JP2015175012A - 3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法 - Google Patents

3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法 Download PDF

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Abstract

【課題】不活性ガスを用いることなく粉末材料の帯電除去ができ、粉末材料が飛散することを防ぐことができる3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法を提供する。
【解決手段】3次元積層造形装置1は、ステージ4と、第1の電子銃8と、第2の電子銃9と、を備えている。第1の電子銃8は、所定の粉末材料M1を溶融する。第2の電子銃9は、ステージ上に敷き詰められた粉末材料で形成される試料面に対して電子ビームを傾斜させて照射し、粉末材料の帯電を除去する。
【選択図】図1

Description

本発明は、ステージ上に粉末材料を薄く敷いた層を一層ずつ重ねて造形する3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法に関する。
近年、粉末材料を薄く敷いた層を一層ずつ重ねて造形する3次元積層造形技術が脚光を浴びており、粉末材料の材料や造形手法の違いにより多くの種類の3次元積層造形技術が開発されている(例えば特許文献1を参照)。
図4は、従来技術に係る3次元積層造形装置100の概略断面図である。
3次元積層造形装置100は、粉体供給部107を用いて金属粉末M1を粉末台であるステージ104の上面に一層毎に敷き詰める。次に、ステージ104上に敷き詰められた金属粉末M1に対し、造形物P1の一断面に相当する二次元構造部だけを電子ビームで溶融する。そして、そのような金属粉末M1の層を一層ずつ高さ方向(Z方向)に積み重ねることにより造形物を形成する。
3次元積層造形装置100は、図4に示すように、真空容器102の上部に電子銃108が装着されており、真空容器102の内部には筒状の造形枠台103が設けられている。また、電子銃108には、電子銃108を制御する電子ビーム制御部111が接続されている。造形枠台103の中央部に形成されたピット103aの下方にはステージ104を移動可能に支持する駆動機構105が設けられている。駆動機構105は、ステージ104の軸部104dに接続し、ステージ104を鉛直方向に駆動する。真空容器102内は、真空に維持されている。
そして、駆動機構105により、ステージ104が、造形枠台103の上面より鉛直方向にΔZ分下がった位置に配置される。そして、粉体供給部107により厚さΔZ分の金属粉末M1がステージ104に敷き詰められる。
次に、予め準備された設計上の造形物をΔZ間隔でスライスした2次元形状に従い、金属粉末M1に対して電子銃108から電子ビームL1が出射される。電子銃108から出射された電子ビームL1により、その2次元形状に対応する金属粉末M1が溶融する。溶融した金属粉末M1は、材料に応じた所定時間が経過すると凝固する。1層分の金属粉末M1が溶融及び凝固した後、駆動機構105によりステージ104をΔZ分下げる。次に、ΔZ分の金属粉末M1を直前に敷き詰められた層(下層)の上に敷き詰める。そして、その層に相当する2次元形状に対応する領域の金属粉末M1に電子ビームL1を照射し、金属粉末M1を溶融及び凝固させる。この一連の処理を繰り返し、溶融及び凝固した金属粉末M1の層を積み重ねることにより造形物が構築される。
特表2010−526694号公報
図3Aは、金属粉末M1に電子ビームL1が照射された際の電子の状態を模式的に示す説明図である。しかしながら、図4に示す3次元積層造形装置100では、図3Aに示すように、試料面に対して略垂直に電子ビームL1が照射された場合、照射された電子のほとんどは、試料面の内部に侵入し、敷き詰められた金属粉末M1よりも下層の試料内部に拡散される。また、一部の電子は、金属粉末M1に留まる。そして、金属粉末M1が絶縁体の場合、金属粉末M1は、電子ビームL1により負に帯電する。また、金属粉末M1が導電体の場合でも、接地面積が小さく、さらに電子ビームL1の電流量が大きいため、絶縁体の場合と同様に、負に帯電する。そのため、図5に示すように、負に帯電した金属粉末M1が互いに反発し、金属粉末M1が飛散するおそれがあった。
また、金属粉末M1が負に帯電して飛散することを防止するために、図4に示すように、真空容器102に帯電した金属粉末M1を中和する不活性ガスF1を導入するガス導入部112を設けることが考えられる。しかしながら、不活性ガスF1を導入する場合、電子銃108から出射した電子ビームL1のエネルギーが散逸し、金属粉末M1が溶融されない、という問題を有している。さらに、不活性ガスF1が電子銃108に付着し、電子銃108の寿命が短くなる、という問題も有している。
本発明の目的は、上記の問題点を考慮し、不活性ガスを用いることなく粉末材料の帯電除去ができ、粉末材料が飛散することを防ぐことができる3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法を提供することにある。
上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の3次元積層造形装置は、ステージと、第1の電子銃と、第2の電子銃と、を備えている。ステージは、造形物を形成するための粉末材料が敷き詰められる。第1の電子銃は、ステージ上に敷き詰められた粉末材料のうち所定の粉末材料に電子ビームを照射して所定の粉末材料を溶融する。第2の電子銃は、ステージ上に敷き詰められた粉末材料で形成される試料面に対して電子ビームを傾斜させて照射し、粉末材料の帯電を除去する。
また、本発明の3次元積層造形方法は、以下(1)〜(3)に示す工程を含んでいる。
(1)ステージの一面に造形物を形成するための粉末材料を敷き詰める工程。
(2)ステージ上にステージ上に敷き詰められた粉末材料のうち所定の粉末材料に対して第1の電子銃から電子ビームを照射して所定の粉末材料を溶融する工程。
(3)ステージ上に敷き詰められた粉末材料で形成される試料面に対して第1の電子銃と異なる第2の電子銃から電子ビームを傾斜させて照射し、粉末材料の帯電を除去する工程。
本発明の3次元積層造形装置及び3次元積層造形方法によれば、第2の電子銃により粉末材料の帯電除去を行うことができ、粉末材料が帯電することで飛散することを防ぐことができる。
本発明の実施の形態例にかかる3次元積層造形装置を模式的に示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる3次元積層造形装置における第1の電子銃及び第2の電子銃から電子ビームが出射された状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる3次元積層造形装置における第1の電子銃及び第2の電子銃から電子ビームが試料面に照射された模式的に示す説明図である。 従来技術にかかる3次元積層造形装置を模式的に示す説明図である。 従来技術にかかる3次元積層造形装置における電子ビームの照射状態を示す説明図である。
以下、本発明の3次元積層造形装置の実施の形態例について、図1〜図3を参照して説明する。なお、各図において共通の部材には、同一の符号を付している。また、説明は以下の順序で行うが、本発明は、必ずしも以下の形態に限定されるものではない。
1.実施の形態例
1−1.3次元積層造形装置の構成
1−2.3次元積層造形装置の動作
1−1.3次元積層造形装置の構成
まず、本発明の3次元積層造形装置の実施の形態例について図1を参照して説明する。
図1は、本例の3次元積層造形装置を模式的に示す説明図である。
図1に示す3次元積層造形装置1は、例えば、チタン、アルミニウム、鉄等の金属粉末からなる粉末材料に電子ビームを照射して粉末材料を溶融させ、この粉末材料が凝固した層を積み重ねて立体物を造形する装置である。
3次元積層造形装置1は、中空の真空容器2と、造形枠3と、ステージ4と、ステージ4を移動可能に支持する駆動機構5と、ステージ4に粉末材料の一例を示す金属粉末M1を供給する粉体供給部7と、第1の電子銃8と、第2の電子銃9とを有している。また、3次元積層造形装置1は、第1の電子銃8を制御する第1の電子ビーム制御部11と、第2の電子銃9を制御する第2の電子ビーム制御部12とを有している。
真空容器2には、図示していない真空ポンプが接続されている。そして、真空容器2内の雰囲気が真空ポンプにより排気されることで、真空容器2内は、真空に維持されている。この真空容器2内には、造形枠3と、ステージ4、駆動機構5及び粉体供給部7が設けられている。
造形枠3は、真空容器2の鉛直方向の下部に配置されている。造形枠3には、鉛直方向の上方から下方にかけて貫通するピット3aが形成されている。ピット3aは、略四角柱状に開口している。また、完成した造形物P1を取り出せるようにするために、造形枠3におけるピット3aの外周面の一部は、開放されている。
造形枠3におけるピット3aには、ステージ4及び駆動機構5が配置されている。ステージ4は、略平板状に形成されている。ステージ4は、造形物P1を形成するための金属粉末M1が積層される粉末台である。また、ステージ4の側端部には、耐熱性及び柔軟性のあるシール部材14が設けられている。シール部材14は、ピット3aの壁面に摺動可能に接触している。そして、シール部材14により、ステージ4における鉛直方向の下方の空間と上方の空間が密閉されている。
また、ステージ4における金属粉末M1が積層される一面と反対側の他面には、軸部4dが設けられている。軸部4dは、ステージ4の他面から鉛直方向の下方に向けて突出している。軸部4dは、駆動機構5に接続されている。駆動機構5は、軸部4dを介してステージ4を鉛直方向に駆動する。駆動機構5としては、例えば、ラックとピニオンやボールねじ等が挙げられる。
また、造形枠3における鉛直方向の上方には、粉体供給部7が配置されている。粉体供給部7には、不図示の金属粉末貯蔵部から送出チューブを介して金属粉末M1が送り出される。粉体供給部7は、鉛直方向の下方に設けた排出口7aから金属粉末M1を排出する。そして、粉体供給部7は、金属粉末M1を排出し、ステージ4の一面に金属粉末M1を敷き詰める。また、ステージ4の一面に供給された金属粉末M1を平らに均す均し板を真空容器2内に設置してもよい。
なお、ステージ4の一面に金属粉末M1を供給する機構は、上述したものに限定されるものではない。例えば、予め真空容器2内に供給された金属粉末M1を平板状のアーム部材を介して、ステージ4まで搬送し、ステージ4の一面に金属粉末M1を敷き詰めてもよい。
また、真空容器2の鉛直方向の上部には、第1の電子銃8及び第2の電子銃9が装着されている。第1の電子銃8及び第2の電子銃9は、真空容器2の鉛直方向の上部において、ステージ4の一面に対向して配置される。
第1の電子銃8は、ステージ4の一面に敷き詰められた金属粉末M1のうち所定の金属粉末M1に溶融用電子ビームL1を照射して、金属粉末M1を溶融させる。また、第1の電子銃8は、第1の電子ビーム制御部11に接続されている。第1の電子ビーム制御部11は、第1の電子銃8から出射される溶融用電子ビームL1の出力値及び第1の電子銃8が溶融用電子ビームL1を照射する位置を決定する。そして、第1の電子ビーム制御部11は、決定した情報を第1の電子銃8に出力し、第1の電子銃8を駆動させる。
第2の電子銃9は、ステージ4の一面に敷き詰められた金属粉末M1全体に帯電中和用電子ビームL2を照射して、金属粉末M1を帯電除去する。また、第2の電子銃9は、第2の電子ビーム制御部12に接続されている。第2の電子ビーム制御部12は、第2の電子銃9から出射される帯電中和用電子ビームL2の出力値及び照射する位置を決定する。そして、第2の電子ビーム制御部12は、決定した情報を第2の電子銃9に出力し、第2の電子銃9を駆動させる。
また、第2の電子銃9は、ステージ4の一面に敷き詰められた金属粉末M1で形成された平面(以下、「試料面」という)に対して所定の角度θ1で傾斜させて帯電中和用電子ビームL2を照射する。なお、帯電中和用電子ビームL2を傾斜させる角度θ1は、例えば、試料面の平面から略45度以内に設定される。第2の電子銃9から出射される帯電中和用電子ビームL2の出力は、第1の電子銃8から出射される溶融用電子ビームL1よりも低い値に設定される。
溶融用電子ビームL1の出力は、例えば60kVに設定され、帯電中和用電子ビームL2の出力は、例えば1kVに設定される。
図2は、溶融用電子ビームL1及び帯電中和用電子ビームL2が照射された状態を模式的に示す説明図である。
図2に示すように、第2の電子銃9は、第1の電子銃8から出射される溶融用電子ビームL1の照射位置Q1と同じ照射位置Q1に帯電中和用電子ビームL2を照射する。また、帯電中和用電子ビームL2は、試料面に対して傾斜して照射される。そのため、溶融用電子ビームL1の照射スポットの径よりも帯電中和用電子ビームL2の照射スポットの径を大きくすることができる。
1−2.3次元積層造形装置の動作
次に、図1及び図2を参照して上述した構成を有する3次元積層造形装置1の動作について説明する。
図2は、本例の3次元積層造形装置1の動作の要部を模式的に示す説明図である。
まず、図1に示すように、駆動機構5により、造形枠3の上面より鉛直方向にΔZ分下がった位置にステージ4を配置する。このΔZが、その後に敷き詰められる金属粉末M1の鉛直方向の層厚に相当する。次に、粉体供給部7により厚さΔZ分の金属粉末M1をステージ4の一面に敷き詰める。
次に、金属粉末M1を敷き詰める工程が終了すると、金属粉末M1に対して第1の電子銃8から溶融用電子ビームL1を出射する。第1の電子銃8は、予め準備された設計上の造形物(3次元CAD(Computer−Aided Design)データにより表された造形物)をΔZ間隔でスライスした2次元形状に従い、金属粉末M1に対して溶融用電子ビームL1を出射する。第1の電子銃8から出射された溶融用電子ビームL1により、その2次元形状に対応する領域の金属粉末M1が溶融する。
このとき、第2の電子銃9からは、第1の電子銃8から出射された溶融用電子ビームL1と同一の照射位置に帯電中和用電子ビームL2が出射される。そして、溶融用電子ビームL1の照射スポットは、帯電中和用電子ビームL2の照射スポットに内包されながら、互いに同期して、所定の金属粉末M1上を走査する。すなわち、溶融用電子ビームL1を照射する工程と、帯電中和用電子ビームL2を照射する工程は、同時に行われる。
ここで、図3を参照して帯電中和用電子ビームL2の効果について説明する。
図3Aに示すように、試料面に対して略垂直に電子ビームL1が照射された場合、上述したように、金属粉末M1が負に帯電する。そして、図5に示すように、負に帯電した金属粉末M1が互いに反発し、金属粉末M1が飛散する。
これに対し、図3Bに示すように、本例の3次元積層造形装置1では、第2の電子銃9は、試料面に対して帯電中和用電子ビームL2を角度θ1で傾斜して出射している。このとき、帯電中和用電子ビームL2は、試料面に対して垂直に照射された溶融用電子ビームL1よりも試料面の内部への侵入深さが浅くなる。さらに、上述したように、略垂直に電子ビームを照射した場合に比べて、試料面に形成される照射スポットの径が大きくなる。そのため、金属粉末M1から放出される二次電子の領域を広くすることができる。その結果、試料面からは、入射した電子量以上の二次電子が放出される。さらに、金属粉末M1は、一時的に正に帯電するが、放出された二次電子により速やかに中和される。
次に、図3Cを参照して、溶融用電子ビームL1と帯電中和用電子ビームL2を同じ照射位置に照射した場合について説明する。
図3Cに示すように、金属粉末M1は、試料面に対して略垂直に照射される溶融用電子ビームL1により負に帯電する。しかしながら、試料面に対して斜めから照射される帯電中和用電子ビームL2により、金属粉末M1から二次電子が放出される。そして、金属粉末M1の帯電量に応じて放出された二次電子が再配分される。これより、負に帯電した金属粉末M1の帯電を除去することができ、金属粉末M1を中和することができる。
このように、本例の3次元積層造形装置1によれば、不活性ガスを用いることなく、第2の電子銃9から試料面に対して傾斜して帯電中和用電子ビームL2を照射することで、金属粉末M1の帯電除去を行うことができる。これにより、その結果、金属粉末M1が負に帯電することで金属粉末M1が飛散することを防ぐことができる。さらに、不活性ガスを真空容器2内に導入する必要がないため、第1の電子銃8から出射された溶融用電子ビームL1のエネルギーが減衰することも防ぐことができる。
次に、溶融した金属粉末M1は、材料に応じた所定時間が経過すると凝固する。1層分の金属粉末M1が溶融及び凝固した後、駆動機構5によりステージ4をΔZ分下げる。このステージ4のZ方向への動きは、シール部材14が造形枠3のピット3aの内面を滑ることにより実現される。
次に、再び粉体供給部7によって、ΔZ分の金属粉末M1を直前に敷き詰められた層(下層)の上に敷き詰める。第1の電子銃8から出射される溶融用電子ビームL1により、その層に相当する2次元形状に対応する領域の金属粉末M1を溶融及び凝固させる。また、第2の電子銃9から溶融用電子ビームL1と同じ照射位置に帯電中和用電子ビームL2を照射する。この一連の処理を繰り返して、溶融及び凝固した金属粉末M1の層を積み重ねることにより造形物P1を構築する。これにより、本例の3次元積層造形装置1の動作が完了する。
なお、本発明は上述しかつ図面に示した実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形実施が可能である。
1…3次元積層造形装置、 2…真空容器、 3…造形枠、 4…ステージ、 7…粉体供給部、 8…第1の電子銃、 9…第2の電子銃、 11…第1の電子ビーム制御部、 12…第2の電子ビーム制御部、 L1…溶融用電子ビーム、 L2…帯電中和用電子ビーム、 M1…金属粉末、 P1…造形物、 Q1…照射位置

Claims (5)

  1. 造形物を形成するための粉末材料が敷き詰められるステージと、
    前記ステージ上に敷き詰められた前記粉末材料のうち所定の粉末材料に電子ビームを照射して前記所定の粉末材料を溶融する第1の電子銃と、
    前記ステージ上に敷き詰められた前記粉末材料で形成される試料面に対して電子ビームを傾斜させて照射し、前記粉末材料の帯電を除去する第2の電子銃と、
    を備えた3次元積層造形装置。
  2. 前記第2の電子銃から出射された電子ビームは、前記第1の電子銃から出射された電子ビームの照射位置と同じ位置に照射される
    請求項1に記載の3次元積層造形装置。
  3. 前記第2の電子銃における前記試料面に電子ビームを照射する傾斜角度は、前記試料面に対して45度以内に設定される
    請求項1又は2に記載の3次元積層造形装置。
  4. 前記第2の電子銃から出射される電子ビームの出力は、前記第1の電子銃から出射される電子ビームの出力よりも低く設定される
    請求項1〜3のいずれかに記載の3次元積層造形装置。
  5. ステージの一面に造形物を形成するための粉末材料を敷き詰める工程と、
    前記ステージ上に前記ステージ上に敷き詰められた前記粉末材料のうち所定の粉末材料に対して第1の電子銃から電子ビームを照射して前記所定の粉末材料を溶融する工程と、
    前記ステージ上に敷き詰められた前記粉末材料で形成される試料面に対して前記第1の電子銃と異なる第2の電子銃から電子ビームを傾斜させて照射し、前記粉末材料の帯電を除去する工程と、
    を含む3次元積層造形方法。
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