には抵抗体28が設けられている。したがって、例えば隣接する2個のユニットFET23を含む閉ループにおいて生じる、GHzオーダーのoddモード発振(高周波発振)を抑制することができる。さらに、分割された複数の出力端部の各々に入力される高周波の位相が異なり、これによって出力端部間において電圧差が生じても、この電圧差を吸収することができる。
なお、抵抗体28の長さ等は限定されず、分配線路26の分割された複数の出力端部間が抵抗体28によって接続されていればよい。
複数のキャパシタ27は、誘電体基板29の表面上に列状に配列形成された複数の上部電極30、および誘電体基板29の裏面上に一様に形成された下部電極(図示せず)、によって構成されたものである。
また、誘電体基板29の表面上において、複数の上部電極30は互いに離間して配列されており、互いに離間した複数の上部電極30の間には抵抗体31が設けられている。したがって、例えば隣接する2個のユニットFET23を含む閉ループにおいて生じる、GHzオーダーのoddモード発振(高周波発振)を抑制することができる。さらに、互いに離間する複数の上部電極30の各々に入力される高周波の位相が異なり、これによって上部電極30間において電圧差が生じても、この電圧差を吸収することができる。
なお、抵抗体31の長さ等についても限定されず、上部電極30間が抵抗体31によって接続されていればよい。
このような複数のキャパシタ27と、上述の分配線路26とは、分配線路26の分割された複数の出力端部と、複数のキャパシタ27の複数の上部電極30と、が複数の接続導体32によって接続されることによって、電気的に接続されている。
以上に説明した入力分配・整合回路13は、分配線路26の入力端部Rinが入力分配・整合回路13の入力端部となり、列状に配列された複数のキャパシタ27の上部電極30が入力分配・整合回路13の分割された複数の出力端部となるものである。従って、入力分配・整合回路13の入力端部となる分配線路26の入力端部Rinは、入力リード線15に接続された入力パターン16と、接続導体17によって接続される(図2)。そして、入力分配・整合回路13の分岐された複数の出力端部となる複数のキャパシタ27の複数の上部電極30は、複数のFETチップ12(複数のユニットFET23のゲート端子)と、接続導体18によって接続される(図2および図3)。
図3および図4に示すように、このような入力分配・整合回路13の入力端部、すなわち分配線路26の入力端部Rinには、低周波発振抑制回路33として、インダクタL、キャパシタC、および抵抗R、が直列に接続されている。低周波発振抑制回路33は、インダクタLのインダクタンスおよびキャパシタCのキャパシタンスを調整することによって選択される周波数帯の発振を抵抗Rにおいて減衰させるものであり、インダクタLおよびキャパシタCは、例えばMHzオーダーの周波数帯のevenモード発振(低周波発振)を抑制することができるように選定されている。
ここで図5に示すように、低周波発振抑制回路33のインダクタLは、所定のインダクタンスを有するワイヤー34、キャパシタCは、チップキャパシタ35、抵抗Rは、チップ抵抗36、によって構成される。例えばこのような低周波発振回路33は、図3および図4に示すように、ワイヤー34の一端が分配線路26の入力端部Rinの中心軸Oin上において分配線路26の入力端部Rinに接続されるように設けられている。
このように低周波発振抑制回路33を設けた場合、図4において点線Lで示すように、低周波発振抑制回路33からFETチップ12内の各々のユニットFET23までの距離を実質的に全て等しくすることができるとともに、抵抗が介在しない。したがって、低周波発振抑制回路33は、全てのユニットFET23に対して等しく作用する。
図3を参照する。FETチップ12の出力側に設けられる出力合成・整合回路14は、絶縁基板37の表面上に合流線路38が形成された合流回路52、および複数のFETチップ12内に設けられるいくつかのユニットFET23ごとに分割され、並列に配列される複数のキャパシタ39、を有する。
合流線路38は、入力側から出力側に向かってマイクロストリップ線路を2本ずつ合流させることを繰り返すマイクロストリップ線路であり、出力端部の中心軸Ooutを中心に左右対称な形状となっている。なお、本実施形態において、合流線路38の出力端部とは、出力側の端部から分岐直前に至る領域Routを意味する。
また、合流線路38の入力端部は複数に分割されており、分割された複数の入力端部間には抵抗体40が設けられている。したがって、例えば隣接する2個のユニットFET23を含む閉ループにおいて生じる、GHzオーダーのoddモード発振(高周波発振)を抑制することができる。さらに、分岐された複数の入力端部の各々に入力される高周波の位相が異なり、これによって入力端部間において電圧差が生じても、この電圧差を吸収することができる。
なお、抵抗体40の長さ等は限定されず、合流線路38の分岐されている複数の入力端部間が抵抗体40によって接続されていればよい。
複数のキャパシタ39は、入力分配・整合回路13の複数のキャパシタ27と同様の構成であり、誘電体基板41の表面上に列状に配列形成された複数の上部電極42、および誘電体基板41の裏面上に一様に形成された下部電極(図示せず)、によって構成されたものである。
また、誘電体基板41の表面上において、複数の上部電極42は互いに離間して配列されており、互いに離間した複数の上部電極42の間には抵抗体43が設けられている。したがって、例えば隣接する2個のユニットFET23を含む閉ループにおいて生じる、GHzオーダーのoddモード発振(高周波発振)を抑制することができる。さらに、互いに離間する複数の上部電極43の各々に入力される高周波の位相が異なり、これによって上部電極42間において電圧差が生じても、この電圧差を吸収することができる。
なお、抵抗体43の長さ等についても限定されず、上部電極42間が抵抗体43によって接続されていればよい。
このような複数のキャパシタ39と、上述の合流線路38とは、複数のキャパシタ39の複数の上部電極42と、合流線路38の分割されている複数の入力端部と、が複数の接続導体44によって接続されることによって、電気的に接続されている。
以上に説明した出力合成・整合回路14は、複数のキャパシタ39の上部電極42が出力合成・整合回路14の分割された複数の入力端部となり、合流線路38の出力端部Routが出力合成・整合回路14の出力端部となるものである。従って、出力合成・整合回路14の出力端部となる合流線路38の出力端部Routは、出力リード19に接続された出力パターン20と、接続導体21によって接続される(図2)。そして、出力合成・整合回路14の分割された複数の入力端部となる複数のキャパシタ39の上部電極42は、複数のFETチップ12(複数のユニットFET23のドレイン端子)と、接続導体22によって接続される(図2および図3)。
なお、以上の説明において、接続導体17、18、21、22、32、44は、例えば金等からなるワイヤーであり、抵抗体28、31、40、43は、例えばタンタルナイトライド、またはニクロム等からなるものである。
以上に説明したように、本実施形態に係る高周波半導体装置10によれば、入力分配・整合回路13の出力端部が複数に分割されているとともに、出力合成・整合回路14の入力端部が複数に分割されている。そして、分割された複数の出力端部間、および分割された複数の入力端部間には、抵抗体31、43が設けられている。従って、高周波発振を抑制することができる。
さらに、低周波発振抑制回路33は、インダクタLとなるワイヤー34の一端が分配線路26の入力端部Rinの中心軸Oin上において分配線路26の入力端部Rinに接続されるように設けられている。したがって、低周波発振抑制回路33と複数のFET23との距離を全て等しくすることができる。この結果、全てのユニットFET23に対して低周波発振抑制回路33を等しく作用させることができ、低周波発振を抑制することができる。
以上に、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、低周波発振抑制回路の数および接続される位置は、上述の実施形態に限定されない。図6は、第1の変形例に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の構成を模式的に示す上面図である。図6に示すように、低周波発振抑制回路33は、入力分配・整合回路13に接続される他、さらに、他の低周波発振抑制回路45を出力合成・整合回路14に接続してもよい。なお、この際、他の低周波発振抑制回路45は、インダクタLとなるワイヤー46の一端が合流線路38の出力端部Routの中心軸Oout上において合流線路38の出力端部Routに接続されるように設けられる。
図7は、第2の変形例に係る高周波半導体装置の高周波半導体パッケージ内の構成を模式的に示す上面図である。図7に示すように、出力合成・整合回路14のみに低周波発振抑制回路45を設け、入力分配・整合回路13に接続される低周波発振抑制回路33を省略してもよい。
また、低周波発振抑制回路33、45を構成するキャパシタおよび抵抗は、必ずしもチップキャパシタおよびチップ抵抗でなくてもよい。
10・・・高周波半導体装置
11・・・高周波半導体パッケージ
12・・・電界効果トランジスタ(FET)チップ
13・・・入力分配・整合回路
14・・・出力合成・整合回路
15・・・入力リード
16・・・入力パターン
17、18、21、22、32、44・・・接続導体
19・・・出力リード
20・・・出力パターン
23・・・ユニットFET
24・・・半導体基板
25、37・・・絶縁基板
26・・・分配線路
27、39・・・キャパシタ
28、31、40、43・・・抵抗体
29、41・・・誘電体基板
30、42・・・上部電極
33、45・・・低周波発振抑制回路
34、46・・・ワイヤー
35・・・チップキャパシタ
36・・・チップ抵抗
38・・・合流線路
51・・・分配回路
52・・・合流回路

Claims (4)

  1. 並列に配置された複数のユニットFETと、
    これらのユニットFETに接続され、かつ複数に分割された出力端部、および入力端部、を有し、前記入力端部の中心軸に対して左右対称形状である入力分配・整合回路と、
    前記複数のユニットFETに接続され、かつ複数に分割された入力端部、および出力端部、を有し、前記出力端部の中心軸に対して左右対称形状である出力合成・整合回路と、
    前記入力分配・整合回路の前記入力端部および前記出力合成・整合回路の前記出力端部、のうち、少なくともいずれか一方に接続される低周波発振抑制回路と、
    を具備する高周波半導体装置。
  2. 前記低周波発振抑制回路を複数有し、
    これらの低周波発振抑制回路は、前記入力分配・整合回路の前記入力端部および前記出力合成・整合回路の前記出力端部に接続される請求項1に記載の高周波半導体装置。
  3. 前記低周波発振抑制回路は、ワイヤー、チップキャパシタ、およびチップ抵抗が直列に接続されたものである請求項1または2に記載の高周波半導体装置。
  4. 前記入力分配・整合回路の前記複数に分割された出力端部の間、および前記出力合成・整合回路の前記複数に分割された入力端部の間、にはそれぞれ、抵抗体が設けられている請求項1乃至3のいずれかに記載の高周波半導体装置。
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