JP2015175924A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】発光素子が間隙を置いて配列された表示装置において発光素子間の間隙領域に配置するブラックマトリクスでの外光反射を低減する。【解決手段】ＯＬＥＤ６は画素ごとに設けられ、相互間に間隙を有して表示領域に配列される。ブラックマトリクス４４は画素の境界に沿って配置され、表示領域にてＯＬＥＤ６に対応する領域内に第１開口部４６を形成する。ブラックマトリクス４４はさらに、表示領域にてＯＬＥＤ６間の間隙に対応する領域内に第２開口部４８を形成されている。【選択図】図３

Description

本発明は表示装置に関し、特に外光反射を低減してコントラスト比の向上を図る技術に関する。

有機ＥＬ表示装置等の表示装置の表示面での外光反射は画像のコントラスト比を低下させる。この問題への対策として、表示面にブラックマトリクスが配設される。また表示面に円偏光板を配置する構造も当該問題への対策となり得る。

特開２００３−２３４１８６号公報

ブラックマトリクスは画素間の境界での外光反射を低減するものの、ブラックマトリクスでの反射を完全に抑制することは難しいという問題があった。一方、円偏向板を設けると表示パネルの厚みが増すと共にコストが増加するという問題を生じる。

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、表示面のうち画素間の境界部分からの外光反射が低減された表示装置を提供する。

（１）本発明に係る表示装置は、画素ごとに設けられ、相互間に間隙を有して表示領域に配列された発光素子と、前記画素の境界に沿って配置され、前記表示領域にて前記発光素子に対応する領域内に第１開口部を形成する遮光部材と、を有し、前記遮光部材はさらに、前記表示領域にて前記発光素子間の間隙に対応する領域内に第２開口部を形成されている。

（２）上記（１）に記載する表示装置において、前記画素の表示色に対応したカラーフィルタを有し、前記第２開口部は隣接する前記画素の前記カラーフィルタを配置されてもよい。

（３）上記（１）に記載する表示装置において、前記第２開口部の幅は前記間隙の幅より小さくすることができる。

（４）上記（１）に記載する表示装置において、表示色が互いに異なる複数種類の前記画素が前記表示領域にストライプ配列され、前記第２開口部は、前記画素の境界のうち前記表示色が同じである前記画素に挟まれた部分に選択的に形成された構成とすることができる。

（５）上記（１）に記載する表示装置において、表示面側から前記第２開口部に入射した光を吸収する光吸収部材を設けてもよい。

本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の概略の構成を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素アレイ部の模式的な部分平面図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素アレイ部の模式的な垂直断面図である。 本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素アレイ部の模式的な垂直断面図である。 本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素アレイ部の模式的な垂直断面図である。 本発明の第４の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素アレイ部の模式的な垂直断面図である。 本発明の各実施形態に係る変形例における画素アレイ部の模式的な部分平面図である。

以下、本発明の実施の形態（以下実施形態という）について、図面に基づいて説明する。

なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

［第１の実施形態］
有機ＥＬ表示装置はアクティブマトリックス型表示装置であり、テレビ、パソコン、携帯端末、携帯電話等に表示パネルとして搭載される。図１は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２の概略の構成を示す模式図である。有機ＥＬ表示装置２は、画像を表示する画素アレイ部４と、当該画素アレイ部を駆動する駆動部とを備える。有機ＥＬ表示装置２ではＴＦＴを形成する基材としてガラス基板ではなく樹脂フィルムを用いる。

画素アレイ部４には画素に対応してＯＬＥＤ６及び画素回路８がマトリクス状に配置される。画素回路８は複数のＴＦＴ１０，１２やキャパシタ１４で構成される。

一方、駆動部は走査線駆動回路２０、映像線駆動回路２２、駆動電源回路２４及び制御装置２６を含み、画素回路８を駆動しＯＬＥＤ６の発光を制御する。

走査線駆動回路２０は画素の水平方向の並び（画素行）ごとに設けられた走査信号線２８に接続されている。走査線駆動回路２０は制御装置２６から入力されるタイミング信号に応じて走査信号線２８を順番に選択し、選択した走査信号線２８に、点灯ＴＦＴ１０をオンする電圧を印加する。

映像線駆動回路２２は画素の垂直方向の並び（画素列）ごとに設けられた映像信号線３０に接続されている。映像線駆動回路２２は制御装置２６から映像信号を入力され、走査線駆動回路２０による走査信号線２８の選択に合わせて、選択された画素行の映像信号に応じた電圧を各映像信号線３０に出力する。当該電圧は、選択された画素行にて点灯ＴＦＴ１０を介してキャパシタ１４に書き込まれる。駆動ＴＦＴ１２は書き込まれた電圧に応じた電流をＯＬＥＤ６に供給し、これにより、選択された走査信号線２８に対応する画素のＯＬＥＤ６が発光する。

駆動電源回路２４は画素列ごとに設けられた駆動電源線３２に接続され、駆動電源線３２及び選択された画素行の駆動ＴＦＴ１２を介してＯＬＥＤ６に電流を供給する。

ここで、ＯＬＥＤ６の陽極（アノード）は画素ごとに分離して形成され、それぞれ駆動ＴＦＴ１２に接続される。一方、各ＯＬＥＤ６の陰極（カソード）は基本的に接地電位に接続され、全画素のＯＬＥＤ６の陰極は共通の電極で構成される。

図２は画素アレイ部４の模式的な部分平面図である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置２はカラー画像を表示する。カラー画像における画素は例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、白色（Ｗ）に対応する光を出射する画素（サブピクセル）で構成される。各サブピクセルに対応してＯＬＥＤ６が設けられる。図２においてＯＬＥＤ６の位置はＯＬＥＤ６の陽極である画素電極４２で表されている。本実施形態では各画素はベイヤー配列されたＲＧＢＷの４つのサブピクセルからなる。具体的には、水平方向、垂直方向にそれぞれ２つ並んだ４つのサブピクセル４０がカラー画像における１画素に対応する。２行２列に並ぶ４つのサブピクセルからなる１画素に対応する矩形領域の１つの対角線上にＲサブピクセル４０ｒとＢサブピクセル４０ｂとが配置され、もう１つの対角線上にＧサブピクセル４０ｇとＷサブピクセル４０ｗとが配置される。以下の説明では、記載を簡潔にするためにＲＧＢＷサブピクセルをＲＧＢＷ画素と表す。

ＲＧＢＷ画素の境界に沿って遮光部材からなるブラックマトリクス４４が配置される。ブラックマトリクス４４はＲＧＢＷ画素に対応する領域に第１開口部４６を有する。ブラックマトリクス４４はさらに、画素電極４２間の間隙に対応する領域内に第２開口部４８を形成されている。このブラックマトリクス４４の構成についてはさらに後述する。

図３は図２に示すIII−III線に沿った位置での画素アレイ部４の模式的な垂直断面図である。有機ＥＬ表示装置２はＯＬＥＤ基板６０と対向基板６２とを、間に充填材６４を挟んで貼り合わせた構造を有する。本実施形態において画素アレイ部はトップエミッション型であり、ＯＬＥＤ基板６０上に発光素子であるＯＬＥＤ６が形成され、ＯＬＥＤ６で生じた光を対向基板６２から出射する。すなわち、図３においてＯＬＥＤの光は上向きに出射する。また、図３に示す有機ＥＬ表示装置２におけるカラー化方式はカラーフィルタ方式であり、ＯＬＥＤにて白色光を生成し、ＲＧＢ画素では当該白色光をカラーフィルタを通すことでＲＧＢ各色を得る。一方、Ｗ画素ではカラーフィルタを設けないことでＷ色を得る。

ＯＬＥＤ基板６０は例えば、ガラスや樹脂フィルムからなる下基板７０に回路部７２、絶縁膜７４、ＯＬＥＤ部７６、封止層７８などが積層された構造を有する。

回路部７２は上述した画素回路８、走査信号線２８、映像信号線３０、駆動電源線３２などからなり、下基板７０の表面に形成される。また、駆動回路２０，２２、駆動電源回路２４、制御装置２６の少なくとも一部分は回路部７２としてＯＬＥＤ基板６０上に画素アレイ部と一体に構成することができる。

絶縁膜７４は回路部７２を覆って下基板７０表面に積層され、画素ごとに設けられる画素回路８の相互間や、画素電極４２と回路部７２との間などを電気的に絶縁する。絶縁膜７４は例えば酸化シリコン（ＳｉＯ_２）や窒化シリコン（ＳｉＮ）等で形成される。

ＯＬＥＤ部７６は下部電極（画素電極４２）、有機材料積層部９０、上部電極９２及びバンク９４を含んで構成される。

画素電極４２及び上部電極９２とこれらの間に挟持される有機材料積層部９０とはＯＬＥＤ６を構成する。上部電極９２は基本的に表示領域の全画素の有機材料積層部９０に共通に接触する共通電極である。一方、画素電極４２は画素ごとに分離して形成され、コンタクトホール９６を介して回路部７２と電気的に接続される。本実施形態では上部電極９２がＯＬＥＤ６の陰極をなし、画素電極４２が陽極をなす。上部電極９２及び画素電極４２は例えば、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）やＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材を用いて形成される。有機材料積層部９０は後述する発光層を備え、発光層は両電極に印加される電圧に応じて正孔及び電子を注入され、それらの再結合により発光する。

バンク９４はＲＧＢＷ各画素の境界に絶縁層で形成され、画素電極４２間を電気的に分離する。

封止層７８はＯＬＥＤ部７６の上に積層される。ＯＬＥＤの特性が水分によって劣化することに対応して、封止層７８は充填材６４に含まれる水分からＯＬＥＤを保護する防湿機能を有する。例えば、封止層７８はＳｉＮからなる。

対向基板６２は、例えばガラスなどの透明材料からなる上基板１００上にブラックマトリクス４４、カラーフィルタ１０２、オーバーコート層１０４を含む積層構造を形成される。

ブラックマトリクス４４は既に述べたようにＲＧＢＷ画素の境界領域に配置される。ブラックマトリクス４４は上基板１００の表面に積層された例えば、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）等の金属からなる遮光膜をパターニングして形成される。またブラックマトリクス４４は、チタンブラックやカーボンブラックなどの黒色顔料を含む感光性樹脂などからなる光吸収膜を用いて形成することもできる。

カラーフィルタ１０２は図３に示す構成では、ブラックマトリクス４４を形成された上基板１００の表面に積層される。カラーフィルタ１０２は光透過性の樹脂材料等で形成され、顔料等により複数の色に着色される。例えば、カラーフィルタ１０２は色レジストで形成される。本実施形態ではＲ画素４０ｒ、Ｇ画素４０ｇ、Ｂ画素４０ｂに対応してカラーフィルタ１０２として赤色（Ｒ）フィルタ１０２ｒ、緑色（Ｇ）フィルタ１０２ｇ及び青色（Ｂ）フィルタ１０２ｂが設けられる。なお、図３に示す断面はＲ画素４０ｒ及びＧ画素４０ｇを通る断面であるので、Ｒフィルタ１０２ｒとＧフィルタ１０２ｇのみが示されている。

オーバーコート層１０４は、上述したブラックマトリクス４４及びカラーフィルタ１０２が積層された上基板１００の表面を覆う。オーバーコート層１０４は例えばアクリル樹脂等の透明な樹脂材料で作られる。

ＯＬＥＤ基板６０と対向基板６２とは間隙を設けて対向配置され、表示領域を囲んで当該間隙にはダム材（シール材）（不図示）が配され、表示領域の間隙を密閉する。充填材６４（フィル材）はダム材の内側の間隙に充填される。ダム材及び充填材６４は硬化して両基板を接着する。

図２及び図３を参照してブラックマトリクス４４の構成についてさらに説明する。ブラックマトリクス４４はＲＧＢＷ画素の境界に沿って配置される。ブラックマトリクス４４に設けられた第１開口部４６はＯＬＥＤ６からの表示光を透過するためのものであり、画素アレイ部４（表示領域）にて発光素子に対応する領域内に形成される。具体的には、発光素子に対応する領域はＯＬＥＤ６の画素電極４２が配置された領域に当たり、第１開口部４６の縁は平面図上、画素電極４２の縁と同じ位置、又は画素電極４２の配置領域内の位置に設定される。

ブラックマトリクス４４にはさらに第２開口部４８が設けられる。第２開口部４８は画素アレイ部４にて発光素子間の間隙に対応する領域内に形成される。具体的には、第２開口部４８は画素電極４２間の領域内に位置し、画素電極４２に対向する部分が生じないように形成される。つまり、第２開口部４８の幅Ｗ_Ａは画素電極４２間の間隙の幅Ｓと同じか、それより小さく設定される。

表示面に入射する外光のうち第２開口部４８への入射光は対向基板６２を通過してＯＬＥＤ基板６０側へ進む。第２開口部４８は画素電極４２とは重なりを有さない、つまり第２開口部４８の下には画素電極４２が存在しないので、第２開口部４８から表示パネル内に進入した外光は画素電極４２で反射されず、画素電極４２よりも下層に到達し乱反射を繰り返して吸収される。すなわち、第２開口部４８に入射した外光は再び外部へ出射しない。よって、第２開口部４８を備えたブラックマトリクス４４は第２開口部４８を備えない従来のブラックマトリクスに比べて外光反射を抑制できる。

第２開口部４８は水平方向に並ぶ２つの画素間に垂直に伸びる間隙領域（領域１１０ｖ）、垂直方向に並ぶ２つの画素間に水平に伸びる間隙領域（領域１１０ｈ）、及びそれら領域１１０ｖ，１１０ｈが交差する部分（領域１１０ｃ）のいずれにも設けることができる。第２開口部４８の長さ（画素の境界に沿った方向に対する寸法）は基本的に任意であり、また第２開口部４８の形状は矩形以外であってもよい。例えば、２つの画素間に複数の第２開口部４８を設けることもできるし、或る画素対の間隙領域と他の画素対の間隙領域とに跨がって連続する第２開口部４８を設けることもできる。

図３に示すように本実施形態では、第２開口部４８の幅Ｗ_Ａは画素電極４２間の間隙の幅Ｓより小さく設定している。これにより、ＯＬＥＤ基板６０と対向基板６２とを貼り合わせる際にアライメントずれが生じても第２開口部４８と画素電極４２とがオーバーラップしにくくなる。例えば、領域１１０ｃ以外の間隙領域（領域１１０ｖ，１１０ｈ）に設ける第２開口部４８については、第２開口部４８の中心を間隙の幅の中心に一致させるように設計した場合、アライメントの許容誤差の絶対値をεとすると、Ｗ_Ａは（Ｓ−２ε）以下とすればよい。なお、領域１１０ｃに設ける第２開口部４８ｃが画素電極４２とオーバーラップしにくくするには、第２開口部４８ｃとその周囲の画素電極４２との最短距離がε以上となるような寸法・形状とすればよい。

上述のように画素電極４２が存在しない位置に第２開口部４８を設けることで、第２開口部４８に入射した外光が画素電極４２で反射することを避けることができる。ここで、画素間の間隙領域に金属配線など、画素電極４２以外の高反射率の部材が存在すると、第２開口部４８から入射した外光が当該部材で反射して再び外部へ出射し得る。そこで、第２開口部４８は、画素間の間隙領域のうち金属配線等が配置される部分を避けて設けることが好適である。また、画素間の間隙領域には金属配線等を可能な限り配置せず、第２開口部４８の面積を大きくすることが好ましい。例えば、回路部７２に設けられる画素回路８などを画素電極４２の背後に隠れるように配置し、画素間の間隙領域に現れる反射体の面積を少なくする。

カラーフィルタ１０２は第２開口部４８にも形成することができる。例えば、Ｒフィルタ１０２ｒ、Ｇフィルタ１０２ｇ及びＢフィルタ１０２ｂを第１開口部４６内だけでなく、第２開口部４８まで覆うように形成する。第２開口部４８にカラーフィルタ１０２を設けることで、第２開口部４８に入射する外光や、表示パネル内から第２開口部４８を通過して外部へ出射する光についてカラーフィルタ１０２の通過帯域以外の成分を吸収し弱めることができる。仮に第２開口部４８からの入射外光の一部が表示パネル内にて反射され第２開口部４８に戻る現象が起こるとしても、第２開口部４８への入射時と第２開口部４８からの出射時におけるカラーフィルタ１０２による減衰が当該現象により第２開口部４８から出射する光の強度を弱める。また、第２開口部４８に設けたカラーフィルタ１０２は、ＯＬＥＤ６から隣接画素方向へ斜めに出射した白色光が第２開口部４８から直接出射することを防止する。

本実施形態では図３に示すように隣接する画素の互いに色が異なる２つのカラーフィルタ１０２が第２開口部４８内で接続されている。なお、図２では第２開口部４８内のカラーフィルタ１０２は図示を省略している。当該２つのカラーフィルタ１０２の接続境界線は例えば、第２開口部４８の幅方向の中心を通り画素境界に沿って伸びる。また、隣接する画素の互いに異なる色のカラーフィルタ１０２は第２開口部４８にてオーバーラップしてもよい。

本実施形態ではブラックマトリクス４４の第１開口部４６の縁は平面図上、画素電極４２の配置領域内の位置に設定する。つまり、第２開口部４８を含んだブラックマトリクス４４の全幅Ｗ_Ｂは画素電極４２間の間隙の幅Ｓより大きく設定され、ブラックマトリクス４４は画素電極４２の端部とオーバーラップしている。この構成では、ＯＬＥＤ６から隣接画素方向への斜めの出射光は第１開口部４６側に張り出したブラックマトリクス４４に到達して遮光されるので画素の色分離性が向上する。

従来は、第２開口部４８に相当する箇所にもブラックマトリクス４４を構成する遮光膜が存在していたため上基板１００とブラックマトリクス４４との界面で外光が反射して再び外部に出射していたのに対し、上述した有機ＥＬ表示装置２では、第２開口部４８の占有面積の分だけ反射光を低減できる。つまり、表示面に入射した外光による不要な反射光がＯＬＥＤ６からの表示光に重畳することを抑制できるので、コントラスト比の低下や階調潰れといった表示特性への影響を低減する効果が得られる。

なお、上述の実施形態では対向基板６２にオーバーコート層１０４を設けたが、オーバーコート層１０４が存在しなくても本発明の当該効果は変わらない。また、上述の実施形態ではＯＬＥＤ基板６０に封止層７８を設けたが、封止層７８が存在しなくても本発明の当該効果は変わらない。また、上述の有機ＥＬ表示装置２はＯＬＥＤ基板６０と対向基板６２とを充填材６４で貼り合わせる構造としたが、有機ＥＬ表示装置２が充填材６４が存在しない中空貼り合わせの構造であっても本発明の効果は変わらない。

［第２の実施形態］
第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ａは上述した第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２と概ね共通の構造であり、有機ＥＬ表示装置２ａの概略の構造についての図１、及び画素アレイ部４の模式的な部分平面図を示す図２を援用することができる。以下、第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ａについて、その構成要素のうち第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２と同様の構成要素に関しては同一の符号を付して基本的に説明を省略し、有機ＥＬ表示装置２との相違点を主に説明する。

図４は図２に示すIII−III線に沿った位置での有機ＥＬ表示装置２ａの画素アレイ部４の模式的な垂直断面図である。有機ＥＬ表示装置２ａは画素アレイ部４の背面、つまり表示面とは反対側の面に光吸収体１２０を有する。光吸収体１２０は下基板７０に密着して配置される。例えば、光吸収体１２０はチタンブラックやカーボンブラックなどの黒色顔料を含む樹脂からなる光吸収性の遮光層や、黒色プラスチックフィルムからなる。有機ＥＬ表示装置２ａのブラックマトリクス４４は第１の実施形態と同様、第２開口部４８を有することで外光反射を低減できる。さらに本実施形態では、第２開口部４８から表示パネル内部に進入した外光が光吸収体１２０によって吸収されるので、入射した外光が反射して再び外部に出射することがさらに好適に抑制される。

なお、下基板７０の背面に光吸収体１２０を別途配置する上述の構成に代えて、下基板７０自体を光吸収性の材料で形成してもよい。例えば、下基板７０を構成する光吸収性材料として、チタンブラックやカーボンブラックなどの黒色顔料を分散含有させたガラス基板を用いることができる。この構成でも下基板７０の背面に光吸収体１２０を配置する上述の構成と同様の外光反射の抑制効果が得られる。さらに下基板７０自体を光吸収体とする当該構成は、下基板７０とは別に光吸収体１２０を設ける構成に比べて表示パネルの厚みを薄くしやすい。

［第３の実施形態］
次に第３の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｂについて説明する。以下、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｂについて、その構成要素のうち第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２と同様の構成要素に関しては同一の符号を付して基本的に説明を省略し、有機ＥＬ表示装置２との相違点を主に説明する。

第３の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｂの概略の構造を示す模式図、及び画素アレイ部４の模式的な部分平面図として図１及び図２を援用することができる。

図５は図２に示すIII−III線に沿った位置での有機ＥＬ表示装置２ｂの画素アレイ部４の模式的な垂直断面図である。

第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２は、ＯＬＥＤ基板６０に、ブラックマトリクス４４及びカラーフィルタ１０２を形成した対向基板６２を充填材６４で接合する構造であった。これに対し、第３の実施形態の有機ＥＬ表示装置２ｂではＯＬＥＤ基板６０にカラーフィルタ１０２及びブラックマトリクス４４を形成する。具体的には、ＯＬＥＤ基板６０に設けた封止層７８の表面にカラーフィルタ１０２が形成され、ブラックマトリクス４４はカラーフィルタ１０２の表面に形成される。有機ＥＬ表示装置２ｂの表示面側には、カラーフィルタ１０２及びブラックマトリクス４４を覆う保護層１３０が形成される。保護層１３０は透明材料からなり、例えば、透明樹脂をコーティングして形成することができる。

有機ＥＬ表示装置２ｂのブラックマトリクス４４は第１の実施形態と同様、第２開口部４８を有することで外光反射を低減できる。本実施形態の構成では、上基板１００や充填材６４が省略されるので、第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２よりも表示パネルの厚みを薄くすることができる。

なお、図５に示すように、カラーフィルタ１０２は第１の実施形態と同様、第１開口部４６だけでなく第２開口部４８にも形成することができ、これにより第１の実施形態で述べた効果が得られる。

［第４の実施形態］
次に第４の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｃについて説明する。以下、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｃについて、その構成要素のうち上記各実施形態の有機ＥＬ表示装置２と同様の構成要素に関しては同一の符号を付して基本的に説明を省略し、各実施形態の有機ＥＬ表示装置との相違点を主に説明する。

第４の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２ｃの概略の構造を示す模式図、及び画素アレイ部４の模式的な部分平面図として図１及び図２を援用することができる。

図６は図２に示すIII−III線に沿った位置での有機ＥＬ表示装置２ｃの画素アレイ部４の模式的な垂直断面図である。

第４の実施形態の有機ＥＬ表示装置２ｃは第３の実施形態の有機ＥＬ表示装置２ｂと同様、ＯＬＥＤ基板６０にカラーフィルタ１０２及びブラックマトリクス４４を形成する。具体的には、ブラックマトリクス４４はＯＬＥＤ基板６０に設けた封止層７８の表面に形成され、次いで、ブラックマトリクス４４及び封止層７８を覆ってカラーフィルタ１０２が形成される。すなわち、第４の実施形態では、ブラックマトリクス４４及びカラーフィルタ１０２が第３の実施形態とは逆の順序で形成される。

有機ＥＬ表示装置２ｃによっても上記各実施形態と同様、ブラックマトリクス４４の第２開口部４８を設けることによる外光反射の低減が図れる。さらに、有機ＥＬ表示装置２ｃではブラックマトリクス４４がカラーフィルタ１０２で覆われているので、入射した外光はブラックマトリクス４４に到達する前、及びブラックマトリクス４４で反射した後、カラーフィルタ１０２を透過してその一部が吸収される。これにより、ブラックマトリクス４４に入射した外光による不要な反射光の強度が弱まる。

保護層１３０はカラーフィルタ１０２の表面に積層される。ここで、ブラックマトリクス４４がカラーフィルタ１０２で覆われていることにより、封止層７８の表面とブラックマトリクス４４の表面との間の段差がカラーフィルタ１０２の表面では平坦化されるので、保護層１３０を形成しやすくなる。

本実施形態でも第３の実施形態と同様、上基板１００や充填材６４が省略されることによる表示パネルの厚み低減が図られる。

なお、図６に示すように、カラーフィルタ１０２は第１の実施形態と同様、第１開口部４６だけでなく第２開口部４８にも形成することができ、これにより第１の実施形態で述べた効果が得られる。

［第１の変形例］
画素アレイ部４における異なる色の画素（サブピクセル）の配列は、図２に示すベイヤー配列以外であってもよい。例えば、上記各実施形態において、画素配列はストライプ配列とすることができる。当該配列では、列方向に同じ色の画素が並び、行方向に色が異なる複数種類の画素が周期的に配列される。図７はストライプ配列の場合における本発明の実施形態である画素アレイ部４の一例の模式的な平面図である。図７に示す例では表示画像の１画素がＲＧＢサブピクセルからなる。

一般にストライプ配列では、水平方向に隣接して配置される互いに異なる色のサブピクセル間における画素電極４２の間隙は微細であり、当該間隙（領域１１０ｖ）に第２開口部４８を設けることは加工技術の観点で難しい場合がある。一方、垂直方向に隣接して配置される同じ色のサブピクセル間における画素電極４２の間隙（領域１１０ｈ）の幅を大きくすることは領域１１０ｖに比べれば容易である。

そこで、ストライプ配列の場合には、ブラックマトリクス４４の第２開口部４８を、垂直方向に並ぶ２つの画素間に水平に伸びる間隙領域（領域１１０ｈ）にのみ設け、これにより外光反射の低減を図ってもよい。

なお、上記各実施形態と同様、カラーフィルタ１０２は第２開口部４８内にも配置することができるが、図７では図示を省略している。

［第２の変形例］
上記各実施形態では画素アレイ部４は白色発光のＯＬＥＤ６とカラーフィルタ１０２との組み合わせでカラー画像を生成するカラーフィルタ方式の構成を示した。しかし、画素アレイ部４のカラー化方式は他の方式であってもよい。例えば、各サブピクセルに対応する色で発光するＯＬＥＤ６を配列した構成であってもよいし、各サブピクセルに対応する色で発光するＯＬＥＤ６の上に各ＯＬＥＤ６と同じ色のカラーフィルタ１０２を配置した構成であってもよい。

上記各実施形態においては、開示例として有機ＥＬ表示装置の場合を例示したが本発明は例えば、画素（又はサブピクセル）ごとに発光素子を設けるその他の自発光型表示装置に適用することもできる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用が可能であることは言うまでもない。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

また、本実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものついては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

２ 有機ＥＬ表示装置、４ 画素アレイ部、６ ＯＬＥＤ、８ 画素回路、１０ 点灯ＴＦＴ、１２ 駆動ＴＦＴ、１４ キャパシタ、２０ 走査線駆動回路、２２ 映像線駆動回路、２４ 駆動電源回路、２６ 制御装置、２８ 走査信号線、３０ 映像信号線、３２ 駆動電源線、４０ サブピクセル、４０ｒ Ｒサブピクセル（Ｒ画素）、４０ｇ Ｇサブピクセル（Ｇ画素）、４０ｂ Ｂサブピクセル（Ｂ画素）、４０ｗ Ｗサブピクセル（Ｗ画素）、４２ 画素電極、４４ ブラックマトリクス、４６ 第１開口部、４８ 第２開口部、６０ ＯＬＥＤ基板、６２ 対向基板、６４ 充填材、７０ 下基板、７２ 回路部、７４ 絶縁膜、７６ ＯＬＥＤ部、７８ 封止層、９０ 有機材料積層部、９２ 上部電極、９４ バンク、９６ コンタクトホール、１００ 上基板、１０２ カラーフィルタ、１０４ オーバーコート層、１２０ 光吸収体、１３０ 保護層。

Claims (5)

1. 画素ごとに設けられ、相互間に間隙を有して表示領域に配列された発光素子と、
   前記画素の境界に沿って配置され、前記表示領域にて前記発光素子に対応する領域内に第１開口部を形成する遮光部材と、を有し、
   前記遮光部材はさらに、前記表示領域にて前記発光素子間の間隙に対応する領域内に第２開口部を形成されていること、
   を特徴とする表示装置。
2. 請求項１に記載の表示装置において、
   前記画素の表示色に対応したカラーフィルタを有し、
   前記第２開口部は隣接する前記画素の前記カラーフィルタを配置されること、
   を特徴とする表示装置。
3. 請求項１に記載の表示装置において、
   前記第２開口部の幅は前記間隙の幅より小さいこと、を特徴とする表示装置。
4. 請求項１に記載の表示装置において、
   表示色が互いに異なる複数種類の前記画素が前記表示領域にストライプ配列され、
   前記第２開口部は、前記画素の境界のうち前記表示色が同じである前記画素に挟まれた部分に選択的に形成されること、
   を特徴とする表示装置。
5. 請求項１に記載の表示装置において、
   表示面側から前記第２開口部に入射した光を吸収する光吸収部材を有すること、を特徴とする表示装置。

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