JP2015161689A

JP2015161689A - マーカーボードおよびその製造方法

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Publication number: JP2015161689A
Application number: JP2014034765A
Authority: JP
Inventors: 和裕林; Kazuhiro Hayashi
Original assignee: JFE Metal Products and Engineering Inc
Current assignee: JFE Metal Products and Engineering Inc
Priority date: 2014-02-26
Filing date: 2014-02-26
Publication date: 2015-09-07
Anticipated expiration: 2034-02-26
Also published as: JP6275509B2

Abstract

【課題】優れた映写性と、優れたマーカー文字認識性および優れたマーカー文字消去性とを兼ね備えた琺瑯製マーカーボードおよびその製造方法を提供する。【解決手段】金属基板上に、少なくとも１層の琺瑯層を有するマーカーボードであって、最外層の表面琺瑯層を、白色系チタングロス釉薬に少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径：0.3μm以下の微細な硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子とを配合した琺瑯上釉薬を用いて形成し、白系でJISZ8721−2001に規定される明度Ｖが8.3超、彩度Ｃが0〜1.0である色調と、JISB0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性と、JISZ8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45?）が35〜85である表面光沢と、を有する琺瑯層とする。【選択図】なし

Description

本発明は、基板表面に琺瑯層を形成してなるマーカーボードに係り、とくに短焦点型プロジェクター等を利用して文字等の映像を投影した際に、文字等の映像が鮮映に映写できる優れた反射スクリーン機能と、マーカーで描書した文字等を消去しやすい、優れたマーカー文字消去性とを兼備したマーカーボードに関する。

最近では、種々の講演、講義、説明等では、スライド、ＯＨＰ等の各種プロジェクタを利用して、予め用意した資料をスクリーンに映写し、指示棒等で指しながら説明等を行う場合が一般的となってきたが、スクリーン以外に補助として、マーカーボードを利用する場合が多い。そのため、表面に文字、画像等をマーカーで消去可能に描けるマーカーボード機能を有し、かつ各種プロジェクタで映像を投影することができるスクリーン機能をも有するマーカーボード、あるいはスクリーン機能とマーカーボード機能とを兼備したスクリーン等が提案されている。

例えば、特許文献１には、基板上に、表面の光沢度Ｇs（45°）を30〜60％の範囲にしたほうろう層を形成したことに特徴があるほうろう製マーカー・スクリーン兼用ボードが提案されている。特許文献１に記載された技術によれば、マーカーボードに要求される平滑性と映写スクリーンに要求される明るさおよび反射輝度とが良好で、マーカーによる描画性と消去性に優れ、ハレーション性が抑制された、マーカー・スクリーン兼用ボードが得られるとしている。

また、特許文献２には、投射スクリーン兼用筆記板が記載されている。特許文献２に記載された技術は、筆記面を、光沢度が70％以下、へース値が3.0％以上、中心線粗さＲaが１μm以下の反射防止層を設けたことを特徴としている。これにより、筆跡消去性に優れ、かつ投影画像が鮮明で、筆記板としてもスクリーンとしても利用可能であるとしている。

また、特許文献３には、マーカーなどによる描書および消去が可能な反射スクリーンが記載されている。特許文献３に記載された反射スクリーンは、金属基材の外表面に酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有し、該表面琺瑯層の表面粗さＲaが1.5μm以上2.5μm未満で光沢度Ｇs（45°）が15〜25％で、マーカーなどによる描書の消去性機能が向上し、しかも画像が鮮明で、しかもハレーションが少なく鮮映性が向上した反射スクリーンとなるとしている。

また、特許文献４には、多目的筆記ボードが記載されている。特許文献４に記載された多目的筆記ボードでは、筆記面とするための加工を施し、筆記面を薄有色とし、表面粗さを最大高さＲy：4.9〜10.5μmの範囲に設定した筆記ボードである。これにより、チョークボードとしてもマーカーボードとしても、さらにスクリーンとしても利用可能となるとしている。

特開平02―153080号公報特開平04−229299号公報特開2002−6399号公報特開2008−100401号公報

しかし、特許文献１に記載されたマーカー・スクリーン兼用ボード、特許文献２に記載された投射スクリーン兼用筆記板、特許文献４に記載された多目的筆記ボードは、いずれも、マーカーによる文字描画性、文字消去性には優れているが、スクリーンとして使用する場合のハレーション抑制性に問題を残していた。また、特許文献３に記載された反射スクリーンは、外表面に、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する表面琺瑯層を形成し拡散反射によりハレーション抑制性を向上させているが、マーカー文字消去性に問題を残していた。

また、従来では、映像を投射面（ボード面）にほぼ垂直に投影していたが、最近、短焦点型プロジェクターが開発され、比較的上方から投影するようになっており、従来とは異なる反射スクリーン機能が要求されるようになっている。
本発明は、かかる従来技術の問題を有利に解決し、基板上に少なくとも表面琺瑯層を形成してなるマーカーボードであって、短焦点型プロジェクターを用いても優れた反射スクリーン機能（映写性）を有し、さらに優れたマーカー文字認識性および優れたマーカー文字消去性を兼ね備えたマーカーボードおよびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記した目的を達成するために、マーカーボードの、反射スクリーン性とマーカー文字消去性とに及ぼす各種要因について、鋭意研究した。その結果、優れた反射スクリーン機能を備え、マーカー文字認識性に優れ、かつ優れたマーカー文字消去性を備えた表面琺瑯層とするためには、表面琺瑯層を、白系でJIS Z 8721−1993に規定される明度Ｖが8.3超で、彩度Ｃが0〜1.0である色調と、JIS B 0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性と、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45°）が35〜85％である表面光沢と、を有する琺瑯層とする必要があることに想到した。そして、このような表面琺瑯層は、白色系チタングロス釉薬に、顔料として少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径0.3μm以下の硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタンとを配合した琺瑯上釉薬を用いて形成することができることを見出した。このようにして形成された表面琺瑯層は、表面粗さが低下し、とくに表面の凹凸を形成する凸部（山）の最大高さが著しく低くなり、マーカーで描書した場合でも、マーカー文字認識性が優れるうえ、マーカー文字消去性が顕著に向上する。なお、この際、優れた反射スクリーン機能は維持され、短焦点型プロジェクタで映像を投射しても、映像が鮮明に認識できるという知見を得た。

本発明はかかる知見に基づき、さらに検討を加えて完成されたものである。すなわち、本発明の要旨はつぎのとおりである。
（１）金属基板上に、少なくとも１層の琺瑯層を有するマーカーボードであって、前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が、白系でJIS Z 8721−2001に規定される明度Ｖが8.3超、彩度Ｃが0〜1.0である色調と、JIS B 0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性と、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45°）が35〜85％である表面光沢と、を有することを特徴とする反射スクリーン機能とマーカー文字認識性およびマーカー文字消去性に優れたマーカーボード。
（２）（１）において、前記表面琺瑯層が、白色系チタングロス釉薬に、少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径0.3μm以下の硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子とを配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層であることを特徴とするマーカーボード。
（３）金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下琺瑯層を形成したのち、あるいは下琺瑯層を形成することなく、琺瑯上釉薬を塗布し、焼成して表面琺瑯層を形成するマーカーボードの製造方法において、前記琺瑯上釉薬を、白色系チタングロス釉薬にさらに少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径0.3μm以下の硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子とを配合した琺瑯上釉薬とし、前記表面琺瑯層の焼成温度を700〜850℃とすることを特徴とする反射スクリーン機能とマーカー文字認識性およびマーカー文字消去性に優れたマーカーボードの製造方法。
（４）（３）において、前記酸化チタン被覆粒子を燐片状の粒子とし、該酸化チタン被覆粒子を白色系チタングロス釉薬100質量部に対し5〜15質量部配合し、かつ前記硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子を白色系チタングロス釉薬100質量部に対し2〜8質量部配合することを特徴とするマーカーボードの製造方法。

本発明によれば、とくに短焦点型プロジェクターによる投影に際して映像認識性に優れ、優れた反射スクリーン機能を有し、同時に、マーカー文字認識性およびマーカー文字消去性にも優れた、マーカーボードを容易に製造でき、産業上格段の効果を奏する。また、本発明は、マーカーボードの用途拡大に大きく寄与できるという効果もある。

本発明になるマーカーボードは、金属基板上に少なくとも１層の琺瑯層を有する琺瑯製マーカーボードである。本発明では、使用する金属基板の種類は、とくに限定されるものではないが、冷延鋼板とすることが好ましい。なお、金属基板として使用する冷延鋼板には、金属基板と釉薬との密着性を向上させるために、Niめっきを施すことが好ましい。冷延鋼板としては、低炭素鋼板、ステンレス鋼板等が例示できる。低炭素鋼板のＣ含有量は、mass％で0.0200％以下とすることが好ましく、より好ましくは0.0100％以下、さらに好ましくは0.0080％以下である。

また、金属基板としては、アルミニウムめっき鋼板またはZn−Al合金めっき鋼板としてもよい。Zn−Al合金めっき鋼板としては、Al含有量が4〜70mass％、残部Znおよび不可避的不純物からなるめっき層を有するめっき鋼板が例示できる。なお、めっき層には、めっき皮膜特性向上のための添加物質を含有してもよいことは言うまでもない。
上記した金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層は、白系でJIS Z 8721−2001に規定される明度Ｖが8.3超、彩度Ｃが0〜1.0である色調と、JIS B 0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性と、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45°）が35〜85％である表面光沢と、を有する。

なお、本発明でいう明度Ｖは、JIS Z 8722−2000に規定される色の測定方法に準拠して測定し、JIS Z 8721−2001に規定される色の表示方法に準拠して表示される値を用いるものとする。
本発明マーカーボードでは、表面琺瑯層を、JIS Z 8721−2001に規定される明度Ｖで、8.3超、彩度Ｃが0〜1.0である、白色系色調の琺瑯層とする。これにより、マーカーで描書された文字、画像等が見えやすくなり、優れたマーカー文字認識性を確保できる。

表面琺瑯層の色調は白色系とした。暗色系色調では、短焦点型プロジェクターで投影した場合には、色の再現性が低下する。また、明度Ｖが8.3以下では、徐々に文字が暗く、不鮮明となり、マーカー文字認識性が低下する。このため、表面琺瑯層の明度Ｖは8.3超の範囲に限定した。なお、好ましくは明度Ｖは9.9以下である。また、彩度Ｃが、1.0を超えて大きくなると、色の再現性が低下する。このため、表面琺瑯層の彩度Ｃは0〜1.0の範囲に限定した。なお、好ましくは彩度Ｃは0〜0.5である。

なお、琺瑯層の色調、明度、彩度は、添加顔料の種類、添加量により調整することができる。明度Ｖを8.3超、彩度を0〜1.0に調整するには、顔料として、黒色系、灰色系、青色系、茶色系、黄色系の顔料、好ましくはCo、Mnまたはそれらの酸化物を単独あるいは複合して添加することが好ましい。
また、本発明マーカーボードでは、表面琺瑯層を、JIS B 0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性を有する琺瑯層とする。これにより、マーカーで描書された文字、画像等を書きやすくかつ消去しやすくする、優れたマーカー文字認識性、優れたマーカー文字消去性を確保することができる。表面粗さＲaが0.25μm未満では、平坦に近づきすぎ、ハレーションが大きくなって、投射した映像の映像認識性（映写性）が低下する。一方、表面粗さＲaが0.8μmを超えて大きくなると、表面の凹凸が大きくなりすぎて、マーカー文字消去性が低下する。このため、表面琺瑯層の表面粗さＲa：0.25〜0.8μmに限定した。なお、好ましくは表面粗さＲa：0.3〜0.7μmである。

また、本発明マーカーボードは、最外層の表面琺瑯層を、上記した色調、上記した範囲の明度、上記した範囲の表面粗さに加えて、光沢度を、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45°）が35〜85％となるように調整する。
光沢度：Ｇs（45°）が35％未満では、ハレーションが少なく、映写性は良くなるが、マーカー文字消去性が低下する。一方、Ｇs（45°）が85％を超えると、ハレーションが激しくなり、短焦点型プロジェクターによる映写に際し映像認識性が低下し、景色や照明の写り込みにより文字認識性が低下する。このようなことから、表面琺瑯層の光沢度を、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度Ｇs（45°）で35〜85％に限定した。

上記した特性を有する表面琺瑯層は、白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）に、あるいはさらにチタンマット釉薬を配合し、さらに少なくとも添加物として微細な硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子と、顔料として好ましくは酸化チタン被覆粒子を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層とすることが好ましい。ここで、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子は、平均粒径が0.3μm以下の微細な粒径分布を有する粒子とする。また、ここでいう「酸化チタン被覆粒子」とは、燐片状の雲母粒子表面に酸化チタン（TiO₂）粒子を被覆したものである。

上記した琺瑯上釉薬を用いて形成された表面琺瑯層は、質量％で、TiO₂：5〜50％、さらに、SiO₂：0〜80％、Al₂O₃：0〜20％、B₂O₃：0〜25％、Na₂O：0〜20％、K₂O：0〜20％、Li₂O：0〜20％、P₂O₅：0〜10％、ZrO₂：0〜20％、BaO：0.〜15％、MgO：0〜5％、PbO：0〜40％、ZnO：0〜50％、CaF₂：0〜10％を含む、琺瑯層である。なお、本発明では、表面琺瑯層には、所望の色を得るために、黒色系顔料、灰色系顔料、青色系顔料、黄色系顔料、茶色系顔料のうちから選ばれた１種またはそれ以上の顔料を合計で10質量％以下含むことは言うまでもない。

次に、本発明マーカーボードの好ましい製造方法について説明する。
本発明マーカーボードは、金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成したのち、あるいは下地琺瑯層を形成することなく、ついで琺瑯上釉薬を塗布し、焼成して表面琺瑯層を形成する。使用する金属基板の種類は、とくに限定する必要はないが、冷延鋼板、あるいはアルミめっき鋼板またはZn−Al合金めっき鋼板とすることが好ましい。金属基板として冷延鋼板を用いる場合には、好ましくは冷延鋼板にNiめっきを施したのち、冷延鋼板（金属基板）表面に琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。琺瑯下釉薬としては、とくに限定されるものではなく、従来の琺瑯製マーカーボードに使用されている琺瑯下釉薬がいずれも好適である。

琺瑯下釉薬としては、例えば、固形分全量に対する質量％で、SiO₂：20〜80％含有し、残部として、TiO₂：0〜15％、ZrO₂：0〜20％、B₂O₃：0〜25％、Al₂O₃：0〜25％、Na₂O：0〜20％、Li₂O：0〜20％、K₂O：0〜20％、PbO：0〜40％、ZnO：0〜50％、BaO：0〜15％、CaO：0〜15％、CaF₂：0〜10％、CoO：0〜20％、NiO：0〜20％、MnO：0〜20％などを含有するグランドコート釉薬（グランドコートフリット）とすることが好ましい。

金属基板表面に、上記した琺瑯下釉薬を塗布したのち、700〜850℃で焼成し、下地琺瑯層とする。なお、琺瑯下釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。
得られた下地琺瑯層の表面に、あるいは下地琺瑯層を形成することなく金属基板表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、その後、700〜850℃で焼成し、表面琺瑯層を形成する。琺瑯下釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。

琺瑯上釉薬は、白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）に、少なくとも顔料として酸化チタン被覆粒子と、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子と、あるいはさらに白色系チタンマット釉薬（白色系チタンマットフリット）とを配合した釉薬とする。
顔料として、配合する硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子（TiO₂粒子）は、平均粒径：0.3μm以下の微細粒子とすることが好ましい。より好ましくは平均粒径：0.1〜0.2μmである。粒径は、電子顕微鏡写真をもとに画像解析装置を用いて算出した値を用いるものとする。硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子（TiO₂粒子）は、白色系チタングロス釉薬(白色系チタンフリット)100質量部に対し、2〜8質量部配合する。なお、より好ましくは4〜6質量部である。
これにより、所望の優れた反射スクリーン性能を維持したまま、表面粗さが滑らかになり、マーカー文字消去性が改善される。

これは、琺瑯上釉薬に、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子と酸化チタン被覆粒子とを同時に配合することにより、焼成後の表面琺瑯層で、表面を形成する凹凸のうち、凸部（山）の最大高さが著しく低くなるためと考えられる。この機構は、現在のところ、明確にはなっていないが、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子の存在により、焼成時に、表面琺瑯層中で酸化チタン被覆粒子が、燐片面を板面に平行に配向しやすく、一方、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子が配合されない場合には、燐片面を板面に垂直に配向しやすくなるためと推察している。

硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子の配合量が2質量部未満では、硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子による上記した効果が少なく、表面粗さＲaが大きくなり、所望のマーカー文字消去性の改善を達成できない。一方、8質量部を超えて多くなると、上記した硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子による効果はあるが、釉薬中の未溶解物が多くなるため、表面粗さＲaが大きくなり、所望のマーカー文字消去性の改善を達成できない。このため、琺瑯上釉薬への微細な硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子の配合量は、白色系チタングロス釉薬100質量部に対し2〜8質量部の範囲に限定した。

また、顔料として、配合する酸化チタン被覆粒子は、燐片状を呈する雲母粒子に酸化チタン（TiO₂）粒子を被覆したものであり、白色系チタングロス釉薬(白色系チタンフリット)100質量部に対し5〜15質量部配合する。これにより、拡散反射が適度に促進され、映写性に優れた表面琺瑯層となる。
酸化チタン被覆粒子の配合量が5質量部未満では、酸化チタン被覆粒子が少なすぎて、反射効果が薄れるため、映像認識性が低下する。一方、15質量部を超えると、表面粗さが大きくなり、マーカー文字消去性が低下する。このため、酸化チタン被覆粒子の配合量は、白色系チタングロス釉薬100質量部に対し5〜15質量部に限定した。より好ましくは8〜12質量部である。

なお、白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）は、固形分全量に対する質量％で、SiO₂：33〜39％、TiO₂：18〜24％、B₂O₃：9〜15％、K₂O＋Na₂O＋Li₂O：14〜20％を含み、さらに、Al₂O₃：0〜2％、P₂O₅：0〜4％、MgO：0〜2％、CaO：0〜1％、F₂：0〜8％などを含む釉薬とすることが好ましい。
また、白色系チタンマット釉薬（白色系チタンマットフリット）としては、固形分全量に対する質量％で、SiO₂：40〜50％、TiO₂：18〜24％、K₂O＋Na₂O＋Li₂O：18〜24％含有し、さらに、Al₂O₃：0〜2％、B₂O₃：0〜2％、ZrO₂：0〜5％、CaO：0〜1％、MgO：0〜2％、F₂：0〜5％などを含む釉薬とすることが好ましい。

白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）に、白色系チタンマット釉薬（白色系チタンマットフリット）を配合して琺瑯上釉薬とする場合には、白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）100質量部に対し、白色系チタンマット釉薬（白色系チタンマットフリット）を0〜50質量部配合することが好ましい。この場合、白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）と白色系チタンマット釉薬（白色系チタンマットフリット）の合計量を100質量部として、各種添加物、顔料を配合するものとする。

上記した琺瑯上釉薬に、さらに各種添加物および顔料と、水とを混合し、得られた混合物を粉砕し、泥状物（スリップ）として、金属基板に塗布することが好ましい。なお、顔料として、マーカーボードの色調に合わせて、黒色系顔料、灰色系顔料、青色系顔料、茶色系顔料、黄色系顔料のうちから選ばれた１種または２種以上の顔料を複合して添加することが好ましい。顔料添加量の合計は、フリット100質量部（焼成後の質量換算）に対し10質量部以下とすることが好ましい。10質量部を超えて配合すると、スリップの流動性が低下する。琺瑯上釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。

配合した琺瑯上釉薬を塗布したのち、700〜850℃で焼成し表面琺瑯層を形成する。
焼成温度が700℃未満では、表面粗さが粗くなりすぎる。一方、850℃を超えて高温となると、表面が平滑になりすぎて、ハレーションを生じやすく、映写性（映像認識性）が低下する。
また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはZn−Al合金めっき鋼板を用いる場合には、金属基板表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、400〜600℃の低温の焼成温度で焼成し表面琺瑯層を形成することが好ましい。なお、この場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いる必要がある。この場合でも、琺瑯上釉薬には、微細な硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子、酸化チタン被覆粒子を添加することは言うまでもない。

以下、実施例に基づき、さらに本発明について詳細に説明する。

金属基板としてＣ：0.008質量％の低炭素冷延鋼板（KTM：板厚0.35mm×幅1190mm）を用いた。そして、金属基板表面に、琺瑯下釉薬（グランドコート）をロールコータで塗布したのち、800℃で焼成し乾燥厚さで30μmの下地琺瑯層を形成した。
なお、琺瑯下釉薬は、グランドコートフリットに、粘土、珪石粉、炭酸マグネシウム、硼砂等と、さらに水を添加し、ボールミルで混合、粉砕してスリップとしたものを使用した。

ついで、得られた下地琺瑯層の一方の表面に、琺瑯上釉薬をスプレー法で塗布したのち、790℃で焼成し乾燥厚さで100μmの表面琺瑯層（カバーコート）を形成し、マーカーボード（製品）とした。
琺瑯上釉薬としては、表１に示す白色系チタングロス釉薬（白色系チタンフリット）100質量部（乾燥質量）に、添加物として粘土、塩化カリ、アルミン酸ソーダを合計で10質量部以下配合し、さらに、表３に示す色となるように、顔料として、黒色系顔料、灰色系顔料、青色系顔料、茶色系顔料、黄色系顔料のうちから選ばれた１種以上を合計で、10質量部以下配合したのち、水を配合して、ボールミルで、混合、粉碎してスリップとしたものを使用した。なお、本発明例である、表面琺瑯層では、顔料として上記した顔料以外に酸化チタン被覆粒子を0〜20質量部配合し、さらに添加物として上記した添加物以外に硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子（平均粒径：0.15μm）を0〜5質量部配合した。

得られたマーカーボード（製品）の表面琺瑯層について、組成を調査し、表２に示す。

また、得られたマーカーボード（製品）の表面琺瑯層について、表面粗さ、色調、光沢度を調査した。調査方法は次のとおりとした。
（１）表面粗さ
表面粗さの測定は、接触式表面粗度計を用い、JIS B 0601−2001の規定に準拠して、算術平均高さＲａを求めた。なお、一部の表面琺瑯層について、非接触式レーザマイクロスコープを用いて、表面琺瑯層の表面性状を三次元で測定し、設定した基準面（平滑面）からの凸部（山部）の最大高さ（μm）を測定した。
（２）色調
色調は、JIS Z 8722−2000の規定に準拠して測定し、JIS Z 8721−2001の規定に準拠して、各サンプル板の色調（Ｈ、Ｖ、Ｃ）を表示した。
（３）光沢度
光沢度は、JIS Z 8741−1997に準拠して45度鏡面光沢度Ｇｓ（45°）を求めた。
（４）マーカーの着きやすさ及び落ちやすさ
（４−ａ）マーカーの着きやすさ（マーカー文字認識性）
試験用マーカー（黒）で普通に書いた線をボード面から1m離れた位置で見て、線にむらがあるかどうかを判定する。また、8m離れた位置で見て、線が鮮明かどうかを判定し、４段階（◎、○、△、×）で評価した。
（４−ｂ）マーカーの落ちやすさ（マーカー文字消去性）
（４−ａ）で書いた線を24時間放置したのち、ウレタンフォーム製イレイザーで普通に消したとき、ボード面から1m離れた位置で見て、ボード面に筆跡後及び消しむらがあるかどうかを判定し、４段階（◎、○、△、×）で評価した。

得られたマーカーボード（製品）について、映写性を調査した。
（５）映写性
マーカーボード（製品）を明るい場所に置き、マーカーボード（製品）に向かって、短焦点型プロジェクターを用いて画像を投影し、映写された画像をマーカーボードから5m離れた位置で、目視し、画像の鮮明度、およびハレーション抑制度を４段階（◎、○、△、×）で評価した。

さらに、得られた各特性を総合して10段階で評価し、総合評価とした。
得られた結果を表３に示す。

本発明例は、ハレーションが抑制されかつ投影画像が鮮明で映写性（反射スクリーン機能）に優れ、かつマーカー文字認識性およびマーカー文字消去性とも優れ、総合評価で８点以上と、優れたマーカーボートとなっている。一方、琺瑯上釉薬に、酸化チタン被覆粒子が配合されず、Raが本発明範囲を低く外れ、光沢度Ｇｓ（45°）が本発明範囲を高く外れる比較例（製品板No.9）は、平滑な面となり、ハレーションが強くなり、反射スクリーン機能が低下している。また、琺瑯上釉薬に硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子が配合されず、凸部最大高さが高く、Ｒaが本発明範囲を高く外れる比較例（製品板No.10）は、マーカー文字消去性が低下している。

Claims

金属基板上に、少なくとも１層の琺瑯層を有するマーカーボードであって、
前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が、白系でJIS Z 8721−2001に規定される明度Ｖが8.3超、彩度Ｃが0〜1.0である色調と、JIS B 0601−2001に規定される表面粗さＲa：0.25〜0.8μmである表面特性と、JIS Z 8741−1997に規定される45度鏡面光沢度：Ｇs（45°）が35〜85である表面光沢と、を有することを特徴とする反射スクリーン機能とマーカー文字認識性およびマーカー文字消去性に優れたマーカーボード。
前記表面琺瑯層が、白色系チタングロス釉薬に、さらに少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径0.3μm以下の硫酸法アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子とを配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層であることを特徴とする請求項１に記載のマーカーボード。
金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下琺瑯層を形成したのち、あるいは下琺瑯層を形成することなく、琺瑯上釉薬を塗布し、焼成して表面琺瑯層を形成するマーカーボードの製造方法において、
前記琺瑯上釉薬を、白色系チタングロス釉薬にさらに少なくとも酸化チタン被覆粒子と粒径0.3μm以下の硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子とを配合した琺瑯上釉薬とし、前記表面琺瑯層の焼成温度を700〜850℃とする
ことを特徴とする反射スクリーン機能とマーカー文字認識性およびマーカー文字消去性に優れたマーカーボードの製造方法。
前記酸化チタン被覆粒子を燐片状の粒子とし、該酸化チタン被覆粒子を白色系チタングロス釉薬100質量部に対し5〜15質量部配合し、かつ前記硫酸法・アナターゼ型未表面処理酸化チタン粒子を白色系チタングロス釉薬100質量部に対し2〜8質量部配合することを特徴とする請求項３に記載のマーカーボードの製造方法。