JP2015012609A - 結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージ - Google Patents

結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージ Download PDF

Info

Publication number
JP2015012609A
JP2015012609A JP2014124203A JP2014124203A JP2015012609A JP 2015012609 A JP2015012609 A JP 2015012609A JP 2014124203 A JP2014124203 A JP 2014124203A JP 2014124203 A JP2014124203 A JP 2014124203A JP 2015012609 A JP2015012609 A JP 2015012609A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amplifier
circuit
package
wire bond
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014124203A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6530893B2 (ja
JP2015012609A5 (ja
Inventor
ミン クオ シュン
Meen Kuo Shun
ミン クオ シュン
スジーマノウスキー マーガレット
Szymanowski Margaret
スジーマノウスキー マーガレット
ハート ポール
Hart Paul
ハート ポール
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NXP USA Inc
Original Assignee
Freescale Semiconductor Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Freescale Semiconductor Inc filed Critical Freescale Semiconductor Inc
Publication of JP2015012609A publication Critical patent/JP2015012609A/ja
Publication of JP2015012609A5 publication Critical patent/JP2015012609A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6530893B2 publication Critical patent/JP6530893B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/02Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation
    • H03F1/0205Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers
    • H03F1/0288Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers using a main and one or several auxiliary peaking amplifiers whereby the load is connected to the main amplifier using an impedance inverter, e.g. Doherty amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/043Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
    • H01L23/047Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body the other leads being parallel to the base
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/56Modifications of input or output impedances, not otherwise provided for
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/195High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only in integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/20Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
    • H03F3/24Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers of transmitter output stages
    • H03F3/245Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers of transmitter output stages with semiconductor devices only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6605High-frequency electrical connections
    • H01L2223/6611Wire connections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • H01L2223/6655Matching arrangements, e.g. arrangement of inductive and capacitive components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6661High-frequency adaptations for passive devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45139Silver (Ag) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/16Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
    • H01L23/18Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
    • H01L23/24Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device solid or gel at the normal operating temperature of the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • H01L2924/30111Impedance matching

Abstract

【課題】結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージを提供する。【解決手段】パッケージ20は、基板74と、基板上の第1の回路22とを含む。第1の回路は、第1の電気デバイス102と、第2の電気デバイス100、104と、第1の電気デバイスおよび第2の電気デバイスを相互接続する第1のワイヤ・ボンド・アレイ112とを含む。パッケージは、第1の回路に隣接する、基板上の第2の回路24を含み、第2の回路は、第3の電気デバイス108および第4の電気デバイス106、110を相互接続する第2のワイヤ・ボンド・アレイ114を含む。パッケージは、第1の回路と第2の回路との間で基板の上に複数のワイヤボンドを含むワイヤボンド壁50を含む。ワイヤボンド壁は、第1の回路および第2の回路の少なくとも一方の動作中に第1の回路と第2の回路との間の電磁結合を低減するように構成されている。【選択図】図2A

Description

本開示は、概してデバイスパッケージに関し、より具体的には、隣接するデバイス間の結合を低減するためのワイヤボンド壁構造を組み込んでいるデバイスパッケージに関する。
ワイヤレス通信システムは、信号の電力を増大するために電力増幅器を採用していることが多い。ワイヤレス通信システムにおいて、電力増幅器は通常、送信チェーン(出力段)内の最後の増幅器である。高利得、高線形性、安定性、および高レベルの電力付加効率(すなわち、出力電力と入力電力との間の差と、DC電力との比)が、理想的な増幅器の特性である。
概して、電力増幅器は、電力増幅器がピーク出力電力を送信するとき、最大電力効率において動作する。しかしながら、電力効率は出力電力が低減するにつれて悪化する傾向にある。最近、ドハティ電力増幅器アーキテクチャが、アーキテクチャの電力付加効率が高いために、基地局のためだけでなく移動端末のためにも注目を集めている。
ドハティ電力増幅器は一般的に、キャリア増幅器およびピーク増幅器のような2つ以上の増幅器を含む。これらの増幅器は、それらの出力が、インピーダンス変換を実行するオフセット伝送線によって接合された状態で並列に接続される。ピーク増幅器は、キャリア増幅器が飽和すると電流を送達し、それによって、キャリア増幅器の出力に見られるインピーダンスを低減する。したがって、「ロードプル」のために、キャリア増幅器が飽和しながら、キャリア増幅器はより多くの電流を負荷に送達する。キャリア増幅器は飽和に近いままであるため、ドハティ電力増幅器は、システムの全体効率が相対的に高いままであるように、ピーク出力電力を送信することが可能である。
ドハティアーキテクチャの高い効率によって、アーキテクチャは、現行のおよび次世代のワイヤレスシステムに望ましいものになる。しかしながら、アーキテクチャは半導体パッケージ設計に関して課題を呈する。現行のドハティ電力増幅器半導体パッケージ設計は、キャリア増幅器を含む1つのデバイスと、ピーク増幅器を含む別のデバイスを包含し得る個別デバイスおよび集積回路を使用することを必要とする。これらの個別デバイスは、キャリア増幅器とピーク増幅器との間で発生する可能性があるクロストークによる問題を制限するために、パッケージ内で一定距離離れて保持される。
半導体パッケージアーキテクチャ内の1つのクロストーク源は、キャリア増幅器およびピーク増幅器の各々を構成する様々な電気デバイス間に接続され得るワイヤ・ボンド・アレイと称される信号ワイヤのアレイの間である。すなわち、ドハティ電力増幅器の性能は、ドハティ電力増幅器の対応する構成要素の隣接するワイヤ・ボンド・アレイ間の結合(すなわち、共有磁場または電場を介して1つの回路構成要素から別の回路構成要素へのエネルギーの送達)によって悪影響を受ける可能性がある。結合は2つのタイプ、すなわち、電気(一般的に容量結合と称される)および磁気(誘導結合と同意として使用される)のものであり得る。誘導または磁気結合は、互いに対して近接近している電流搬送並列導体の間に変動する磁場が存在するときに発生し、受ける側の導体に電圧が誘起する。
不都合なことに、パッケージ内の増幅器間の空間距離を維持することによって、半導体パッケージを小型化する可能性が制限される。様々な用途について低コスト、低重量、および小容量が重要なパッケージ属性である場合、小型が制限されることは望ましくない。
本開示は実施例、実施形態などとして示されており、添付の図面によって限定されない。図面において、同様の参照符号は類似の要素を示す。図面内の要素は簡潔かつ明瞭にするために示されており、必ずしも原寸に比例して描かれてはいない。図面は詳細な説明とともに本明細書に組み込まれてその一部を形成し、本開示に応じて、実施例、実施形態などをさらに例示し、様々な原理および利点を説明する役割を果たす。
ドハティ電力増幅器半導体パッケージのブロック図。 ドハティ電力増幅器半導体パッケージのキャリアおよびピーク増幅器回路の概略上面図。 図2Aのドハティ電力増幅器半導体パッケージの斜視図。 代替的なワイヤボンド壁構成を図示するパッケージの断面図。 代替的なワイヤボンド壁構成を図示するパッケージの断面図。 ワイヤボンド壁がいくつかの追加のデバイスに接続されている図2Aのパッケージを示す図。 ワイヤボンド壁がいくつかの追加のデバイスに接続されている図2Aのパッケージを示す図。 キャリア増幅器とピーク増幅器とを分離するワイヤボンド壁を含む例示的なデバイスの検査結果を示すグラフ。 キャリア増幅器とピーク増幅器とを分離するワイヤボンド壁を含む例示的なデバイスの検査結果を示すグラフ。
下記の詳細な記載は本質的に例示的であり、本発明または本発明の適用および使用を限定することは意図されていない。さらに、上記技術分野、背景技術、または以下の詳細な説明で提示される、いかなる表示または暗示された理論によっても束縛されることは意図されていない。
簡潔かつ明瞭な説明のために、図面は一般的な構築様式を示し、既知の特徴および技法の説明および詳細は、本発明を不必要に曖昧にすることを回避するために省略される場合がある。加えて、図面内の要素は必ずしも原寸に比例して描かれてはいない。たとえば、本発明の実施形態の理解の向上を助けるために、図面内の要素または領域のうちのいくつかの寸法は他の要素または領域に対して誇張されている場合がある。
本記載および特許請求の範囲における「第1」、「第2」、「第3」、「第4」などの用語がある場合、これらは、同様の要素間で区別するために使用されることができ、必ずしも特定の連続する、または経時的な順序を説明するためのものではない。このように使用される用語は、本明細書に記載されている本発明の実施形態がたとえば、本明細書において例示または他の様態で記載されている以外の順序で動作することが可能であるように、適切な状況下で置き換え可能であることが理解されるべきである。さらに、「備える(comprise)」、「含む(include)」、「有する(have)」といった用語およびそれらの任意の変化形は非排他的な包含をカバーするように意図され、それによって、要素のリストを含むプロセス、方法、製品、または装置が必ずしもそれらの要素に限定されず、明示的に列挙されていない、またはこのようなプロセス、方法、製品、または装置に内在する他の要素を含んでもよい。本明細書において使用される場合、「結合される(coupled)」という用語は、電気的または非電気的な様式で直接的または間接的に接続されるものとして定義される。本明細書において使用される場合、「実質的な(substantial)」および「実質的に(substantially)」という用語は、記述されている目的を実際的な様式で達成するのに十分であること、および、軽度の不備がある場合、それらは記述されている目的にとっては重大でないことを意味する。
本開示は、概してデバイスパッケージに関し、より具体的には、パッケージ内に形成される隣接するデバイス間の結合を低減するためのワイヤボンド壁を組み込んでいるデバイスパッケージに関する。
一実施態様において、パッケージはドハティ増幅器ラインアップを含む。本発明の設計において、ドハティ増幅器の2つの増幅器(すなわち、キャリア増幅器およびピーク増幅器)の間の干渉および/またはクロストークが低減され、それによって、ドハティ電力増幅器のキャリア増幅器およびピーク増幅器が、効率が改善した、本明細書においてはデュアルパス半導体パッケージと称する、単一のパッケージ内に実装され得る。様々な他の実施態様において、本発明のシステムは、互いに分離されるべきである複数の構成要素または回路を含む様々なパッケージ内で使用されてもよいことが諒解されよう。
本発明の手法を使用して、低コスト、低重量、および小容量が所望される、基地局電力増幅器、携帯電話、ブルートゥースデバイス、および半導体パッケージに依存する他のデバイスにおけるドハティ電力増幅器半導体パッケージの有用性を改善することができる。本明細書に記載の実施形態は、ドハティ電力増幅器内のワイヤ・ボンド・アレイ間の誘導結合を低減する。しかしながら、後述する誘導結合を低減するための技法は、様々な半導体デバイス設計内で実装されてもよいことは明らかとなろう。
図1は、ドハティ電力増幅器半導体パッケージ20のブロック図を示す。ドハティ電力増幅器半導体パッケージ20は、並列に接続されているキャリア増幅器回路22およびピーク増幅器回路24を含む。入力信号26が、入力スプリッタ28によって2つの信号に分割される。結果生じる入力信号のうちの一方はキャリア増幅器回路22の入力32に通信され、もう一方の入力信号はピーク増幅器回路24の入力36に通信される。キャリア増幅器回路22の出力40から出力信号が通信される。同様に、ピーク増幅器回路24の出力44から出力信号が通信される。2つの出力信号は電力結合器(PWR CMB)46を通じて組み合わされて、結合出力信号48が生成される。ドハティ電力増幅器半導体パッケージは一般的に、簡潔に図示するために本明細書には示されていない追加の電子デバイスおよび回路を含むことは、当業者であれば認識しよう。
一実施形態において、キャリア増幅器回路22は、ドハティ電力増幅器半導体パッケージ20の出力電力の全範囲にわたってオンであるように構成されている。ピーク増幅器回路24は、キャリア増幅器回路22が飽和したときにのみオンになるように構成されている。キャリア増幅器回路22からの出力信号をピーク増幅器回路24からの出力信号と組み合わせるように動作する電力結合器46は、四分の一波長インピーダンスインバータであってもよい。四分の一波長インピーダンスインバータは、キャリア増幅器回路22からの出力信号に90度の遅延を付加することができる。ピーク増幅器回路24の位相は一般的に、キャリア増幅器回路22を90度遅延させるように構成されており、それによって、2つの出力信号は、それらの出力信号が電力結合器46において組み合わされて結合出力信号48を形成するときに同相で加算される。
図1に示す例において、キャリア増幅器回路22およびピーク増幅器回路24の各々は、いくつかの能動および受動電気素子を含んでもよい。たとえば、キャリア増幅器回路22は、入力32に結合されているキャパシタを含んでもよい。キャパシタはトランジスタに結合されることができ、トランジスタは、入力32において受信される入力信号に適切な増幅を適用する。トランジスタの出力は第2のキャパシタに結合されることができる。キャパシタは、入力32において受信されトランジスタによって増幅された入力信号を調整するように動作することができる。同様に、ピーク増幅器24は、入力36に結合されているキャパシタを含むことができる。キャパシタはトランジスタに結合されることができ、トランジスタは、入力36において受信される入力信号に適切な増幅を適用する。トランジスタの出力は第2のキャパシタに結合されることができる。キャパシタは、入力36において受信されトランジスタによって増幅された入力信号を調整するように動作することができる。キャリア増幅器回路22およびピーク増幅器回路24は、簡潔に図示するために本明細書には示されていない追加の電子デバイスを含んでもよいことは、当業者であれば認識しよう。
ドハティ増幅器パッケージ20において、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24の各々を構成する別個の電気デバイスは、ワイヤボンドとして既知である複数の並列ワイヤを使用して互いに接続されてもよい。実際の用途において、キャリア増幅器回路22の信号経路(たとえば、それらの入力、出力、キャパシタおよびトランジスタ間の)うちの1つ以上は、ワイヤボンドを使用して確立されてもよい。同様に、ピーク増幅器回路24の信号経路(たとえば、それらの入力、出力、キャパシタおよびトランジスタ間の)うちの1つ以上は、ワイヤボンドを使用して確立されてもよい。
ドハティ電力増幅器パッケージにおいて、これらの様々なワイヤ・ボンド・アレイは、それらが単一のハウジング内にパッケージされることに起因して、非常に近接して配置されている場合がある。各増幅器の構成要素を相互接続している様々なワイヤボンドの信号経路間の距離が小さいことによって、隣接するワイヤ・ボンド・アレイ間の誘導結合が相対的に高レベルになる可能性がある。この誘導結合によって、パッケージ内ドハティ増幅器の電源能力が制限される可能性がある。
したがって、本発明のドハティ増幅器パッケージにおいて、各増幅器(たとえば、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24)のワイヤ・ボンド・アレイ間の電気的分離をもたらすために、2つの増幅器22と24との間にワイヤボンド壁50が形成される。下記にさらに説明するワイヤボンド壁50は、キャリア増幅器およびピーク増幅器を構成する回路間でパッケージ内に形成されるいくつかのワイヤボンド接続から構築される。ワイヤボンド壁50は、パッケージ20の実施態様に応じて、様々な基板上に、または直接パッケージ20のリードフレーム上に構築され得る。パッケージ20の他の構成要素とともに、ワイヤボンド壁50は、封入剤をオーバーモールドされてもよいか、または、空洞パッケージの一部であってもよい。様々な実施態様において、ワイヤボンド壁50は、グランドに直接、もしくはグランド電圧に接続され得るグランド端子に直接接続されてもよいか、または、様々な集積型受動デバイス(IPD)もしくは他の能動デバイスおよび回路に接続されてもよい。概して、ワイヤボンド壁50はドハティ増幅器のキャリア増幅器回路とピーク増幅器回路との間の誘導結合を遮断および阻害するためのシールドまたはフェンスとして動作する。
図2Aは、ドハティ電力増幅器半導体パッケージ20のキャリア増幅器22回路およびピーク増幅器24回路の概略上面図である。図2Bは、図2Aのドハティ増幅器半導体パッケージ20の斜視図である。本発明の例は、ドハティ電力増幅器の構成要素に関して説明するが、本発明のシステムおよび方法は、基板の上に形成される任意の回路に対する電気的分離をもたらすために採用されてもよく、ドハティ増幅器の構成要素は一例にすぎないことは理解されるべきである。本開示に応じて、ワイヤボンド壁は、特定のパッケージ内に適切に構成された任意の構成要素間の電気的分離をもたらすために利用されてもよい。たとえば、図2Aおよび図2Bを参照すると、キャリア増幅器22は、いくつかの相互接続された電気デバイスを含む任意の電気回路に置き換えられてもよく、ピーク増幅器24も同様に置き換えられてもよい。
パッケージ20において、キャリア増幅器22は、入力端子32および出力端子40を含み、ドハティ構成において、これらはそれぞれキャリア増幅器22のゲート端子およびドレイン端子を構成してもよい。同様に、ピーク増幅器24は、入力端子36および出力端子44を含み、ドハティ構成において、これらはそれぞれピーク増幅器24のゲート端子およびドレイン端子を構成してもよい。
キャリア増幅器22は、パッケージ・グランド・プレーン74のような共通の(すなわち、単一の)キャリアの表面に製造および/または後に載置される、キャパシタ100および104ならびにトランジスタ102(ゲートパッド103およびドレインパッド105を有する)のようないくつかの電子デバイスを含む。キャパシタ100および104はたとえば、グランドプレーン74上に載置されている金属酸化膜半導体(MOS)キャパシタであってもよい。同様に、ピーク増幅器24は、パッケージ・グランド・プレーン74のような共通の(すなわち、単一の)キャリアの表面に製造および/または後に載置される、キャパシタ106および110ならびにトランジスタ108(ゲートパッド109およびドレインパッド111を有する)のようないくつかの電子デバイスを含む。キャパシタ106および110はたとえば、グランドプレーン74上に載置されている金属酸化膜半導体(MOS)キャパシタであってもよい。
図2Aおよび図2Bに示すように、キャリア増幅器22の構成要素(キャパシタ100および104、トランジスタ102、ならびに端子32および40を含む)は、ワイヤボンドのアレイを形成するいくつかのワイヤボンド112によって接続される。ピーク増幅器24の構成要素(キャパシタ106および110、トランジスタ108、ならびに端子36および44を含む)は、それ自体がワイヤボンドのアレイを形成するいくつかのワイヤボンド114によって同様に接続される。様々な実施態様において、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24の様々な構成要素、またはグランドプレーン74の表面の上に形成されてもよい任意の他の構成要素を相互接続するのに任意の数のワイヤボンドが使用されてもよい。
図示されているパッケージ20において、キャリア増幅器回路22およびピーク増幅器回路24のレイアウトが対称である結果として、キャリア増幅器回路22の対応する構成要素がピーク増幅器回路24の対応する構成要素に隣接することになり得る。したがって、各増幅器の様々な構成要素(具体的には、高周波信号を搬送する各増幅器のワイヤボンド112および114)の配置が互いに隣接して幾何学的に平行である。キャリア増幅器22およびピーク増幅器24のワイヤ・ボンド・アレイのこれらの属性の結果として、デバイス間の結合がもたらされ得、これによって、デバイス全体の性能が低減し得る。
キャリア増幅器22とピーク増幅器24との間の結合を最小限に抑えるために、パッケージ20は、キャリア増幅器22とピーク増幅器24とを分離するワイヤボンド壁50を含む。ワイヤボンド壁は、一実施態様において、各々グランドに接続することができる端子116および118を含む。グランドプレーン74の表面の上にいくつかの接続パッド120が形成される。一実施態様において、接続パッド120の各々は、たとえば、接続パッド120を、パッケージ20のグランドプレーン(たとえば、グランドプレーン74)に、または、グランド電圧に接続することができる1つ以上のグランド端子に接続することによって、グランド電圧に接続される。その後、いくつかのワイヤボンド122が、接続パッド120と端子116および118との間に形成される。接続パッド120の位置および幾何学的構成によって、ワイヤボンド壁50を構成する様々なワイヤボンド122が、パッケージ20の実施態様に応じて、適切なピッチ間隔だけ分離されることが可能になる。一実施態様において、ピッチ間隔は5〜6ミリメートル(mm)である。
全体として、ワイヤボンド122は、キャリア増幅器22をピーク増幅器24から電気的に分離するように動作するグランドされたワイヤボンドから成る壁または網を形成する。ワイヤボンド122は、ワイヤボンド112および/または114のものと同じまたは異なる適切な導電性金属から形成されてもよい。例示的な材料は、金、銅、アルミニウム、または銀を含む。一実施態様において、ワイヤボンド壁50およびそのワイヤボンド122は、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24によって生成される電場を吸収し、それによって、電場が互いに作用し合うのを遮断または抑制するように構成されている受動素子として動作する。実施態様に応じて、ワイヤボンド122の構成は、特定の周波数範囲または特定帯域幅を遮断することのような、特定の需要を満たすように調整または調節されてもよい。これらの調整は、ワイヤボンド壁50を構成する個々のワイヤボンド122の長さ、および、様々なワイヤボンドが互いに重なり合う度合いを変更することを含んでもよい。形成されると、封入剤(図示せず)がパッケージ20の上に堆積され、それゆえワイヤボンド、およびパッケージ20の他の構成要素に物理的保護を提供してもよい。
様々な実施態様において、ワイヤボンド壁50は、互いから分離されるべき2つの回路または構成要素間のルートに沿って形成されるいくつかのワイヤボンドを含む。ワイヤボンド壁50が直線に沿って延在しているとき、ワイヤボンド壁50を構成するワイヤボンド122の各々は概して互いに平行に形成される。図2Bに示すように、ワイヤボンド壁50は、キャリア増幅器22とピーク増幅器24との間に引かれる線に垂直であるルートまたは経路に沿って延在してもよい。概して、ワイヤボンド壁50は、キャリア増幅器22とピーク増幅器24との間に位置するグランドプレーン74の領域に沿って延在する。ワイヤボンド壁50内で、個々のワイヤボンド122は、単一の列に、または、図2Aに図示するように、複数列に形成されてもよい。図2Aは、3列のワイヤボンド122を含むワイヤボンド壁50を示す。また、図2Bに示すように、ワイヤボンド壁50を構成するワイヤボンド122は、ワイヤボンド壁50のすべての接続パッド120に接続することができ、または場合によっては、接続パッド120を飛び越えてもよい。
ワイヤボンド壁が複数列のワイヤボンドから構成されるとき、ワイヤボンド壁を構築するための1つの手法は、各接続パッドについて、1列のワイヤボンド壁からの少なくとも1つのワイヤボンドが接続パッドに接続され、別の列からの少なくとも1つのワイヤボンドが接続パッドに接続されないようにすることである。この手法は、ワイヤボンド壁を構成するワイヤボンドが、その側から見ると、各列のワイヤボンドが同じように接続された場合より小さい開口を有する網を形成するようにすることができる。
直線に沿って延在することに加えて、ワイヤボンド壁は、非直線ルートに沿って形成されてもよい。場合によっては、分離される回路のレイアウトおよび/または幾何形状によって、非直線ルートが必要とされ得る。他の実施態様において、ワイヤボンド壁は実質的に特定の回路の周囲に形成されてもよい。これによって、パッケージ内の回路が、パッケージ内の他の回路からだけでなく、パッケージの外部の放射源からも分離されることが可能になり得る。
ワイヤボンド壁50のいくつかの異なる構成を示すために、図3Aおよび図3Bは、代替的なワイヤボンド壁構成を図示するパッケージの断面図である。断面は、たとえば、図2Aに示す線3−3に沿って取られ得るが、図2Aに示すものとは異なるワイヤボンド構成を示す。図3Aにおいて、ワイヤボンド壁300は、接続パッド304ならびに端子116および118を相互接続するいくつかのワイヤボンド302によって形成される。ワイヤボンド302の上に保護封入剤306が形成される。図3Bにおいて、ワイヤボンド壁310は、グランドプレーンまたは接続パッド構造314の上にあって端子116および118を相互接続しているいくつかのワイヤボンド312によって形成される。ワイヤボンド312の上に保護封入剤316が形成される。図3Bに示す構成は、図3Aのものと比較してより多数のワイヤボンドを含み、したがって、図3Bのワイヤボンド壁は、その側から見ると密度がより高く、ワイヤボンド壁50内の開口の平均サイズが低減している。
概して、ワイヤボンド壁50の構成は、特定の範囲の周波数における電磁波伝送を吸収し、それによって遮断するように選択される。多くの場合、遮断されている周波数は、パッケージ内に形成されるデバイスの動作周波数である。所与の実施形態について、いくつかの候補ワイヤボンド壁構成がシミュレートされ得、様々な候補は、それらの特定の入力信号に対する応答を確定するために、様々な数のワイヤボンド、様々な長さのワイヤボンド、様々な数のワイヤボンド列、および、種々の数の重なり合うワイヤボンドを含む。そのようなシミュレーションを実行するための1つの例示的なツールはHFSSを含み、これはアンテナ設計に有用なツールである。その後、所望される回路性能に応じて、特定のワイヤボンド壁設計を選択することができる。
図2Aおよび図2Bにおいて、ワイヤボンド壁50は、グランドまたは浮動にされてもよく、概して、パッケージ20の受動構成要素として動作する。基本的に、グランドにされると、ワイヤボンド壁50はキャリア増幅器22およびピーク増幅器24のいずれかの電磁放射を吸収してこれらの放射が他の回路に作用することを阻害するように構成されている、同調アンテナとして動作する。
いくつかの実施態様において、ワイヤボンド壁50は、ワイヤボンド壁50の応答をさらに制御および/または最適化するために1つ以上の受動または能動デバイスに接続されてもよい。追加のデバイスがパッケージ20内に形成されてもよく、または、パッケージ20の外部にあってもよい。例示のために、図4Aおよび図4Bは、ワイヤボンド壁50がいくつかの追加のデバイスに接続されているパッケージ20を示す。図4Aに示すように、ワイヤボンド壁50はIPD400に接続されている。IPD400は、パッケージ20内に形成されている抵抗器、キャパシタ、およびインダクタの組み合わせを含んでもよい。概して、IPD400のキャパシタンスおよび/またはインダクタンスは、ワイヤボンド壁50に接続されると、IPD400と組み合わさったワイヤボンド壁50のインピーダンスが、所望される範囲の信号周波数を遮断するように調節されるように選択されることになる。このインピーダンス整合は、キャリア増幅器22とピーク増幅器24との間の結合を最小限に抑え、それによって、パッケージ20の効率を改善する役割を果たす。IPD400を組み込むことによってワイヤボンド壁50の性能を調節することによって、特定の周波数範囲にわたる結合の低減を達成することができる。図4Bは、2つのIPD402および404を含む代替的な実施形態を示し、IPD402および404は互いに平行に延在している。IPD402および404はワイヤボンド壁50に結合されている。様々な実施態様において、パッケージ20の構成要素の電気的分離をもたらすために、ワイヤボンド壁50と組み合わせて任意の数のIPDが設けられてもよい。
他の実施態様において、ワイヤボンド壁50は、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24(またはパッケージ20の他の回路)または他のシステム構成要素の動作属性に応じてワイヤボンド壁50のインピーダンスを変更するように構成され得る1つ以上の能動素子にも接続されてもよい。その場合、能動素子は、たとえば、特定の周波数および/または帯域幅要件を満たすために、パッケージ20の回路の特定の動作周波数に応じて調節可能であってもよい。
上述の電気的分離の利点をもたらすことに加えて、本発明のワイヤボンド壁実施態様は、さらに、パッケージ20の残りの部分を製造するのに使用されるものと同様の作製技法を使用して構築することができるという点において有益である。ワイヤボンド壁のワイヤボンドは、実施態様によっては、たとえば、キャリア増幅器22およびピーク増幅器24の構成要素を相互接続するのに使用されるものと同じワイヤボンディング技法を使用して作製することができる。パッケージ20の構造を抜本的に設計し直す必要がある場合があるいくつかの他の分離技法とは対照的である。たとえば、電気的分離をもたらす試みにおいて個体金属壁がキャリア増幅器22とピーク増幅器24との間に配置されることになったとすると、まったく新規の作製技法(および、おそらくは機械装置)が、既存のパッケージ設計内にそのような構造を設置するために開発および利用されることになるであろう。事実、多くの場合、そのような構成要素を組み込むにはパッケージ全体を設計し直さなければならないであろう。
シミュレーションにおいて、本発明のワイヤボンド壁構造の実施形態は、従来のパッケージを超える改善した性能を実証している。約2GHzにおいて動作する図3Bの図示に応じて構成されたワイヤボンド壁を含むドハティ構造の1つのシミュレーションにおいて、グランドされたワイヤボンド壁は、検出された結合が約3dB低減しており、IPDを組み込まれたワイヤボンド壁は検出された結合が約17dB低減していた。比較のために、個体金属壁がドハティ増幅器の構成要素間に位置付けられたときのシミュレーションにおいては5dBの低減しか観測されなかった。
図5Aおよび図5Bは、単一のパッケージ内のキャリア増幅器とピーク増幅器とを分離する図3Bの図示に応じて構成されたワイヤボンド壁を含み、ワイヤボンド壁は適切に構成されたIPDに接続されている、例示的なデバイスのシミュレーション結果を示すグラフである。グラフは、パッケージ内のノード間の結合の量(垂直軸、dB)対周波数(水平軸、GHz)を図示している。図5Aは、図2Aの要素105と44との間で測定されたテスト結果を図示している。図5Bは、図2Aの要素40と44との間で測定されたテスト結果を図示している。
図5Aにおいて、線502は従来のデバイス(ワイヤボンド壁を含まない)の結果を示し、線504は、図2Bのデバイス(ワイヤボンド壁50を含む)の結果を示す。図5Aから分かるように、ドハティ増幅器の動作周波数(約2GHz)の周りで結合が急激に低減している。図5Bにおいて、線506は従来のデバイス(ワイヤボンド壁を含まない)の結果を示し、線508は、図2Bのデバイス(ワイヤボンド壁50を含む)の結果を示す。図5Aから分かるように、ドハティ増幅器の動作周波数(約2GHz)の周りで結合が急激に低減している。ワイヤボンド壁によってもたらされるこの結合の低減によって、増幅器のより効率的な動作が可能になる。
一実施態様において、本開示は、基板と、基板上の第1の回路を含むパッケージを提供する。第1の回路は、第1の電気デバイスと、第2の電気デバイスと、第1の電気デバイスおよび第2の電気デバイスを相互接続する第1のワイヤ・ボンド・アレイとを含む。パッケージは、第1の回路に隣接する、基板上の第2の回路を含む。第2の回路は、第3の電気デバイスと、第4の電気デバイスと、第3の電気デバイスおよび第4の電気デバイスを相互接続する第2のワイヤ・ボンド・アレイとを含む。パッケージは、第1の回路と第2の回路との間で基板の上に複数のワイヤボンドを含むワイヤボンド壁を含む。ワイヤボンド壁は、第1の回路および第2の回路の少なくとも一方の動作中に第1の回路と第2の回路との間の電磁結合を低減するように構成されている。
別の実施態様において、本開示は、ドハティ増幅器パッケージを提供する。ドハティ増幅器パッケージは、基板と、基板上のキャリア増幅器と、キャリア増幅器に隣接する、基板上のピーク増幅器と、基板上の複数のワイヤボンドとを含む。複数のワイヤボンドは相互接続され、基板の、キャリア増幅器およびピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って延在する。複数のワイヤボンドは、キャリア増幅器およびピーク増幅器の少なくとも一方の動作中にキャリア増幅器とピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する。
別の実施態様において、本開示は、キャリア増幅器を基板上に取り付ける工程と、キャリア増幅器に隣接して、ピーク増幅器を基板上に取り付ける工程と、基板の、キャリア増幅器およびピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って基板上に複数の相互接続されたワイヤボンドを形成する工程とを含む方法を提供する。複数のワイヤボンドは、キャリア増幅器およびピーク増幅器の少なくとも一方の動作中にキャリア増幅器とピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する。
本開示は、具体的な例、実施形態などを説明しているが、添付の特許請求の範囲に明記されているような本開示の範囲から逸脱することなく様々な改変および変更を為すことができる。たとえば、本明細書に記載の例示的な方法、デバイス、およびシステムは、上述のデバイスのための構成と連動しているが、例示的な方法、デバイス、およびシステムは、他の方法、デバイス、およびシステムにおいて使用されてもよく、必要に応じてそのような他の例示的な方法、デバイス、およびシステムに対応するように構成されてもよいことが当業者には容易に認識されよう。さらに、上記の詳細な説明において少なくとも1つの実施形態が提示されているが、多くの変形形態が存在する。したがって、本明細書および図面は限定的な意味ではなく例示とみなされるべきであり、すべてのこのような改変が本開示の範囲内に含まれることが意図されている。本明細書において具体的な実施形態に関して記載されているいかなる利益、利点、または問題に対する解決策も、任意のまたはすべての請求項の重要な、必要とされる、または基本的な特徴または要素として解釈されるようには意図されていない。

Claims (20)

  1. 基板と、
    前記基板上の第1の回路であって、該第1の回路は、第1の電気デバイス、第2の電気デバイス、ならびに、前記第1の電気デバイスおよび前記第2の電気デバイスを相互接続する第1のワイヤ・ボンド・アレイを含む、第1の回路と、
    前記第1の回路に隣接する、前記基板上の第2の回路であって、該第2の回路は、第3の電気デバイス、第4の電気デバイス、ならびに、前記第3の電気デバイスおよび前記第4の電気デバイスを相互接続する第2のワイヤ・ボンド・アレイを含む、第2の回路と、
    前記第1の回路と前記第2の回路との間で前記基板の上に複数のワイヤボンドを含むワイヤボンド壁であって、該ワイヤボンド壁は、前記第1の回路および前記第2の回路の少なくとも一方の動作中に前記第1の回路と前記第2の回路との間の電磁結合を低減するように構成されている、ワイヤボンド壁とを備える、パッケージ。
  2. 前記複数のワイヤボンドは相互接続されており、前記基板の、前記第1の回路および前記第2の回路の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って延在している、請求項1に記載のパッケージ。
  3. 前記基板の上の複数の接続パッドを含み、前記ワイヤボンド壁の前記ワイヤボンドは、前記接続パッドを電気的に相互接続する、請求項2に記載のパッケージ。
  4. 前記第1の電気回路はドハティ増幅器のキャリア増幅器である、請求項1に記載のパッケージ。
  5. 前記第2の電気回路はドハティ増幅器のピーク増幅器である、請求項4に記載のパッケージ。
  6. 前記ワイヤボンド壁はグランド電圧端子に接続されている、請求項1に記載のパッケージ。
  7. 前記ワイヤボンド壁は集積型受動デバイスに接続されている、請求項1に記載のパッケージ。
  8. 前記集積型受動デバイスのキャパシタンスおよびインダクタンスの少なくとも一方は、前記集積型受動デバイスが前記ワイヤボンド壁に接続されているときに、特定の周波数帯の前記第1の回路と前記第2の回路との間の電磁結合を低減するように選択されている、請求項7に記載のパッケージ。
  9. 前記第1の電気デバイス、第2の電気デバイス、第3の電気デバイス、および第4の電気デバイスの少なくとも1つは、キャパシタ、およびトランジスタの少なくとも一方を含む、請求項1に記載のパッケージ。
  10. 基板と、
    前記基板上のキャリア増幅器と、
    前記キャリア増幅器に隣接する、前記基板上のピーク増幅器と、
    前記基板上の複数のワイヤボンドであって、該複数のワイヤボンドは、相互接続されており、前記基板の、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って延在しおり、該複数のワイヤボンドは、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する、複数のワイヤボンドとを備える、ドハティ増幅器パッケージ。
  11. 前記基板の上の複数の接続パッドを含み、前記複数のワイヤボンドは、前記接続パッドを電気的に相互接続する、請求項10に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  12. 前記複数の接続パッドはグランド電圧に接続されている、請求項11に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  13. 前記複数のワイヤボンドはグランド電圧端子に接続されている、請求項10に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  14. 前記複数のワイヤボンドは集積型受動デバイスに接続されている、請求項10に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  15. 前記集積型受動デバイスのキャパシタンスおよびインダクタンスの少なくとも一方は、前記集積型受動デバイスが前記複数のワイヤボンドに接続されているときに、および、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に、特定の周波数帯の前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように選択されている、請求項14に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  16. 前記キャリア増幅器は、該キャリア増幅器の第1の電気デバイスと該キャリア増幅器の第2の電気デバイスとを相互接続する第1のワイヤ・ボンド・アレイを含み、
    前記ピーク増幅器は、該ピーク増幅器の第3の電気デバイスと該ピーク増幅器の第4の電気デバイスとを相互接続する第2のワイヤ・ボンド・アレイを含む、請求項10に記載のドハティ増幅器パッケージ。
  17. 基板上にキャリア増幅器を取り付ける工程と、
    前記キャリア増幅器に隣接して、前記基板上にピーク増幅器を取り付ける工程と、
    前記基板の、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一部分の間に位置する領域に沿って、前記基板上に複数の相互接続されたワイヤボンドを形成する工程であって、該複数のワイヤボンドは、前記キャリア増幅器および前記ピーク増幅器の少なくとも一方の動作中に前記キャリア増幅器と前記ピーク増幅器との間の電磁結合を低減するように構成されたワイヤボンド壁を形成する、形成するステップとを備える、方法。
  18. 前記基板の上に複数の接続パッドを形成する工程を含み、前記複数のワイヤボンドは、前記接続パッドを電気的に相互接続する、請求項17に記載の方法。
  19. 前記複数の接続パッドをグランド電圧端子に接続する工程を含む、請求項18に記載の方法。
  20. 前記基板に集積型受動デバイスを載置する工程と、
    前記複数のワイヤボンドを前記集積型受動デバイスに接続する工程とを含む、請求項17に記載の方法。
JP2014124203A 2013-06-27 2014-06-17 結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージ Active JP6530893B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/929,688 2013-06-27
US13/929,688 US9401342B2 (en) 2013-06-27 2013-06-27 Semiconductor package having wire bond wall to reduce coupling

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015012609A true JP2015012609A (ja) 2015-01-19
JP2015012609A5 JP2015012609A5 (ja) 2017-07-13
JP6530893B2 JP6530893B2 (ja) 2019-06-12

Family

ID=52115008

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014124203A Active JP6530893B2 (ja) 2013-06-27 2014-06-17 結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージ

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9401342B2 (ja)
JP (1) JP6530893B2 (ja)
CN (1) CN104253095B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018107387A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体装置
WO2020039474A1 (ja) * 2018-08-20 2020-02-27 三菱電機株式会社 ドハティ増幅器
JP2021035042A (ja) * 2019-08-15 2021-03-01 エヌエックスピー ユーエスエイ インコーポレイテッドNXP USA,Inc. インターディジテイテッド・トランジスタを有する集積マルチパス電力増幅器

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9312817B2 (en) 2012-07-20 2016-04-12 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor package design providing reduced electromagnetic coupling between circuit components
US9240390B2 (en) 2013-06-27 2016-01-19 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor packages having wire bond wall to reduce coupling
US9450547B2 (en) 2013-12-12 2016-09-20 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor package having an isolation wall to reduce electromagnetic coupling
CN107750478B (zh) * 2015-06-22 2021-06-01 瑞典爱立信有限公司 无埋块rf功率放大器
CN107771416B (zh) 2015-06-22 2021-05-28 瑞典爱立信有限公司 用于无埋块的rf功率放大器的滑动和安装制造
US9607953B1 (en) * 2016-02-24 2017-03-28 Nxp Usa, Inc. Semiconductor package with isolation wall
US10249582B2 (en) 2016-12-19 2019-04-02 Nxp Usa, Inc. Radio frequency (RF) devices with resonant circuits to reduce coupling
JP2018107364A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US10506704B1 (en) 2018-08-21 2019-12-10 Nxp Usa, Inc. Electromagnetically-shielded microelectronic assemblies and methods for the fabrication thereof
US10629518B2 (en) 2018-08-29 2020-04-21 Nxp Usa, Inc. Internally-shielded microelectronic packages and methods for the fabrication thereof
US11071197B2 (en) 2018-09-21 2021-07-20 International Business Machines Corporation Multilayer ceramic electronic package with modulated mesh topology and alternating rods
US11011813B2 (en) * 2019-07-12 2021-05-18 Nxp B.V. Power amplifier with shielded transmission lines
US11349438B2 (en) 2019-12-30 2022-05-31 Nxp Usa, Inc. Power amplifier packages containing multi-path integrated passive devices

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007173955A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Toshiba Corp 高周波電力増幅器とその組立方法
US20110204980A1 (en) * 2007-08-29 2011-08-25 Nxp B.V. Integrated doherty amplifier
US20120038420A1 (en) * 2010-08-16 2012-02-16 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Communications circuit for reducing crosstalk
JP2012222491A (ja) * 2011-04-06 2012-11-12 Hitachi Metals Ltd モジュール
JP2013074249A (ja) * 2011-09-29 2013-04-22 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体パッケージ、及び半導体パッケージの製造方法
JP2014512152A (ja) * 2011-04-20 2014-05-19 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 増幅器及び関連する集積回路
JP2015115960A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 半導体デバイス及び製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5668408A (en) 1996-04-12 1997-09-16 Hewlett-Packard Company Pin grid array solution for microwave multi-chip modules
US7525813B2 (en) 1998-07-06 2009-04-28 Renesas Technology Corp. Semiconductor device
US6072211A (en) 1998-08-03 2000-06-06 Motorola, Inc. Semiconductor package
US6261868B1 (en) 1999-04-02 2001-07-17 Motorola, Inc. Semiconductor component and method for manufacturing the semiconductor component
US7446411B2 (en) 2005-10-24 2008-11-04 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor structure and method of assembly
US7429790B2 (en) 2005-10-24 2008-09-30 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor structure and method of manufacture
US7445967B2 (en) 2006-01-20 2008-11-04 Freescale Semiconductor, Inc. Method of packaging a semiconductor die and package thereof
US20090181329A1 (en) * 2008-01-08 2009-07-16 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing a liquid jet head, a liquid jet head, and a liquid jet apparatus
US8030763B2 (en) 2008-06-26 2011-10-04 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor package with reduced inductive coupling between adjacent bondwire arrays
US8564091B2 (en) 2009-07-06 2013-10-22 Marvell World Trade Ltd. Die-to-die electrical isolation in a semiconductor package
JP5229276B2 (ja) * 2010-06-11 2013-07-03 株式会社村田製作所 回路モジュール
US9312817B2 (en) * 2012-07-20 2016-04-12 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor package design providing reduced electromagnetic coupling between circuit components
EP2747134B1 (en) * 2012-12-18 2021-09-01 Ampleon Netherlands B.V. Amplifier device
US9240390B2 (en) 2013-06-27 2016-01-19 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor packages having wire bond wall to reduce coupling

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007173955A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Toshiba Corp 高周波電力増幅器とその組立方法
US20110204980A1 (en) * 2007-08-29 2011-08-25 Nxp B.V. Integrated doherty amplifier
US20120038420A1 (en) * 2010-08-16 2012-02-16 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Communications circuit for reducing crosstalk
JP2012222491A (ja) * 2011-04-06 2012-11-12 Hitachi Metals Ltd モジュール
JP2014512152A (ja) * 2011-04-20 2014-05-19 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 増幅器及び関連する集積回路
JP2013074249A (ja) * 2011-09-29 2013-04-22 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体パッケージ、及び半導体パッケージの製造方法
JP2015115960A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 半導体デバイス及び製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018107387A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体装置
WO2020039474A1 (ja) * 2018-08-20 2020-02-27 三菱電機株式会社 ドハティ増幅器
JPWO2020039474A1 (ja) * 2018-08-20 2021-02-25 三菱電機株式会社 ドハティ増幅器
US11374539B2 (en) 2018-08-20 2022-06-28 Mitsubishi Electric Corporation Doherty amplifier
JP2021035042A (ja) * 2019-08-15 2021-03-01 エヌエックスピー ユーエスエイ インコーポレイテッドNXP USA,Inc. インターディジテイテッド・トランジスタを有する集積マルチパス電力増幅器

Also Published As

Publication number Publication date
US9401342B2 (en) 2016-07-26
US20150002226A1 (en) 2015-01-01
CN104253095A (zh) 2014-12-31
JP6530893B2 (ja) 2019-06-12
CN104253095B (zh) 2018-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10269729B2 (en) Semiconductor packages having wire bond wall to reduce coupling
JP6530893B2 (ja) 結合を低減するためのワイヤボンド壁を有する半導体パッケージ
US10630243B2 (en) Semiconductor package having an isolation wall to reduce electromagnetic coupling
EP3331161B1 (en) Amplifier die with elongated side pads, and amplifier modules that incorporate such amplifier die
US10573594B2 (en) Semiconductor package design providing reduced electromagnetic coupling between circuit components
US9711486B2 (en) Stacked semiconductor device
US8030763B2 (en) Semiconductor package with reduced inductive coupling between adjacent bondwire arrays
US20080311862A1 (en) Integrated galvanic isolator using wireless transmission
US9673164B2 (en) Semiconductor package and system with an isolation structure to reduce electromagnetic coupling
US11245386B2 (en) High-frequency module
EP2393111B1 (en) Inductive bond-wire circuit
US10109594B2 (en) Semiconductor device with an isolation structure coupled to a cover of the semiconductor device
CN113130465A (zh) 包含多路径集成无源装置的功率放大器封装
JP2015023473A (ja) アンテナ装置
KR20200018289A (ko) 전력 증폭 모듈
US9888564B2 (en) Signal path in radio-frequency module having laminate substrate
CN103066940A (zh) 无源平衡-非平衡转换器
US20220182472A1 (en) Radio-frequency module and communication device
US20230136631A1 (en) Semiconductor package using hybrid-type adhesive
KR101059628B1 (ko) 배선 간섭이 억제된 송신 모듈
JP2013017075A (ja) 高周波電力増幅器

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170602

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180904

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181115

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190423

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6530893

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250