JP2015179217A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】消費電流を低減することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、基板21、22と、基板21、22間に挟持された液晶層23と、基板22上に設けられ、複数の画素を区画する遮光膜BMと、基板22上かつ遮光膜BMの複数の開口部に設けられたカラーフィルターと、遮光膜BM及び該カラーフィルター上に設けられた共通電極35と、基板21上に設けられた信号線SLと、信号線SLの上方に絶縁膜を介して設けられ、信号線SLに電気的に接続され、画素に対応するように設けられた画素電極27とを含む。信号線SLの上方には、該カラーフィルターを介さずに遮光膜BMが配置される。
【選択図】図4

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。
カラー表示が可能な様々な液晶表示装置が開発されている。カラー表示を行う液晶表示装置には、例えば、カラーフィルターが用いられる。
カラーフィルターが形成されるカラーフィルター基板には、例えば全面に共通電極が形成される。液晶層の配向を制御するという観点では、共通電極はフラットであることが望ましい。このため、カラーフィルターを構成する複数色の着色部材は隙間無く並べられ、またアクティブエリアの外側においてもアクティブエリアの内側と同様にカラーフィルターが配置されることが多い。
しかしながら、カラーフィルターをフラットにすると、共通電極と液晶層を介して配置される配線との距離が短くなる。これにより、配線上の静電容量が大きくなり、結果として、液晶表示装置の消費電流が増大してしまう。
特開平07−120608号公報 特開平06−265870号公報
本発明は、液晶層を介した共通電極と配線との間の静電容量を小さくすることで消費電流を低減することが可能な液晶表示装置を提供する。
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板と、前記第1及び第2基板間に挟持された液晶層と、前記第1基板上に設けられ、複数の画素を区画する遮光膜と、前記第1基板上かつ前記遮光膜の複数の開口部に設けられたカラーフィルターと、前記遮光膜及び前記カラーフィルター上に設けられた共通電極と、前記第2基板上に設けられた信号線と、前記信号線の上方に絶縁膜を介して設けられ、前記信号線に電気的に接続され、画素に対応するように設けられた画素電極とを具備する。前記信号線の上方には、前記カラーフィルターを介さずに前記遮光膜が配置されることを特徴とする。
本発明によれば、液晶層を介した共通電極と配線との間の静電容量を小さくすることで消費電流を低減することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
第1実施形態に係る液晶表示装置の概略的な平面図。 図1に示したアクティブエリアに含まれる画素アレイの回路図。 第1実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図3に示したA−A’線に沿った液晶表示装置の断面図。 図3に示したB−B’線に沿った液晶表示装置の断面図。 TFT基板に設けられた配線の平面図。 第1変形例に係る液晶表示装置の平面図。 図7に示したB−B’線に沿った液晶表示装置の断面図。 第2変形例に係る液晶表示装置の平面図。 比較例に係る液晶表示装置の平面図。 図10に示したA−A’線に沿った液晶表示装置の断面図。 他の比較例に係る液晶表示装置の平面図。 本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置の概略的な平面図。 第2実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図14に示したA−A’線に沿った液晶表示装置の断面図。 デルタ配列を有する液晶表示装置の平面図。 第1変形例に係る液晶表示装置の断面図。 第2変形例に係る液晶表示装置の断面図。
以下、実施形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的または概念的なものであり、各図面の寸法および比率等は必ずしも現実のものと同一とは限らないことに留意すべきである。また、図面の相互間で同じ部分を表す場合においても、互いの寸法の関係や比率が異なって表される場合もある。特に、以下に示す幾つかの実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置および方法を例示したものであって、構成部品の形状、構造、配置等によって、本発明の技術思想が特定されるものではない。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。
[第1実施形態]
[1.液晶表示装置10の全体構成]
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置10の概略的な平面図である。本実施形態では、アクティブマトリクス型の液晶表示装置10を例に挙げて説明する。液晶表示装置10は、画像が表示されるアクティブエリア(有効表示領域)11と、アクティブエリア11の周囲に設けられた周辺エリア12とを備える。
アクティブエリア11には、複数の画素からなる画素アレイが設けられる。周辺エリア12には、画素アレイを駆動及び制御するための周辺回路が設けられる。周辺エリア12は、後述する遮光膜(ブラックマトリクス)によって遮光され、観察者からは黒の領域として視認される。
図2は、図1に示したアクティブエリア11に含まれる画素アレイの回路図である。図2では、4つの画素を抽出して示している。
アクティブエリア11には、それぞれがロウ方向(X方向)に延びる複数の走査線GLと、それぞれがカラム方向(Y方向)に延びる複数の信号線SLとが配設される。複数の走査線GLと複数の信号線SLとの交差領域の各々には、画素13が配置される。
画素13は、スイッチング素子14、液晶容量Clc、及び蓄積容量Csを備える。スイッチング素子14としては、例えばTFT(Thin Film Transistor)が用いられる。TFT14のソースは、信号線SLに電気的に接続される。TFT14のゲートは、走査線GLに電気的に接続される。TFT14のドレインは、液晶容量Clcに電気的に接続される。液晶容量Clcは、画素電極と、共通電極と、これらに挟まれた液晶層とにより構成される。
蓄積容量Csは、液晶容量Clcに並列接続される。蓄積容量Csは、画素電極に生じる電位変動を抑制するとともに、画素電極に印加された駆動電圧を次の信号に対応する駆動電圧が印加されるまでの間保持する機能を有する。蓄積容量Csは、画素電極と、蓄積電極(蓄積容量線)と、これらに挟まれた絶縁膜とにより構成される。共通電極及び蓄積電極には、共通電圧Vcomが印加される。
周辺エリア12に設けられる周辺回路には、例えば、走査ドライバ(走査線駆動回路)15、信号ドライバ(信号線駆動回路)16、共通電圧供給回路17、電圧発生回路(図示せず)、及び制御回路(図示せず)などが含まれる。
走査ドライバ15は、後述する引き出し線を介して、複数の走査線GLに接続される。走査ドライバ15は、TFT14のオン及びオフを制御するための走査信号を走査線GLに印加する。信号ドライバ16は、後述する引き出し線を介して、複数の信号線SLに接続される。信号ドライバ16は、表示画像に応じた階調信号(駆動電圧)を信号線SLに印加する。共通電圧供給回路17は、共通電圧Vcomを生成してこれを画素アレイに供給する。制御回路は、走査ドライバ15、信号ドライバ16、及び共通電圧供給回路17にそれぞれ制御信号を供給する。電圧発生回路は、液晶表示装置10の動作に必要な各種電圧を生成して各回路部に供給する。
このように構成された液晶表示装置10において、任意の画素13に含まれるTFT14がオン状態となると、駆動電圧が信号線SLを介して画素電極に印加され、駆動電圧と共通電圧Vcomとの電圧差に応じて液晶の配向状態が変化する。これにより、光源から液晶表示装置10に入射する光の透過状態が変化して画像表示が行われる。
[2.液晶表示装置10の具体的な構成]
次に、液晶表示装置10のより具体的な構成について説明する。図3は、液晶表示装置10の平面図である。図4は、図3に示したA−A’線に沿った液晶表示装置10の断面図である。図5は、図3に示したB−B’線に沿った液晶表示装置10の断面図である。図3は、カラーフィルターのストライプ配列の構成例である。
液晶表示装置10は、スイッチング素子としてのTFT、及び画素電極などが形成されるTFT基板21と、カラーフィルター及び共通電極などが形成されかつTFT基板21に対向配置されたカラーフィルター基板(CF基板)22と、TFT基板21及びCF基板22間に挟持された液晶層23とを備える。TFT基板21及びCF基板22の各々は、透明基板(例えば、ガラス基板)から構成される。
液晶層23は、TFT基板21及びCF基板22間を貼り合わせるシール材24によって封入された液晶材料により構成される。なお、TFT基板21及びCF基板22にはそれぞれ、液晶層23に接しかつ液晶層23を挟むようにして、液晶分子の配向を制御するための配向膜(図示せず)が形成される。液晶層23のセルギャップは、液晶層23内に設けられたスペーサー(図示せず)によって制御される。液晶材料は、電界に応じて液晶分子の配向が制御されて光学特性が変化する。液晶表示装置10の表示方式は、特に制限されず、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、IPS(In-Plane Switching)モード、及びOCB(Optically Compensated Bend)モードなど各種の表示方式を適用可能である。
まず、アクティブエリア11における液晶表示装置10の構造について説明する。アクティブエリア11におけるTFT基板21上(液晶層23側)には、走査線(ゲート線)GLと、蓄積容量線Csとが設けられる。走査線GL及び蓄積容量線Cs上には、絶縁膜25が設けられる。絶縁膜25上には、信号線(ソース線)SLが設けられる。信号線SL上には、絶縁膜26が設けられる。絶縁膜26上には、画素電極27が設けられる。
図6は、TFT基板21に設けられた配線の平面図である。走査線GLは、X方向に延在する。走査線GLは、TFT14を構成する半導体層29の下方まで延在する電極部分を備える。走査線GLの電極部分上には、ゲート絶縁膜を介して半導体層29が設けられる。
信号線SLは、Y方向に延在する。電極28の一端は信号線SLに電気的に接続され、その他端はTFT14を構成する半導体層29に一部重なるように配置される。電極30は、電極28とY方向に離間して設けられ、その一端が半導体層29に一部重なるように配置される。TFT14は、走査線GL、半導体層29、及び電極28、30から構成される。なお、TFT14は、図4及び図5の断面図では図示を省略している。電極30の他端には、コンタクトプラグ31が設けられ、コンタクトプラグ31は、画素電極27に電気的に接続される。
蓄積容量線Csは、X方向に延在する第1配線部分と、該第1配線部分からY方向に延在する複数の第2配線部分とから構成される。蓄積容量線Csを構成する第1及び第2配線部分は、画素電極27に重なるように配置される。
図4に戻り、アクティブエリア11におけるCF基板22上(液晶層23側)には、複数の画素13を区画する遮光膜(ブラックマトリクス)BMが設けられる。ブラックマトリクスBMは、複数の画素13の境界部分に設けられ、また、複数の画素13に対応した複数の開口部OPを有する。ブラックマトリクスBMは、画素13間の表示に不要な光を遮光する機能を有する。ブラックマトリクスBMは、例えば格子状(編み目状)に形成される。ブラックマトリクスBMは、例えば、着色材料としての染料又は顔料が含まれた黒色樹脂から構成される。
CF基板22上かつブラックマトリクスBMの開口部OPには、カラーフィルター34が設けられる。すなわち、複数の画素電極27の上方には、カラーフィルター34が設けられる。
カラーフィルター34は、複数の着色部材を備え、具体的には、複数の赤フィルター34−R、複数の緑フィルター34−G、及び複数の青フィルター34−Bを備える。カラーフィルター34は、例えば着色樹脂から構成される。一般的なカラーフィルターは光の三原色である赤(R)、緑(G)、青(B)で構成される。隣接したR、G、Bの三色のセットが表示の単位(ピクセル、又は画素と呼ぶ)となっており、1つの画素中のR、G、Bのいずれか単色の部分はサブピクセル(サブ画素)と呼ばれる最小駆動単位である。TFT14及び画素電極27は、サブピクセルごとに設けられる。以下の説明では、画素とサブ画素との区別が特に必要な場合を除き、サブ画素を画素と呼ぶものとする。図3のカラーフィルターの例では、カラーフィルターはライン状に形成される。すなわち、Y方向に配列された同色の複数の画素には、ライン状の着色部材が設けられる。
カラーフィルター34及びブラックマトリクスBM上には、共通電極35が設けられる。共通電極35は、アクティブエリア11及び周辺エリア12の全面に形成される。
次に、周辺エリア12における液晶表示装置10の構造について説明する。周辺エリア12におけるTFT基板21上(液晶層23側)には、走査線GL用の複数の引き出し線(リード線)32が設けられる。引き出し線32は、複数の走査線GLを走査ドライバ15に電気的に接続するための配線である。周辺エリア12において、絶縁膜25上には、信号線SL用の複数の引き出し線(リード線)33が設けられる。引き出し線33は、複数の信号線SLを信号ドライバ16に電気的に接続するための配線である。
周辺エリア12におけるCF基板22上(液晶層23側)には、ブラックマトリクスBMが全面に設けられる。ブラックマトリクスBM上には、カラーフィルター34が一部又は全面に設けられる。周辺エリア12におけるカラーフィルター34は、アクティブエリア11のカラーフィルターと同じパターンで形成される。
画素電極27及び共通電極35は、透明電極から構成され、例えばITO(インジウム錫酸化物)が用いられる。絶縁膜25、26は、透明な絶縁材料から構成され、例えばシリコン窒化物(SiN)が用いられる。走査線GL、信号線SL、蓄積容量線Cs、及び引き出し線32、33は、低抵抗な導電材料が用いられ、例えば、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、タングステン(W)のいずれか、またはこれらの1種類以上を含む合金等が用いられる。
(静電容量について)
ここで、図3及び図4に示すように、本実施形態では、X方向に並ぶ赤フィルター34−R、緑フィルター34−G、及び青フィルター34−Bは、互いに接触しておらず、画素ごとのカラーフィルターが島状に(図3の例では、ライン状に)孤立するように互いにスペースSPを空けて配置される。
また、平面視において、カラーフィルター34のスペースSPには、信号線SLが配置される。すなわち、信号線SLは、カラーフィルター34を介さずに、ブラックマトリクスBMと向き合っている。換言すると、信号線SLの上方には、カラーフィルター34を介さずに、ブラックマトリクスBMが配置される。
液晶層23の誘電率εLC、信号線SLの面積SSL、信号線SL上の液晶層23の厚さdとすると、信号線SL上の静電容量Cは、以下の式(1)で表される。

=εLC・SSL/d ・・・(1)

本実施形態では、信号線SL上の液晶層23の厚さdを大きくできる。これにより、信号線SL上の静電容量Cを小さくできる。
[3.変形例]
図7は、第1変形例に係る液晶表示装置10の平面図である。図8は、図7に示したB−B’線に沿った液晶表示装置10の断面図である。図7に示したA−A’線に沿った液晶表示装置10の断面図は、図4と同じである。図7は、ストライプ配列の構成例である。
複数の赤フィルター34−R、複数の緑フィルター34−G、及び複数の青フィルター34−Bは、画素ごとに分離され、各フィルターは、島状に形成される。すなわち、Y方向に並んだ複数の赤フィルター34−Rは、互いにスペースSPを空けて配置される。緑フィルター34−G及び青フィルター34−Bについても赤フィルター34−Rと同様である。
また、平面視において、カラーフィルター34のスペースSPには、走査線GLが配置される。すなわち、走査線GLは、カラーフィルター34を介さずに、ブラックマトリクスBMと向き合っている。第1変形例によれば、信号線SLと同様に、走査線GL上の容量をさらに低減できる。
図9は、第2変形例に係る液晶表示装置10の平面図である。図9は、デルタ配列の構成例である。
カラーフィルター34を構成する赤フィルター34−R、緑フィルター34−G、及び青フィルター34−Bは、デルタ状(三角形)に配置される。そして、平面視において、赤フィルター34−R、緑フィルター34−G、及び青フィルター34−Bのスペースには、信号線SL及び走査線GLが配設される。このように、デルタ配列にも本実施形態を適用可能である。
[4.比較例]
次に、比較例について説明する。図10は、比較例に係る液晶表示装置の平面図である。図11は、図10に示したA−A’線に沿った液晶表示装置の断面図である。図10は、ストライプ配列の構成例である。
比較例のカラーフィルター34は、フラット構造を有する。すなわち、X方向に並んだ赤フィルター34−R、緑フィルター34−G、及び青フィルター34−Bは、スペースを空けずに、互いに接するように形成される。カラーフィルター34上に設けられる共通電極35は、段差がない状態で平面状に形成される。
液晶層23の誘電率εLC、信号線SLの面積SSL、信号線SL上の液晶層23の厚さdとすると、信号線SL上の静電容量Cは、以下の式(2)で表される。

=εLC・SSL/d ・・・(2)

本実施形態と比較例とを比べると、“d>d”であるので、“C<C”となる。このため、比較例では、静電容量Cが大きくなるため、液晶表示装置の消費電流が大きくなる。これに対して、本実施形態は、比較例に比べて、信号線SL上の静電容量を小さくできる。同様に、本実施形態は、比較例に比べて、走査線GL上の静電容量を小さくできる。
一例として、TNモードの液晶表示装置を想定し、d=5.5μm、d=4.5μmとすると、“C≒0.82C”となる。すなわち、本実施形態は、比較例に比べて、信号線SL上の静電容量が約2割弱だけ低減でき、それに相当する消費電流が低減できる。静電容量の削減効果は、走査線GL上の静電容量についても同様である。
図12は、他の比較例に係る液晶表示装置の平面図である。図12は、デルタ配列の構成例である。比較例のデルタ配列においても、カラーフィルターは、フラット構造を有している。よって、デルタ配列においても、ストライプ配列と同様に、信号線SL及び走査線GL上の静電容量が大きくなる。
デルタ配列においても、本実施形態は、比較例に比べて、信号線SL上の静電容量及び走査線GL上の静電容量を低減でき、それに相当する消費電流が低減できる。
[5.効果]
以上詳述したように第1実施形態では、信号線SLと交差する方向に並ぶ赤フィルター34−R、緑フィルター34−G、及び青フィルター34−Bは、互いに接触しておらず、互いにスペースSPを空けて配置される。そして、信号線SLの上方には、カラーフィルター34を介さずにブラックマトリクスBMが配置される。また、信号線SLの場合と同様に、走査線GLの上方には、カラーフィルター34を介さずにブラックマトリクスBMが配置される。
従って第1実施形態によれば、信号線SL上の液晶層23の厚さを大きくできる。これにより、信号線SL上の静電容量を小さくできる。この結果、液晶表示装置10の消費電流を低減できる。同様に、走査線GL上の静電容量を小さくできるので、液晶表示装置10の消費電流をより低減できる。
また、信号線SL及び走査線GL上の液晶層の厚さを小さくする一方で、画素電極27上の液晶層23の厚さは変更されない。これにより、画素の特性に影響を与えずに、液晶表示装置10の消費電流を低減できる。
[第2実施形態]
第2実施形態は、周辺エリア12の静電容量を低減することで、液晶表示装置10の消費電流をさらに低減するようにしている。
図13は、本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置10の概略的な平面図である。図14は、液晶表示装置10のより詳細な平面図である。図15は、図14に示したA−A’線に沿った液晶表示装置10の断面図である。図14は、ストライプ配列の構成例である。アクティブエリア11の構成は、第1実施形態と同じである。
カラーフィルター34は、アクティブエリア11にのみ配置され、周辺エリア12には配置されない。具体的には、図15に示すように、周辺エリア12におけるCF基板22上には、ブラックマトリクスBMが設けられる。周辺エリア12におけるブラックマトリクスBM上には、カラーフィルター34が設けられない。なお、周辺エリア12において、カラーフィルター34は、少なくとも引き出し線32、33の上方に形成されなければよい。また、例えば、製造誤差などを考慮して、カラーフィルター34は、アクティブエリア11の境界から周辺エリア12側に多少はみ出すように形成される。
液晶層23の誘電率εLC、引き出し線32の面積SLD、引き出し線32上の液晶層23の厚さdとすると、引き出し線32上の静電容量Cは、以下の式(3)で表される。

=εLC・SLD/d ・・・(3)

また、同様に、引き出し線33上の静電容量は、上記式(3)で表される。
図11の比較例において、引き出し線32上の液晶層23の厚さd、引き出し線32上の静電容量Cとする。一例として、TNモードの液晶表示装置を想定し、d=5.5μm、d=4.0μmとすると、“C≒0.73C”となる。すなわち、本実施形態は、比較例に比べて、引き出し線32上の静電容量が約3割弱だけ低減でき、それに相当する消費電流が低減できる。同様に、本実施形態は、比較例に比べて、引き出し線33上の静電容量を低減できる。
図16は、デルタ配列を有する液晶表示装置10の平面図である。デルタ配列においても、ストライプ配列と同様に、液晶表示装置10の消費電流が低減できる。
(第1変形例)
図17は、第1変形例に係る液晶表示装置10の断面図である。第1変形例では、共通電極35は、アクティブエリア11にのみ配置され、周辺エリア12には配置されない。具体的には、図17に示すように、周辺エリア12におけるCF基板22上には、ブラックマトリクスBMのみが設けられ、周辺エリア12におけるブラックマトリクスBM上には、共通電極35が設けられない。
第1変形例では、引き出し線32、33の上方には、共通電極35が配置されないので、引き出し線32、33上の静電容量を無くすことができる。これにより、引き出し線32、33上の静電容量に起因する消費電流を削減できる。
(第2変形例)
図18は、第2変形例に係る液晶表示装置10の断面図である。液晶表示装置10の平面図は、図14と同じである。
第2変形例では、樹脂に比べて薄く形成かつ加工できる遮光材料を用いてブラックマトリクスBMを構成するようにしている。ブラックマトリクスBMは、例えば遮光性を有する金属が用いられ、具体的には、クロム(Cr)、又は、酸化クロムとクロムとの積層膜などが用いられる。
第2変形例では、第2実施形態に比べて、ブラックマトリクスBMの厚さを小さくできる。よって、第2変形例では、引き出し線32、33上の液晶層23の厚さdは、第2実施形態に比べて大きくできるため、引き出し線32、33上の静電容量をより低減できる。この結果、液晶表示装置10の消費電流をより低減できる。
また、第2変形例では、アクティブエリア11におけるブラックマトリクスBMの厚さも薄くできる。これにより、第2変形例では、第1実施形態に比べて、信号線SL上の液晶層23の厚さdをより大きくできるため、信号線SL上の静電容量をより低減できる。この結果、液晶表示装置10の消費電流をより低減できる。同様に、走査線GL上の静電容量をより低減できる。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で、構成要素を変形して具体化することが可能である。さらに、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、1つの実施形態に開示される複数の構成要素の適宜な組み合わせ、若しくは異なる実施形態に開示される構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を構成することができる。例えば、実施形態に開示される全構成要素から幾つかの構成要素が削除されても、発明が解決しようとする課題が解決でき、発明の効果が得られる場合には、これらの構成要素が削除された実施形態が発明として抽出されうる。
10…液晶表示装置、11…アクティブエリア、12…周辺エリア、13…画素、14…スイッチング素子、15…走査ドライバ、16…信号ドライバ、17…共通電圧供給回路、21…TFT基板、22…カラーフィルター基板、23…液晶層、24…シール材、25,26…絶縁膜、27…画素電極、28,30…電極、29…半導体層、31…コンタクトプラグ、32,33…引き出し線、34…カラーフィルター、35…共通電極。

Claims (6)

  1. 第1及び第2基板と、
    前記第1及び第2基板間に挟持された液晶層と、
    前記第1基板上に設けられ、複数の画素を区画する遮光膜と、
    前記第1基板上かつ前記遮光膜の複数の開口部に設けられたカラーフィルターと、
    前記遮光膜及び前記カラーフィルター上に設けられた共通電極と、
    前記第2基板上に設けられた信号線と、
    前記信号線の上方に絶縁膜を介して設けられ、前記信号線に電気的に接続され、画素に対応するように設けられた画素電極と、
    を具備し、
    前記信号線の上方には、前記カラーフィルターを介さずに前記遮光膜が配置されることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記第2基板上に設けられた走査線をさらに具備し、
    前記走査線の上方には、前記カラーフィルターを介さずに前記遮光膜が配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記複数の画素が配置されるアクティブエリアと、
    前記複数の画素を駆動する周辺回路が配置される周辺エリアと、
    前記周辺エリアの前記第2基板上に設けられ、前記信号線と前記周辺回路とを電気的に接続する第1引き出し線と、
    をさらに具備し、
    前記第1引き出し線の上方には、前記カラーフィルターを介さずに前記遮光膜が配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 前記複数の画素が配置されるアクティブエリアと、
    前記複数の画素を駆動する周辺回路が配置される周辺エリアと、
    前記周辺エリアの前記第2基板上に設けられ、前記走査線と前記周辺回路とを電気的に接続する第2引き出し線と、
    をさらに具備し、
    前記第2引き出し線の上方には、前記カラーフィルターを介さずに前記遮光膜が配置されることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
  5. 前記引き出し線の上方には、前記共通電極が配置されないことを特徴とする請求項3又は4に記載の液晶表示装置。
  6. 前記遮光膜は、樹脂又は金属から構成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の液晶表示装置。
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