JP2015134383A - 研磨装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】スラリーを供給しながら研磨をする研磨装置において、研磨中に板状ワークの厚みを測定する。
【解決手段】研磨手段13の回転軸31は、パイプ状に形成され、研磨面に対して垂直な方向に延在し、研磨パッド70は、円板状に形成され、その中心を貫通する円孔73を有し、回転軸31は、モータ34によって駆動されて回転する。スラリー供給手段16は、回転軸31が回転可能に回転軸31に接続され、スラリー供給源からスラリー供給管を介して供給されるスラリーを回転軸31の内壁に沿って供給し、厚み測定手段15は、研磨パッド70の円孔73と回転軸31の内側の空洞311とを介して、研磨中における板状ワークの厚みを計測するため、研磨パッドの外側に板状ワークが露出していない状態であっても、板状ワークの厚みを計測することができ、厚み測定手段による計測にスラリーが影響することもない。
【選択図】図2

Description

本発明は、板状ワークを研磨する研磨装置に関する。
半導体ウェーハなどの板状ワークを研磨する研磨装置では、板状ワークに研磨パッドの研磨面を当接させ、スラリーを供給しながら板状ワークの研磨を行う(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載された研磨装置では、研磨開始前に、チャックテーブル及び板状ワークの上面に測定ゲージの接触子を接触させて板状ワークの厚みを計測し、計測した厚みに基づいて研磨時間を設定することにより、板状ワークを所望の厚みに仕上げることとしている。
また、板状ワークの厚みの計測に関しては、圧力流体層を介して板状ワークの裏面と対向したキャリアの上下方向の変動量と、圧力流体層の層厚の変動量とを検出することにより、研磨中に板状ワークの厚みを計測する研磨装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。さらに、板状ワークに光を照射し、板状ワークの上面で反射した光と下面で反射した光との干渉を測定することにより光路長差を求め、板状ワークの厚みを計測する計測装置も提案されている(例えば、特許文献3参照)。
特許4553868号 特許2897207号 特開2012−189507号公報
研磨開始前に板状ワークの厚みを計測して、研磨時間などの研磨条件を設定する方式は、必ずしも板状ワークが所望の厚みに仕上がるとは限らない。このため、板状ワークの厚みを計測しながら研磨を行い、所望の厚みに達したら研磨を終了することが望ましい。
一方、測定ゲージを接触させたり、光を照射したりすることによって板状ワークの厚みを計測するためには、板状ワークの上面の少なくとも一部が露出している必要がある。研磨中において、間欠的に板状ワークの上面が研磨パッドの外側に露出する構成であれば、板状ワークの上面が研磨パッドの外側に露出したタイミングで板状ワークの厚みを計測することが可能であるが、板状ワークの上面が研磨パッドの外側に露出したり研磨パッドの下に進入したりすることを繰り返すと、研磨パッドと板状ワークの外周とが接触する部分の接触抵抗が大きくなり、板状ワークの外周に欠けが発生する場合がある。このため、研削の場合とは異なり、通常は、板状ワークよりも大きい研磨パッドの研磨面を板状ワークに全面的に接触させた状態で研磨をする。したがって、研磨中に板状ワークの厚みを計測することは困難である。
特許文献2に記載された計測方式であれば、研磨中に板状ワークの厚みを計測することはできるが、この方式は、スラリーを供給しながら研磨をする場合に適用することはできない。
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、スラリーを供給しながら研磨をする研磨装置において、研磨中に板状ワークの厚みを測定することを目的とする。
本発明に係る研磨装置は、保持面で板状ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルの上方に配置され、該チャックテーブルに保持された該板状ワークの上面を研磨する研磨手段と、該研磨手段によって研磨される該板状ワークの該上面にスラリーを供給するスラリー供給手段と、該研磨手段によって研磨される該板状ワークの厚みを計測する厚み測定手段と、を備えた研磨装置であって、該研磨手段は、円板状に形成され中心を貫通する円孔を有する研磨パッドと、該研磨パッドが該板状ワークに接する研磨面に対して垂直な方向に延在し、長さ方向に貫通する空洞を有するパイプ状の回転軸と、該回転軸を回転させるモータと、を備え、該スラリー供給手段は、スラリー供給源に接続されるスラリー供給管と、該回転軸が回転可能となるように該回転軸に対して接続され、該スラリー供給管を介して該スラリー供給源から供給される該スラリーを該回転軸の内壁に沿って供給する接続部と、を備え、該厚み測定手段は、該研磨パッドの該円孔と該回転軸の該空洞とを介して、研磨中における該板状ワークの厚みを計測する。
前記厚み測定手段は、測定光を放射する発光部と、該発光部から放射された該測定光を平行光に変換するコリメータレンズと、該コリメータレンズによって変換された該平行光が前記板状ワークに入射し該板状ワークの上面で反射した光と該板状ワークの下面で反射した光とが干渉した反射光を分光する回折格子と、該回折格子によって分光された光を受光するイメージセンサーと、該イメージセンサーで受光した該光の受光量に基づいて、該板状ワークの該上面で反射した光と該板状ワークの該下面で反射した光との光路長差を算出することにより、該板状ワークの厚みを算出する制御手段と、を備えることが好ましい。
本発明に係る研磨装置によれば、研磨パッドの中心に設けられた円孔を介して板状ワークの厚みを計測するので、板状ワークよりも大きい研磨パッドの研磨面が板状ワークの上面全面に接触し、研磨パッドの外側に板状ワークが露出していない状態であっても、板状ワークの厚みを計測することができる。また、回転軸の内壁に沿って供給されたスラリーは、研磨パッドの中心に設けられた円孔から研磨面に供給され、遠心力により研磨面全体に広がる。このため、厚み測定手段による計測にスラリーが影響することなく、板状ワークの厚みを精度よく計測することができる。
さらに、板状ワークの上面で反射した光と下面で反射した光との光路長差を算出することで板状ワークの厚みを算出すれば、板状ワークの厚みを正確に計測することができる。
研磨装置を示す斜視図。 研磨装置の研磨手段、厚み測定手段及びスラリー供給手段を示す斜視図。 スラリー供給手段を示す側面視断面図。 厚み測定手段を示す側面視断面図。 第二の研磨装置の研磨手段、厚み測定手段及びスラリー供給手段を示す側面視断面図。
図1に示す研磨装置10は、基台11と、板状ワークを保持するチャックテーブル12と、研磨パッド70を備えチャックテーブル12に保持された板状ワークを研磨する研磨手段13と、研磨手段13を±Z方向に移動させる送り手段14と、チャックテーブル12に保持された板状ワークの厚みを計測する厚み測定手段15とを備えている。
チャックテーブル12は、XY平面に平行な保持面121に載置された板状ワークを吸引して保持し、回転することにより、保持した板状ワークを回転させる。また、チャックテーブル12は、±Y方向に移動可能となっている。
送り手段14は、±Z方向に平行なねじ軸42をモータ41が回転させることにより、ねじ軸42に係合した移動部43がガイド44に案内されて±Z方向に移動する構成となっている。研磨手段13は、移動部43に固定されており、移動部43の移動に伴って±Z方向に移動する。
このように構成される研磨装置10では、板状ワークを保持したチャックテーブル12が回転することにより板状ワークを回転させ、研磨手段13が研磨パッド70を回転させた状態で、送り手段14が研磨手段13を−Z方向に移動させ、研磨パッド70の下面(研磨面)を板状ワークの上面に接触させることにより、板状ワークが研磨される。研磨パッド70は、研磨対象の板状ワークより大径に形成されており、研磨中は、板状ワークの上面全面に研磨パッド70が接触する。
図2に示すように、研磨手段13は、±Z方向に平行な回転軸31と、回転軸31の下端に固定されたマウント32と、回転軸31を回転可能に支持するハウジング33と、回転軸31を回転させるモータ34とを備えている。研磨パッド70は、円板状の基台71と、基台71の下面に固着され板状ワークを研磨する研磨部72とを備え、研磨部72を下に向けた状態でマウント32に装着される。マウント32に装着された研磨パッド70の研磨面は、XY平面に平行であり、回転軸31に対して垂直である。モータ34が駆動源となって回転軸31を回転させると、回転軸31の回転に伴って、マウント32及びマウント32に装着された研磨パッド70が回転する。
厚み測定手段15は、板状ワークに測定光を放射して板状ワークで反射した反射光を受光する測定部51と、測定部51が放射した測定光を平行光に変換するコリメータレンズ52と、測定部51が受光した反射光に基づいて板状ワークの厚みを算出する制御手段53とを備えている。
研磨手段13を構成する回転軸31は、パイプ状の直管であり、中央には長さ方向(±Z方向)に貫通する空洞311を備えている。また、研磨パッド70の中央には、±Z方向に貫通する円孔73を備えている。マウント32に装着された研磨パッド70の円孔73は、回転軸31の空洞311と連通している。測定部51が放射する測定光は、−Z方向へ進み、回転軸31の空洞311及び研磨パッド70の円孔73を通って、チャックテーブル12に保持された板状ワークに到達する。板状ワークに到達した測定光が反射した反射光は、+Z方向へ進み、研磨パッド70の円孔73及び回転軸31の空洞311を通って、測定部51に戻る。
また、研磨装置10は、研磨パッド70の研磨面にスラリーを供給するスラリー供給手段16を備えている。
スラリー供給手段16は、図3に示すように、有底円筒状の接続部61と、スラリー供給源80に接続されるスラリー供給管62と、スラリー供給管62を介してスラリー供給源80から供給されるスラリー81を接続部61の内側に噴射するスラリー供給ノズル63とを備えている。
接続部61は、底面611の中央に開口612を備え、回転軸31に固定され、回転軸31とともに回転する。開口612は、回転軸31の空洞311と連通している。スラリー供給ノズル63から噴射されたスラリー81は、回転軸31の回転による遠心力を受けつつ、開口612から回転軸31の空洞311内に流れ込む。空洞311内に流れ込んだスラリー81も、回転による遠心力を受け、回転軸31の内壁に沿って流れる。そして、回転軸31の下端まで達したスラリー81は、円孔73の内壁に沿って流れ、円孔73の下端から放出され、研磨部72の研磨面とチャックテーブル12に保持された板状ワークの上面との間に供給される。研磨面と板状ワークとの間に供給されたスラリー81は、やはり回転による遠心力を受けて、板状ワークの外側へと広がる。これにより、研磨面全体にスラリー81を供給することができる。
スラリー81は、回転による遠心力を受けて回転軸31の内壁に沿って供給されるので、空洞311の中央には、光が通る通り道が確保され、厚み測定手段15が放射する測定光を板状ワークに到達させることができる。
図4に示すように、厚み測定手段15の測定部51は、測定光591を放射する発光部511と、発光部511が放射した測定光591を板状ワークに向けて−Z方向へ反射させるミラー512と、反射した測定光591を透過するセンサーヘッド513と、測定光591が板状ワーク90において反射した反射光594を分光する回折格子514と、回折格子514で分光された光595を受光するイメージセンサー515とを備えている。イメージセンサー515は、複数の受光部が直線状に配置されて構成されている。
発光部511は、例えばスーパールミネッセントダイオード(SLD)であり、発光部511が放射する測定光591は、例えば近赤外線領域で比較的広いスペクトル幅を有する。測定光591の波長は、例えば800μm以上であることが好ましい。板状ワーク90で反射した反射光594は、板状ワーク90の上面91で反射した光592と、下面92で反射した光とが干渉した光である。光592と光593との位相が揃う場合は、振幅が大きくなり、光592と光593との位相がずれる場合は、振幅が小さくなり、特に、光592と光593との位相が逆になる場合は、振幅が0になる。波長によって光592と光593との位相差が異なるので、反射光594は波長によって振幅が異なる。したがって、反射光594のスペクトルを解析することにより、光592と光593との光路長差を求めることができる。光592と光593との光路長差は板状ワーク90の厚みdの2倍であるため、求めた光路長差の1/2が板状ワーク90の厚みdとなる。
回折格子514は、波長によって異なる方向に反射光594を反射させることにより、反射光594を分光し、回折格子514によって分光された光595をイメージセンサー515が受光する。イメージセンサー515の受光部の位置により、回折格子514における反射光594の反射点に対する角度が異なるので、各受光部は、反射光594のうち特定の波長の成分を受光する。
イメージセンサー515は、各受光部が受光した光の強さを示す信号を出力する。図2に示した制御手段53は、イメージセンサー515が出力した信号をフーリエ変換するなどして、光592と光593との光路長差を算出し、板状ワーク90の厚みdを求める。
このように、板状ワーク90の上面91で反射した光592と下面92で反射した光593との光路長差を算出することにより、板状ワーク90の厚みdを求めるので、板状ワーク90の厚みdを正確に計測することができる。
図2に示したように、厚み測定手段15は、研磨パッド70の円孔73と回転軸31の内側の空洞311とを介して、チャックテーブル12に保持された板状ワークの厚みを計測する。これにより、板状ワークの上面が、研磨パッド70の外側に露出していなくても、板状ワークの厚みを計測することができる。すなわち、板状ワークの上面が研磨パッド70の外側に露出しない研磨加工中であっても、板状ワークの厚みを計測することができる。板状ワークの上面を研磨パッド70の外側に露出させる必要がないので、板状ワークの外周に欠けが生じるのを防ぐことができる。
厚み測定手段15の制御手段53は、板状ワークの厚みを所定の間隔で繰返し算出する。これにより、研磨効率を低下させることなく、研磨する板状ワークの厚みを管理することができる。制御手段53が算出した板状ワークの厚みが、あらかじめ設定された仕上げ厚みに達したら、研磨装置10は、研磨を終了する。これにより、確実に板状ワークを所望の厚みに仕上げることができる。
図5に示す第二の研磨装置10Aは、上述した研磨装置10の厚み測定手段15及びスラリー供給手段16に代えて、厚み測定手段15Aとスラリー供給手段16Aとを備えている。それ以外は、研磨装置10と同様である。
スラリー供給手段16Aは、中空円柱状の接続部61Aと、スラリー供給源80に接続されてスラリー供給源80と接続部61Aとを連通させるスラリー供給管62とを備えている。接続部61Aは、ロータリージョイントであり、上面及び下面に円形の開口を有し、その中を回転軸31が貫通している。上面及び下面の開口と回転軸31との間は、回転軸31を回転可能とするとともに、スラリーが漏れないように密閉されている。
回転軸31の側面には、空洞311と回転軸31の外周側とを連通させるスラリー取入口312が設けられている。スラリー取入口312は、接続部61Aの内部に相当する高さに配置され、回転軸31が回転しても常に接続部61Aの中に位置する。スラリー供給源80からスラリー供給管62を介して供給されたスラリーは、接続部61Aの中に溜まり、スラリー取入口312を介して空洞311内に流れ込む。空洞311内に流れ込んだスラリーは、回転軸31の内壁に沿って下降し、回転軸31と棒状部54との間を通って、円孔73の下端から放出される。
厚み測定手段15Aは、±Z方向に延びる棒状部54と、棒状部54の先端に設けられた先端部55と、棒状部54を研磨手段13の回転軸31の空洞311内に挿入された状態で支持する支持部56とを備えている。先端部55は、研磨手段13のマウント32に装着された研磨パッド70の円孔73の内部に位置している。
厚み測定手段15Aは、図2に示した研磨装置10の厚み測定手段15と同様、測定光を板状ワークに放射し、反射光をスペクトル解析することにより、板状ワークの厚みを測定する。棒状部54は、例えば光ファイバであり、上端に設けられた測定部が放射した測定光を伝達して先端部55から板状ワークに放射し、測定光が板状ワークで反射した反射光を伝達して測定部に戻す。なお、棒状部54は、±Z方向に貫通した貫通孔を備える円筒状の単なる直管であってもよい。
このように、棒状部54の中を測定光や反射光が通ることにより、スラリー供給手段16によって供給されるスラリー81の量が多い場合でも、測定光や反射光がスラリー81に遮られることなく、板状ワークの厚みを測定することができる。
なお、厚み測定手段15Aは、反射光の光路差長に基づいて板状ワークの厚みを計測する分光干渉厚み測定器ではなく、異なる構成で板状ワークの厚みを計測するものであってもよい。例えば、厚み測定手段15Aは、先端部55から超音波を放射し、放射した超音波が板状ワークの上面及び下面で反射した超音波を受信することにより、板状ワークの厚みを計測する超音波センサーであってもよい。また、厚み測定手段15Aは、先端部55から板状ワークの上面に空気などの流体を吹き付け、流体の圧力を測定することにより、先端部55から板状ワークの上面までの距離を算出し、あらかじめ算出しておいた先端部55からチャックテーブル12の保持面121までの距離との差を求めることにより、板状ワークの厚みを計測する背圧センサーであってもよい。
研磨装置は、図2に示した厚み測定手段15と図5に示したスラリー供給手段16Aとを組み合わせたものであってもよいし、図5に示した厚み測定手段15Aと図3に示したスラリー供給手段16とを組み合わせたものであってもよい。
厚み測定手段は、研磨パッド70の円孔73と回転軸31の内側の空洞311とを介して板状ワークにアクセスし、板状ワークの厚みを計測するものであればよく、回転軸31よりも上に配置されてもよいし、一部が回転軸31の空洞311内に配置されていてもよいし、全部が回転軸31の空洞311内に配置されてもよい。
10,10A 研磨装置、
11 基台、12 チャックテーブル、121 保持面、
13 研磨手段、31 回転軸、311 空洞、312 スラリー取入口、
32 マウント、33 ハウジング、34 モータ、
14 送り手段、41 モータ、42 ねじ軸、43 移動部、44 ガイド、
15,15A 厚み測定手段、
51 測定部、511 発光部、512 ミラー、513 センサーヘッド、
514 回折格子、515 イメージセンサー、52 コリメータレンズ、
53 制御手段、54 棒状部、55 先端部、56 支持部、
591 測定光、592,593,595 光、594 反射光、
16,16A スラリー供給手段、61,61A 接続部、611 底面、
612 開口、62 スラリー供給管、63 スラリー供給ノズル、
70 研磨パッド、71 基台、72 研磨部、73 円孔、
80 スラリー供給源、81 スラリー、
90 板状ワーク、91 上面、92 下面

Claims (2)

  1. 保持面で板状ワークを保持するチャックテーブルと、
    該チャックテーブルの上方に配置され、該チャックテーブルに保持された該板状ワークの上面を研磨する研磨手段と、
    該研磨手段によって研磨される該板状ワークの該上面にスラリーを供給するスラリー供給手段と、
    該研磨手段によって研磨される該板状ワークの厚みを計測する厚み測定手段と、
    を備えた研磨装置であって、
    該研磨手段は、
    円板状に形成され中心を貫通する円孔を有する研磨パッドと、
    該研磨パッドが該板状ワークに接する研磨面に対して垂直な方向に延在し、長さ方向に貫通する空洞を有するパイプ状の回転軸と、
    該回転軸を回転させるモータと、
    を備え、
    該スラリー供給手段は、
    スラリー供給源に接続されるスラリー供給管と、
    該回転軸が回転可能となるように該回転軸に対して接続され、該スラリー供給管を介して該スラリー供給源から供給される該スラリーを該回転軸の内壁に沿って供給する接続部と、
    を備え、
    該厚み測定手段は、該研磨パッドの該円孔と該回転軸の該空洞とを介して、研磨中における該板状ワークの厚みを計測する、研磨装置。
  2. 前記厚み測定手段は、
    測定光を放射する発光部と、
    該発光部から放射された該測定光を平行光に変換するコリメータレンズと、
    該コリメータレンズによって変換された該平行光が前記板状ワークに入射し該板状ワークの上面で反射した光と該板状ワークの下面で反射した光とが干渉した反射光を分光する回折格子と、
    該回折格子によって分光された光を受光するイメージセンサーと、
    該イメージセンサーで受光した該光の受光量に基づいて、該板状ワークの該上面で反射した光と該板状ワークの該下面で反射した光との光路長差を算出することにより、該板状ワークの厚みを算出する制御手段と、
    を備える、請求項1記載の研磨装置。
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