JP2015147969A - 基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の基板は、アルミニウムの陽極酸化処理により形成される多孔質アルミナ自立膜と、この多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔の少なくとも表面側に充填される複数の金属ナノロッドとを備える。上記複数の金属ナノロッドの平均アスペクト比としては100以上が好ましい。上記複数の金属ナノロッドが、多孔質アルミナ自立膜の表面側に突出するとよい。本発明の基板の製造方法は、アルミニウム板の表面に陽極酸化処理により多孔質アルミナ被膜を形成する工程、上記アルミニウム板から多孔質アルミナ自立膜を分離する工程、及び上記多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔の少なくとも表面側に充填される複数の金属ナノロッドを形成する工程を備える。
【選択図】図1A
Description
本発明は、アルミニウムの陽極酸化処理により形成される多孔質アルミナ自立膜と、この多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔の少なくとも表面側に充填される複数の金属ナノロッドとを備える基板である。
以下、本発明に係る基板及びその製造方法の実施形態について図面を参照しつつ詳説する。なお、基板の実施形態における「表裏」は、基板の厚さ方向のうち、一方の面側を「表」、他方の面側を「裏」とする方向を意味し、当該基板の使用状態における表裏を意味するものではない。
図1A及び図1Bの基板1は、アルミニウムの陽極酸化処理により形成される多孔質アルミナ自立膜2と、この多孔質アルミナ自立膜2の複数の細孔4に充填される複数の金属ナノロッド3とを備える。
多孔質アルミナ自立膜2は、アルミニウムの陽極酸化処理により形成される多孔質アルミナの自立膜である。
上記複数の金属ナノロッド3は、上述の多孔質アルミナ自立膜2の複数の細孔4内の全体に亘って充填されている。
次に、当該基板1の製造方法について説明する。当該基板1の製造方法は、例えば図2に示すように以下の工程を備える。なお、後述するように当該基板1の用途によっては最後の金属ナノロッド突出工程(S4)は省略できる。
(1)アルミニウム板の表面に陽極酸化処理により多孔質アルミナ被膜を形成する工程(S1)
(2)上記アルミニウム板から多孔質アルミナ自立膜2を分離する工程(S2)
(3)上記多孔質アルミナ自立膜2の複数の細孔4の表面側に充填される複数の金属ナノロッド3を形成する工程(S3)
(4)上記多孔質アルミナ自立膜2の表層を選択的に除去し、金属ナノロッド3を多孔質アルミナ自立膜2の表面側及び裏面側に突出させる工程(S4)
多孔質アルミナ被膜形成工程(S1)では、アルミニウム板の表面を10℃以下に維持しつつ電圧を印加する陽極酸化処理により多孔質アルミナ被膜を形成する。この多孔質アルミナ被膜の形成は、例えば図3に示す多孔質アルミナ被膜形成装置を用いて行うことができる。
多孔質アルミナ自立膜分離工程(S2)では、上記多孔質アルミナ被膜形成工程(S1)の多孔質アルミナ被膜を表面に形成したアルミニウム板から多孔質アルミナ被膜のみを取り出し、多孔質アルミナ自立膜2を分離する。
金属ナノロッド形成工程(S3)では、上記多孔質アルミナ自立膜分離工程(S2)で得られた多孔質アルミナ自立膜2の複数の細孔4の表面側に充填される複数の金属ナノロッド3を形成する。
金属ナノロッド突出工程(S4)では、金属ナノロッド3を形成した多孔質アルミナ自立膜2の表層を選択的に除去し、金属ナノロッド3を多孔質アルミナ自立膜2の表面側及び裏面側に突出させる。
当該基板1は、例えば炭素結晶からなるカーボンナノ構造体の気相成長用基板として好適に用いられる。図7は、当該基板1を用いたカーボンナノ構造体の製造装置の一例である。
当該基板1は、アルミニウムを陽極酸化処理することによって得られる多孔質アルミナ自立膜2の細孔4に複数の金属ナノロッド3が充填されるため、金属ナノロッド3が強度に優れ、変形し難いため品質に優れる。また、多孔質アルミナ自立膜2の細孔4は略均一に形成することが可能であるため、当該基板1は金属ナノロッド3を略均一に配設することができる。そのため、当該基板1はこのような複数の微細な金属ナノロッドが高精度に配列された基板として種々の用途に好適に用いることができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
2 多孔質アルミナ自立膜
3 金属ナノロッド
4 細孔
101 電解槽
102 電源
103 アルミニウム板
103a 表面
104 非消耗性電極
105 ホルダ
106 冷却ジェットノズル
107 不活性ガス導入装置
201 CO2供給ボンベ
202 反応物質供給ボンベ
203 耐圧反応容器
203a ホルダ
203b 撹拌子
204 ヒーター
205 圧力調整弁
301 炉管
302 シール材
303 隔壁
X 有機金属化合物
Y カーボンナノ構造体
G1 原料ガス
G2 キャリアガス
Claims (9)
- アルミニウムの陽極酸化処理により形成される多孔質アルミナ自立膜と、
この多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔の少なくとも表面側に充填される複数の金属ナノロッドと
を備える基板。 - 上記複数の金属ナノロッドの平均アスペクト比が100以上である請求項1に記載の基板。
- 上記複数の金属ナノロッドが、多孔質アルミナ自立膜の表面側に突出する請求項1又は請求項2に記載の基板。
- 上記複数の金属ナノロッドが、多孔質アルミナ自立膜の裏面側に突出する請求項3に記載の基板。
- 上記複数の金属ナノロッドがニッケル、コバルト、又は鉄から構成される請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板。
- 炭素結晶からなるカーボンナノ構造体の気相成長用基板として用いられる請求項3に記載の基板。
- 光学素子として用いられる請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板。
- ナノインプリントの金型として用いられる請求項3又は請求項4に記載の基板。
- アルミニウム板の表面に陽極酸化処理により多孔質アルミナ被膜を形成する工程、
上記アルミニウム板から多孔質アルミナ自立膜を分離する工程、及び
上記多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔の少なくとも表面側に充填される複数の金属ナノロッドを形成する工程
を備え、
上記多孔質アルミナ被膜形成工程において、アルミニウム板の表面を10℃以下に維持しつつ電圧を印加し、
上記金属ナノロッド形成工程において、有機金属化合物とこの有機金属化合物の有機基と反応する物質とCO2とを含む超臨界流体、亜臨界流体又は高温流体により、上記有機金属化合物に由来する金属を多孔質アルミナ自立膜の複数の細孔へ充填する基板の製造方法。
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