JP2015122357A - ウェーハの乾燥装置及びウェーハの乾燥方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 シンプルな構造の装置であっても、生産性の低下を招くことなく、乾き残しを低減できるウェーハの乾燥装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ウェーハの第1表面側に設けられた第1エアー供給管と、ウェーハの第2表面側に設けられた第2エアー供給管とを有するエアー供給部と、ウェーハを垂直に保持するウェーハ保持部とを含み、ウェーハがエアー供給部に対して相対的に移動するように構成され、第1エアー供給管には、ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口が設けられ、第2エアー供給管には、ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口が設けられ、複数の第1エアー吹き出し口及び複数の第2エアー吹き出し口は、それぞれ、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、ウェーハに対して垂直方向に対して角度をつけて設けられるウェーハの乾燥装置。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウェーハなどのウェーハに乾燥処理を行うウェーハの乾燥装置、及び、このウェーハの乾燥装置を用いたウェーハの乾燥方法に関し、特にウェーハにエアーを吹き付けて乾燥を行うウェーハの乾燥装置、及び、このウェーハの乾燥装置を用いたウェーハの乾燥方法に関する。
従来、湿式表面処理された液晶基板等の角形基板を水平に搬送しながら、スリット状の気体噴射口からエアーを吹き付けて、該角形基板の両面を乾燥させることが行われていた(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
また、シリコンウェーハの加工工程においても乾燥処理を行う工程がある。例えば、スラリーや薬液等を用いる工程では、ウェーハは濡れてしまい、この濡れたウェーハは、加工の中間工程、又は、最終工程で、様々な目的で乾燥され、又、洗浄後に乾燥される。
中間工程での乾燥目的としては、ウェーハの清浄度を改善、次工程への搬送を容易にする、中間品質検査に対応するため、等がある。
また、最終工程の乾燥目的としては、ウェーハ清浄度を改善、最終品質検査に対応、出荷に対応するため、等がある。
それぞれの工程の目的や適応された洗浄に応じて異なる乾燥方法が選択されるのが一般的であるが、代表的な乾燥方法として、エアーブロー、スピン乾燥、IPA蒸気乾燥、IPA直接置換、真空・減圧乾燥、マランゴニ乾燥、等の方法があげられる。
本発明では、厳しい清浄度が要求される最終工程では無く、中間工程に主眼を置いている。清浄度への要求が厳しくない中間工程では、設備コストの低減や生産性を向上させるため、目的に応じたできるだけ簡易的な洗浄や乾燥方法が望ましい。
この様な背景の中で、図5に示したようなシンプルな構造の装置で乾燥を実施してきた。
すなわち、所定の間隔で隔てられた複数のエアー吹き出し口(第1エアー吹き出し口208、第2エアー吹き出し口210)をそれぞれ有する2本のパイプ(第1エアー供給管204、第2エアー供給管206)の間を、エアー212を吹き出しながらウェーハ220を下から上へ通過させることにより、ウェーハ220の両面を同時に乾燥させている。
このようにして、吹き付けられたエアー212と重力により、ウェーハ220の表面上の液滴は、ウェーハ220の上方移動と共に下方へ移動していき、ウェーハ220から落下していく。
そして、ウェーハ220が完全に2本のパイプ(第1エアー供給管204、第2エアー供給管206)を通過したときに、ウェーハ220の全面の乾燥を終了する。
なお、図5(a)は、乾燥装置200を側面から見た図であり、図5(b)は、図5(a)の乾燥装置200を水平方向に90°回転させたときの乾燥装置200を側面から見た図である。
特開平10−275792号公報 特開平09−159360号公報
しかしながら、上述のこれまで採用してきた方法では、下記に示すような乾き残しが発生してしまうことがあることが判明した。
すなわち、図6に示すように、エアー吹き出し口から吹き付けられたエアー212がウェーハ220の表面に衝突すると圧力分布が生じる。そのため、圧力の低いところ(エアー吹き出し口間の領域に相当する箇所)に乾き残しが発生しやすく、図7のように縦に乾き残し230が発生する。
上述の通り、一般に中間工程での乾燥は、清浄度への要求は厳しくない。しかしながら、中間検査を実施する場合は、乾き残しが測定結果の信頼性を低下させてしまう。ここでいう中間検査とは、例えばレーザー変位形を用いたウェーハ厚、形状測定機、接触式の厚さ測定機、静電容量を利用したウェーハ厚さ、形状測定機、CCDカメラを用いたウェーハ端面形状測定機、接触式粗さ測定機、位相干渉を利用した粗さ測定機、等が挙げられる。
図8に光学式ウェーハ断面形状測定機で測定した例を示す。
図8(a)に測定フローを示し、図8(b)に測定箇所を示す。
図8(c)にウェーハ外周部と中央付近に乾き残しが発生したウェーハのレーザー変位形を用いた形状測定結果(1回目測定結果)を示し、図8(d)に再乾燥し乾き残しを除去したウェーハのレーザー変位形を用いた形状測定結果(2回目測定結果)を示す。
図8(c)では、水滴の影響により、測定機で処理できるノイズレベルを超えたために、この部分のデータが削除され、形状が途切れてしまったり(ウェーハの中央部参照)、あるいは急峻な形状の変化があるかのような結果(ウェーハの周辺部参照)になってしまっている。
このウェーハを完全に乾燥させ、再測定した図8(d)では、図8(c)で見られたような不連続な形状変化は見られず、連続的な形状を示した。
図8から乾き残しがあるウェーハは異常形状を示すことがわかる。従って、測定の信頼性を高めるには、乾き残しが発生しないよう改善する必要がある。
上記のような再乾燥、あるいは、ウェーハの移動速度を低下させて乾燥時間を延長することでも乾き残しの低減が期待できるが、いずれも生産性の低下を招いてしまう。
さらに、乾き残しには主に2種類あり、ウェーハ表面上の乾き残しと、ウェーハ端面における乾き残しがある。
まず、ウェーハ表面上の乾き残しについて説明する。
図6に示したように、エアー吹き出し口は一定間隔で配置されている。この吹き出し口から吹き付けられた気体は、ウェーハ上で圧力分布を発生させる。すなわち、吹き出し口に対応する位置では圧力が高く、吹き出し口間では圧力が低くなる)
ウェーハ上に水たまりのように存在していた液体は、この圧力分布により圧力の低い方へ分散移動する。
従って、圧力が低いところに水滴が分散し残りやすくなってしまう。
図5の乾燥装置200による乾燥は、ウェーハ上の液体をウェーハの下方へ落とすことによるものなので、図5(b)に記したように、この下方への移動を促進させるため吹き出しを水平ではなく、斜め下方へ向ける場合が多い。
しかしながら、吹き出し方向を下に向けすぎると、吹き出し口とウェーハとの間の距離が長くなり、ウェーハ上での吹きつけ圧力が全体的に低下し、特に吹き出し口間に相当する箇所での乾き残しが助長される。
次に、ウェーハ端面における乾き残しについて、図9を参照しながら説明する。
図9(a)は、乾燥装置200を側面から見た図であり、図9(b)は、図9(a)の乾燥装置200を水平方向に90°回転させたときの乾燥装置200を側面から見た図である。なお、図9(a)において、エアー供給管は省略されている。
ウェーハ220の端面においては、エアー212を吹き付けられた液体の一部は、ウェーハの外に飛散するが、一部は端面に付着したまま水滴234として残留する。
ウェーハ表面上を下方移動する液体は、ウェーハの移動速度(ウェーハ上の吹きつけ口移動速度)とある程度まとまった量で移動するため、比較的落下しやすい。
一方、ウェーハ220の端面に付着した水滴234は、重力によりウェーハ220の端面に沿ってゆっくり下方へ移動する。この水滴は比較的量が少なく、液体の表面張力により落下しづらい。このようにゆっくり移動するため、最下点に到達したときには既に吹き付けノズルが通過してしまい、ウェーハ220の最下点で吹き付けられる機会を逃しやすく、乾き残しとなりやすい。
さらに、ウェーハ220の最下点で吹き付けられるチャンスがあった場合でも、ウェーハ220の表裏の吹きつけ口高さや角度の僅かな違いで、気圧が低い方へ液滴236が移動してしまい、効果的に液滴を落下させることは難しい。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、シンプルな構造の装置であっても、生産性の低下を招くことなく、乾き残しを低減できるウェーハの乾燥装置、及び、この乾燥装置を用いた乾燥方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、ウェーハの両面を同時に乾燥させるウェーハの乾燥装置であって、前記ウェーハの第1表面側に設けられた第1エアー供給管と、前記ウェーハの第2表面側に設けられた第2エアー供給管とを有するエアー供給部と、前記ウェーハを垂直に保持するウェーハ保持部とを含み、前記ウェーハが前記エアー供給部に対して相対的に移動するように構成され、前記第1エアー供給管には、前記ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口が設けられ、前記第2エアー供給管には、前記ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口が設けられ、前記複数の第1エアー吹き出し口、及び、前記複数の第2エアー吹き出し口は、それぞれ、前記ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、前記ウェーハに対して垂直方向に対して角度をつけて設けられているものであることを特徴とするウェーハの乾燥装置を提供する。
このように、所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口、及び、所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口が、それぞれ、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、ウェーハに対して垂直方向に対して角度をつけて設けられていることで、ウェーハ表面上の液滴をウェーハの垂直方向の中心線に対して中央に集めながら乾燥することができるので、液滴の重量を大きくし、下方への移動とウェーハからの落下を促進することができるとともに、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部への液滴移動を減少させ、ウェーハ端面への水滴付着を防止することができ、乾き残しを低減させることができる。
このとき、前記第1エアー供給管、及び、前記第2エアー供給管は、その中央部が端部より高くなっているものであることが好ましい。
第1エアー供給管、及び、前記第2エアー供給管がこのような構成であれば、ウェーハ表面上の液滴を、より確実にウェーハの垂直方向の中心線に対して中央に集めながら乾燥することができる。
このとき、前記エアー供給部が固定され、前記ウェーハ保持部が前記ウェーハを垂直方向に移動させるようにすることができる。
上記の構成であれば、エアー供給部を移動させる必要がないので、乾燥装置をよりシンプルな構造にすることができる。
このとき、前記ウェーハ保持部が前記ウェーハを固定し、前記エアー供給部が垂直方向に移動するようにすることができる。
上記の構成であれば、ウェーハを移動させる必要がないので、乾燥中にウェーハ保持部からウェーハが落下することを確実に防ぐことができる。
このとき、前記ウェーハは、半導体ウェーハとすることができる。
ウェーハとして、半導体ウェーハを好適に乾燥することができる。
本発明はまた、上記のウェーハの乾燥装置を用いたウェーハの乾燥方法であって、前記ウェーハを前記エアー供給部に対して相対的に上方向に移動させながら、前記複数の第1エアー吹き出し口、及び、前記複数の第2エアー吹き出し口からエアーを前記ウェーハに吹き付けて、前記ウェーハの表面に付着した液体を前記ウェーハの垂直方向の中心線に対して中央部に寄せながら落下させて、前記ウェーハの両面を同時に乾燥させることを特徴とするウェーハの乾燥方法を提供する。
このようなウェーハの乾燥方法を用いれば、液滴の重量を大きくし、下方への移動とウェーハからの落下を促進することができるとともに、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部への液滴移動を減少させ、ウェーハ端面への水滴付着を防止することができ、ウェーハの乾き残しが低減できる。
以上のように、本発明によれば、ウェーハ表面上の液滴をウェーハの垂直方向の中心線に対して中央に集めながら乾燥することができるので、液滴の重量を大きくし、下方への移動とウェーハからの落下を促進することができるとともに、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部への液滴移動を減少させ、ウェーハ端面への水滴付着を防止することができ、ウェーハの乾き残しが低減できる。
本発明のウェーハの乾燥装置を示す図である。 水滴をウェーハの垂直方向の中心線に対して中央部に集める方策の概念図である。 エアー供給管の中央部が端部より高くなっている場合の概念図である。 本発明におけるウェーハの乾燥装置の問題点を解決する手段の概念図である。 従来のウェーハの乾燥装置を示す図である 従来のウェーハの乾燥装置の問題点を説明するための図である。 従来のウェーハの乾燥装置の問題点を説明するための他の図である。 乾き残りによって生ずる問題点を説明するための図である。 従来のウェーハの乾燥装置の他の問題点を説明するための図である。
以下、本発明について、実施態様の一例として、図を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
前述したように、図5の乾燥装置200においては、乾き残しが発生してしまうことがあるという問題があり、乾き残しが発生すると、図8に示したように、中間検査で実施する測定(例えば、光学式ウェーハ断面形状測定機での測定)の測定結果の信頼性を低下させてしまうという問題があった。
そこで、本発明者らは、シンプルな構造の装置であっても、生産性の低下を招くことなく、乾き残しを低減できるウェーハの乾燥装置について鋭意検討を重ねた。
その結果、本発明者らは、所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口、及び、所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口が、それぞれ、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、ウェーハに対して垂直方向に対して角度をつけて設けられていることで、ウェーハ表面上の液滴をウェーハの垂直方向の中心線に対して中央に集めながら乾燥することができ、それにより、液滴の重量を大きくし、下方への移動とウェーハからの落下を促進することができるとともに、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部への液滴移動を減少させ、ウェーハ端面への水滴付着を防止することができることを見出し、本発明をなすに至った。
以下、図1〜図4を参照しながら、本発明のウェーハの乾燥装置を説明する。
図1(a)は本発明のウェーハの乾燥装置100の上面から見た図を示しており、図1(b)は本発明のウェーハの乾燥装置100の側面から見た図を示しており、図1(c)は図1(b)の乾燥装置100を水平方向に90°回転させたときの乾燥装置100を側面から見た図である。
本発明のウェーハの乾燥装置100は、エアー供給部102と、ウェーハ120を保持するウェーハ保持部(ウェーハハンド)114を有している。エアー供給部102は、第1エアー供給管104と、第2エアー供給管106とを有し、第1エアー供給管104と、第2エアー供給管106とは連結部116によって連結されている。エアー供給部102は、エアー112が供給されるエアー供給口122を有しており、第1エアー供給管104には第1エアー供給口124が設けられ、第2エアー供給管106には第2エアー供給口126が設けられている。
第1エアー供給管104は、ウェーハ120の第1表面側に設けられ、第2エアー供給管106は、ウェーハ120の第2表面側に設けられている。第1エアー供給管104には、ウェーハ120側に所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口108が設けられ、第2エアー供給管106には、ウェーハ120側に所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口110が設けられている。
ウェーハの乾燥装置100は、ウェーハ120がエアー供給部102に対して相対的に移動するように構成されている。
エアー供給部102が固定され、ウェーハ保持部114がウェーハ120を垂直方向に移動させる構成とすることができるし、ウェーハ保持部114がウェーハ120を固定し、エアー供給部102が垂直方向に移動する構成とすることもできる。
第1エアー吹き出し口108は、図1(a)の吹き出し口付近拡大図に示されるように、ウェーハ120の垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、ウェーハ120に対して垂直方向に対して角度fを付けるように設けられている。
図2を参照しながら、さらに詳細に説明すると、連結部116側の第1エアー吹き出し口108は、エアー供給口122側の第1エアー吹き出し口108とは逆方向に角度が付けられていて、ウェーハ120の垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるようになっている。
第2エアー吹き出し口110も第1エアー吹き出し口108と同様の構成になっている。
このような構成により、水滴をウェーハ120の垂直方向の中心線に対して中央部に集めることができる。
図4に示すように、水滴をウェーハ120の垂直方向の中心線に対して中央部に集めながら、乾燥していけば、最下点に集まる水滴136の重量は大きくなり、落下しやすくなり、乾き残しを低減させることができる。また水滴をウェーハ120の垂直方向の中心線に対して中央部に集めることにより、水滴がウェーハ端部に付着することを抑制することができ、小さな水滴がウェーハ周囲を伝わって最下点に移動してくることを防止でき、乾き残しを低減させることができる。
また、図1(b),(c)に示すように、第1エアー供給管104、及び、第2エアー供給管106は、その中央部が端部より高くなっていることが好ましい(図中、第1エアー供給管104は示されていないが、第2エアー供給管106と同様の構成になっている)。
ウェーハの乾燥装置100の側面図である図3を参照しながら、さらに詳細に説明する。ウェーハ120の垂直方向の中央線(C線)に対する中央部に対応する箇所が高くなるように、第1エアー供給管104、及び、第2エアー供給管106を曲げることによって、以下のような効果を得ることができる。
A線上では、まずウェーハの垂直方向の中央線に対する中央部にエアーが吹き付けられる。ここでエアーが吹き付けられた液滴は、その重力と吹き付け圧力差から主に下方に落下していく。側方に移動しようとしても、曲げられた吹き出し管から吹き出されるエアーに妨げられ、移動できない。
ウェーハの上方移動が進んだB線上では、既にウェーハ120の垂直方向の中央線に対する中央部では、エアー吹き出し口が通過してしまっているため、エアー吹き出し圧力が低下している。一方、ウェーハ外周部では、ちょうどエアー吹き出し口が通過しているので、エアーの吹き出し圧力が高まっている。この圧力差により、ウェーハ120の表面の液滴は、ウェーハの垂直方向の中央線に対する外周部から中央部へ集められる。さらに液滴が集められることにより、その重力が増加する。
最終的にウェーハ120の垂直方向の中央線に対する中央部の最下端に集まった液滴は、増加重力が表面張力を上回り、自然に落下しやすい状態にあり、さらに吹き付けられたエアーにより落下する。
上記に説明したように、第1エアー供給管104、及び、第2エアー供給管106がその中央部が端部より高くなっていることで、ウェーハ表面上の液滴を、より確実にウェーハの垂直方向の中心線に対して中央に集めながら乾燥することができる。
また、図1(c)に示すように、第1エアー吹き出し口108、及び、第2エアー吹き出し口110は、水滴の下方への移動を促進させるために、上下方向に関して下向きに形成することができる。
さらに、2本のエアー供給管の間隔gを、端部よりも中央部を狭くすることにより、ウェーハの最下点で最後に残る液滴の乾燥を促進することができる
なお、ウェーハ保持部114は、図1では、真空吸着方式のウェハーハンドを例示したが、エッジグリップ方式のものでもよい。
また、第1エアー供給管104、及び、第2エアー供給管106は、図1では、中央部が高くなっているものを例示したが、第1エアー吹き出し口108、及び、第2エアー吹き出し口110が、図2に示すようにウェーハに対して角度をつけて設けられているものであれば、第1エアー供給管104、及び、第2エアー供給管106は、曲がっていなくても良い。
また、図1において、吹き出し口径dは直径0.3〜2mmの範囲とすることができ、吹き出し口間隔eは10mm以下とすることができ、吹き出し口角度(水平方向)fは1〜15°の範囲とすることができ、エアー供給管の曲げ角度hは170〜90°の範囲とすることができ、吹き出し口角度(上下方向)kは−1〜−15°の範囲とすることができる。
次に、本発明のウェーハの乾燥方法を説明する。
上記で説明した図1のウェーハの乾燥装置100を用いて、ウェーハ120をエアー供給部102に対して相対的に上方向に移動させながら、第1エアー供給管104に設けられた複数のエアー吹き出し口108、及び、第2エアー供給管106に設けられた複数のエアー吹き出し口110から、エアーを吹き付けて、ウェーハ120の表面に付着した液体をウェーハの垂直方向の中心線に対して中央部に寄せながら落下させて、ウェーハ120の両面を同時に乾燥させる。
このようなウェーハの乾燥方法を用いれば、液滴の重量を大きくし、下方への移動とウェーハからの落下を促進することができるとともに、ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部への液滴移動を減少させ、ウェーハ端面への水滴付着を防止することができ、乾き残しを低減させることができる。
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例)
図1に示したウェーハの乾燥装置100を用いて、上記で説明したウェーハの乾燥方法により、直径300mmのシリコンウェーハの両面乾燥を行った。なお、シリコンウェーハは、両面研磨後のもので、高分子濡れ剤を含むスラリーで覆われている。
また、使用したウェーハの乾燥装置100の詳細を以下に示す。
エアー供給管の外径a:直径13mm
エアー供給管の内径b:直径9mm
エアー供給管の肉厚c:直径2mm
吹き出し口径d :直径1mm
吹き出し口間隔e :5mm
吹き出し口角度(水平方向)f:15°
エアー供給管の間隔g:中央部15mm、端部17mm
エアー供給管の曲げ角度h:165°
エアー供給圧力 :0.5MPa
ウェーハ移動速度j :25mm/sec
吹き出し口角度(上下方向)k:−5°
(比較例)
実施例と同様のシリコンウェーハの両面乾燥を、以下の点を除いて実施例と同様のウェーハの乾燥装置により行った。ただし、比較例においては、エアー供給管を曲げない構成とし(すなわち、エアー供給管の曲げ角度h:180°)、吹き出し口角度(水平方向)fを0°とし、吹き出し口角度(上下方向)kを0°とし、吹き出し口間隔eを10mmとし、エアー供給管の間隔gを17mmの平行配置とした。
実施例の両面乾燥後のシリコンウェーハと、比較例の両面乾燥後のシリコンウェーハについて、光学式厚み測定機でウェーハ断面形状を測定した。
その結果、比較例の両面乾燥後のシリコンウェーハでは、図8(c)に示したような乾き残しによる測定異常が5%発生したが、実施例の両面乾燥後のシリコンウェーハでは、上記の測定異常を0.5%に低減することができた。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
100、200…ウェーハの乾燥装置、 102…エアー供給部、
104、204…第1エアー供給管、 106、206…第2エアー供給管、
108、208…第1エアー吹き出し口、 110、210…第2エアー吹き出し口、
112、212…エアー、 114…ウェーハ保持部(ウェーハハンド)、
116…連結部、 120、220…ウェーハ、 122…エアー供給口、
124…第1エアー供給口、 126…第2エアー供給口、 230…乾き残し、
234…水滴、 136、236…ウェーハ最下点の水滴、
a…エアー供給管の外径、 b…エアー供給管の内径、 c…エアー供給管の肉厚、
d…吹き出し口径、 e…吹き出し口間隔、 f…吹き出し口角度(水平方向)、
g…エアー供給管の間隔、 h…エアー供給管の曲げ角度、 i…エアー供給圧力、
j…ウェーハ移動速度、 k…吹き出し口角度(上下方向)。

Claims (6)

  1. ウェーハの両面を同時に乾燥させるウェーハの乾燥装置であって、
    前記ウェーハの第1表面側に設けられた第1エアー供給管と、前記ウェーハの第2表面側に設けられた第2エアー供給管とを有するエアー供給部と、
    前記ウェーハを垂直に保持するウェーハ保持部と
    を含み、
    前記ウェーハが前記エアー供給部に対して相対的に移動するように構成され、
    前記第1エアー供給管には、前記ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第1エアー吹き出し口が設けられ、
    前記第2エアー供給管には、前記ウェーハ側に所定の間隔で隔てられた複数の第2エアー吹き出し口が設けられ、
    前記複数の第1エアー吹き出し口、及び、前記複数の第2エアー吹き出し口は、それぞれ、前記ウェーハの垂直方向の中心線に対して周辺部から中央部に向かってエアーを吹き付けるように、前記ウェーハに対して垂直方向に対して角度をつけて設けられているものであることを特徴とするウェーハの乾燥装置。
  2. 前記第1エアー供給管、及び、前記第2エアー供給管は、その中央部が端部より高くなっているものであることを特徴とする請求項1に記載のウェーハの乾燥装置。
  3. 前記エアー供給部が固定され、前記ウェーハ保持部が前記ウェーハを垂直方向に移動させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のウェーハの乾燥装置。
  4. 前記ウェーハ保持部が前記ウェーハを固定し、前記エアー供給部が垂直方向に移動するものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のウェーハの乾燥装置。
  5. 前記ウェーハは、半導体ウェーハであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のウェーハの乾燥装置。
  6. 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のウェーハの乾燥装置を用いたウェーハの乾燥方法であって、
    前記ウェーハを前記エアー供給部に対して相対的に上方向に移動させながら、前記複数の第1エアー吹き出し口、及び、前記複数の第2エアー吹き出し口からエアーを前記ウェーハに吹き付けて、前記ウェーハの表面に付着した液体を前記ウェーハの垂直方向の中心線に対して中央部に寄せながら落下させて、前記ウェーハの両面を同時に乾燥させることを特徴とするウェーハの乾燥方法。
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