JP2015176750A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015176750A5 JP2015176750A5 JP2014052176A JP2014052176A JP2015176750A5 JP 2015176750 A5 JP2015176750 A5 JP 2015176750A5 JP 2014052176 A JP2014052176 A JP 2014052176A JP 2014052176 A JP2014052176 A JP 2014052176A JP 2015176750 A5 JP2015176750 A5 JP 2015176750A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- deviation
- detection unit
- detector
- movement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014052176A JP6117136B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | イオン注入装置、ビームエネルギー測定装置、及びビームエネルギー測定方法 |
| TW104106308A TWI688995B (zh) | 2014-03-14 | 2015-02-26 | 離子植入裝置、射束能量測定裝置以及射束能量測定方法 |
| KR1020150029582A KR102272806B1 (ko) | 2014-03-14 | 2015-03-03 | 이온주입장치, 빔에너지 측정장치, 및 빔에너지 측정방법 |
| CN201510104340.3A CN104916518B (zh) | 2014-03-14 | 2015-03-10 | 离子注入装置、射束能量测定装置以及射束能量测定方法 |
| US14/656,132 US9343263B2 (en) | 2014-03-14 | 2015-03-12 | Ion implanter, beam energy measuring device, and method of measuring beam energy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014052176A JP6117136B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | イオン注入装置、ビームエネルギー測定装置、及びビームエネルギー測定方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015176750A JP2015176750A (ja) | 2015-10-05 |
| JP6117136B2 JP6117136B2 (ja) | 2017-04-19 |
| JP2015176750A5 true JP2015176750A5 (enExample) | 2017-04-27 |
Family
ID=54069616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014052176A Active JP6117136B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | イオン注入装置、ビームエネルギー測定装置、及びビームエネルギー測定方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9343263B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6117136B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102272806B1 (enExample) |
| CN (1) | CN104916518B (enExample) |
| TW (1) | TWI688995B (enExample) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6150632B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2017-06-21 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオンビーム測定装置及びイオンビーム測定方法 |
| JP6588323B2 (ja) * | 2015-12-10 | 2019-10-09 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入方法およびイオン注入装置 |
| EP3306248B1 (en) | 2016-10-05 | 2019-03-06 | Hs R & A Co., Ltd. | Double pipe heat exchanger and method for manufacturing the same |
| JP6662549B2 (ja) * | 2016-11-21 | 2020-03-11 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入方法およびイオン注入装置 |
| JP6675789B2 (ja) | 2017-02-27 | 2020-04-01 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置 |
| JP6785189B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-11-18 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置およびイオン注入方法 |
| US10549117B2 (en) * | 2017-07-21 | 2020-02-04 | Varian Medical Systems, Inc | Geometric aspects of radiation therapy planning and treatment |
| JP6440809B2 (ja) * | 2017-11-28 | 2018-12-19 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | ビーム照射装置 |
| JP6982531B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2021-12-17 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置および測定装置 |
| US10763071B2 (en) | 2018-06-01 | 2020-09-01 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Compact high energy ion implantation system |
| US11164722B2 (en) | 2018-07-31 | 2021-11-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Ion implantation method |
| US10818473B2 (en) | 2018-08-14 | 2020-10-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Implanter calibration |
| CN119890016B (zh) * | 2024-12-23 | 2025-10-10 | 杭州富芯半导体有限公司 | 离子束检测装置及离子束检测方法、离子注入设备 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS553643Y2 (enExample) | 1972-12-12 | 1980-01-28 | ||
| IN139201B (enExample) | 1972-12-14 | 1976-05-22 | Cor Tech Res Ltd | |
| JPH03272557A (ja) | 1990-03-20 | 1991-12-04 | Nissin Electric Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP3358336B2 (ja) * | 1994-10-14 | 2002-12-16 | 日新電機株式会社 | イオン注入装置における注入条件異常検出方法 |
| JP2748869B2 (ja) | 1994-11-22 | 1998-05-13 | 日本電気株式会社 | イオン注入装置 |
| JP3448731B2 (ja) * | 1998-06-19 | 2003-09-22 | 住友イートンノバ株式会社 | イオン注入装置 |
| US6137112A (en) | 1998-09-10 | 2000-10-24 | Eaton Corporation | Time of flight energy measurement apparatus for an ion beam implanter |
| WO2002058103A2 (en) * | 2001-01-17 | 2002-07-25 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | In situ ion beam incidence angle and beam divergence monitor |
| CN1441465A (zh) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | 瓦里安半导体设备联合公司 | 在离子注入器中调节离子束平行的方法和设备 |
| TWI253096B (en) * | 2004-08-12 | 2006-04-11 | Nanya Technology Corp | Ion implantation monitor system and method thereof |
| JP5100963B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2012-12-19 | 株式会社Sen | ビーム照射装置 |
| JP2006196351A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Seiko Epson Corp | イオン注入装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP4997756B2 (ja) * | 2005-12-20 | 2012-08-08 | 日新イオン機器株式会社 | イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法 |
| KR100785725B1 (ko) * | 2006-05-23 | 2007-12-18 | 닛신 이온기기 가부시기가이샤 | 이온 빔 계측 방법 및 이온 주입 장치 |
| WO2007145849A2 (en) * | 2006-06-12 | 2007-12-21 | Axcelis Technologies, Inc. | Beam angle adjustment in ion implanters |
| WO2009122555A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法、イオンビームの調整方法及びイオン注入装置 |
| CN102194635A (zh) * | 2010-03-18 | 2011-09-21 | 上海凯世通半导体有限公司 | 离子注入系统及方法 |
| JP5808706B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-11-10 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置及びその制御方法 |
| JP2014041707A (ja) * | 2012-08-21 | 2014-03-06 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP6150632B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2017-06-21 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオンビーム測定装置及びイオンビーム測定方法 |
-
2014
- 2014-03-14 JP JP2014052176A patent/JP6117136B2/ja active Active
-
2015
- 2015-02-26 TW TW104106308A patent/TWI688995B/zh active
- 2015-03-03 KR KR1020150029582A patent/KR102272806B1/ko active Active
- 2015-03-10 CN CN201510104340.3A patent/CN104916518B/zh active Active
- 2015-03-12 US US14/656,132 patent/US9343263B2/en active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015176750A5 (enExample) | ||
| JP2018505427A5 (enExample) | ||
| Leonov et al. | Lyapunov dimension formula for the global attractor of the Lorenz system | |
| MX2018006649A (es) | Sistema para tensar y cargar un material laminado. | |
| GB2504890A (en) | Enhanced position detector in laser tracker | |
| WO2014072462A3 (en) | Gait training apparatus | |
| EP3454744A4 (en) | SYSTEMS AND DEVICES FOR TRACKING, ASSESSING AND MONITORING MOVEMENTS AND METHODS FOR USE THEREOF | |
| EP3475051A4 (en) | POSITION DETECTION METHOD FOR GENERATIVE MANUFACTURING AND RELATED SYSTEMS AND METHODS | |
| MX370048B (es) | Dispositivo de asistencia de estacionamiento y metodo de asistencia de estacionamiento. | |
| WO2013174680A3 (en) | Adjustment device and mask inspection device with such an adjustment device | |
| MX2015008589A (es) | Produccion de un objeto voluminoso mediante litografia, con resolucion espacial mejorada. | |
| WO2015196308A8 (de) | Verfahren und vorrichtung zum bestimmen einer lage eines flüssigkeitsstrahls durch eine änderung einer konstellation | |
| MX383905B (es) | Dispositivo de medición de tensión residual y método de medición de tensión residual. | |
| BR112018006000A2 (pt) | método de controle de viagem e aparelho de controle de viagem. | |
| NZ730031A (en) | Distance measurement device for motion picture camera focus applications | |
| JP2017053803A5 (enExample) | ||
| JP2017111683A5 (enExample) | ||
| EP3426344A4 (en) | SYSTEMS AND METHOD FOR PLANNING AND CONTROLLING THE ROTATION OF A MULTI-SHEET COLLIMATOR FOR ROTATION THERAPY | |
| WO2015051103A3 (en) | Continuous circle gesture detection for a sensor system | |
| RU2017116529A (ru) | Поворот детектора, управляемый коллимацией рентгеновского излучения | |
| JP2015017811A5 (enExample) | ||
| JP2015052736A5 (ja) | 光学機器および光学機器の制御方法 | |
| WO2014170747A3 (en) | Moving body control device, moving body control method, and control program | |
| JP2018532119A5 (enExample) | ||
| JP2012154742A5 (ja) | トールボット干渉計及び撮像方法 |