JP2015120664A

JP2015120664A - ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法、並びにヨード基含有化合物修飾剤

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Publication number: JP2015120664A
Application number: JP2013265777A
Authority: JP
Inventors: 友輝宇留賀; Yuki Uruga; 有希子菱田; Yukiko Hishida; 義哲姜; Yoshitetsu Kyo
Original assignee: NOF Corp
Current assignee: NOF Corp
Priority date: 2013-12-24
Filing date: 2013-12-24
Publication date: 2015-07-02
Anticipated expiration: 2033-12-24
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Abstract

【課題】新規なボロン酸含有ホスホリルコリン化合物を提供する。【解決手段】ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１）で表される。（式（１）中、ｊは、０〜１５の整数を示す。ｋは、１〜９の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。−Ｘ（Ａ１）−は、−Ｘ−Ａ１−と、−Ａ１−Ｘ−と、−Ｘ−とのうちのいずれか１つを示す。Ｘは、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを示す。Ａ１は、所定の構造を示す。）【選択図】なし

Description

本発明は、ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法、並びにヨード基含有化合物修飾剤に関する。

ホスホリルコリン基は、生体膜を構成するリン脂質の極性基である。ホスホリルコリン基は、親水性、保湿性、生体適合性に優れ、またタンパク質の吸着を抑制する作用を有する。

ホスホリルコリン基を有する化合物として、例えば、α−グリセロホスホリルコリンや、特許文献１，２に記載された２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体が知られている。

α−グリセロホスホリルコリンは、例えば、乳化剤や保湿剤の原料として用いることができる。２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体は、例えば、化粧品やコンタクトレンズや医療材料の原料として用いることができる。

ホスホリルコリン基とボロン酸との両方を同一分子内に有する化合物（ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物）は、ヨード基を有する化合物をホスホリルコリン基で修飾するための修飾剤として用いることができる。ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法が特許文献３，４に開示されている。

特許文献３に記載の技術では、オレフィン含有ホスホリル化合物に対し、ジボランを用いてヒドロホウ素化反応させた後、加水分解させることにより、アルキルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物が得られる。

特許文献４に記載の技術では、蛍光物質を含むフェニルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物と、フェニルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物との鈴木−宮浦クロスカップリングによって、フェニルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物をホスホリルコリン基で修飾して蛍光ホスホリルコリン化合物が得られる。特許文献４に記載の蛍光ホスホリルコリン化合物は癌治療における残留悪性腫瘍幹細胞の存在の判定に用いることができる。

特開平７−１１８１２３号公報特開２０００−２７９５１２号公報米国特許第５１４４０４５号明細書特表２０１２−５２６８２２号公報

しかしながら、特許文献３で得られるアルキルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物では、ヨード基含有化合物との鈴木−宮浦クロスカップリング反応における反応性が、フェニルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物よりも著しく低い。そのため、アルキルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、ヨード基含有化合物をホスホリルコリン基で十分に修飾できない可能性がある。

また、特許文献４で用いられるフェニルボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法は、パラヨードベンジルブロミドを原料とした８工程にもわたる煩雑な製造工程を含む。

更に、特許文献３及び特許文献４に記載のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物では、ボロン酸とホスホリルコリン基とがアルキレン基やエーテル結合により接続されている。一方で、アルキレン基やエーテル結合以外の官能基を含むボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は一般的に知られていない。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、新規なボロン酸含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法、並びにヨード基含有化合物修飾剤を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、下記式（１）で表される。

（式（１）中、ｊは、０〜１５の整数を示す。ｋは、１〜９の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。−Ｘ（Ａ_１）−は、−Ｘ−Ａ_１−と、−Ａ_１−Ｘ−と、−Ｘ−とのうちのいずれか１つを示す。Ｘは、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを示す。Ａ_１は、下記式（２ａ）で表される構造と、下記式（２ｂ）で表される構造と、下記式（２ｃ）で表される構造とのうちのいずれか１つである。）

新規なボロン酸含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法、並びにヨード基含有化合物修飾剤を提供する

本発明の一実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、下記式（４）で表される。

（式（４）中、ｊは、０〜１５の整数を示す。ｋは、１〜９の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。−Ｘ（Ａ_１）−は、−Ｘ−Ａ_１−と、−Ａ_１−Ｘ−と、−Ｘ−とのうちのいずれか１つを示す。Ｘは、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを示す。Ａ_１は、下記式（５ａ）で表される構造と、下記式（５ｂ）で表される構造と、下記式（５ｃ）で表される構造とのうちのいずれか１つである。）

この構成によれば、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを含むボロン酸含有ホスホリルコリン化合物を提供することができる。

本発明の一実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法では、下記式（７）で表されるボロン酸含有化合物と、下記式（８）で表されるホスホリルコリン基含有化合物とを用意し、上記ボロン酸含有化合物と上記ホスホリルコリン基含有化合物とを付加反応させる。

（式（７）中、Ｙは、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｊは、０〜１５の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。）

（式（８）中、Ｚ、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｋは、１〜９の整数を示す。）

この構成によれば、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを含むボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法を提供することができる。

本発明の一実施形態に係るヨード基含有化合物修飾剤は、上記ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物からなり、ヨード基を有する化合物をホスホリルコリン基で修飾する。
上記ヨード基を有する化合物が、ヨード基含有タンパク質、ヨード基含有ポリエチレングリコール、又はヨード基含有ペプチドであってもよい。

この構成によれば、ヨード基を有する化合物をホスホリルコリン基で良好に修飾可能なヨード基含有化合物修飾剤を提供することができる。

以下、本発明の実施形態を説明する。

＜ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物＞
本発明の一実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、ボロン酸及びホスホリルコリン基を有する。具体的に、本実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（９）で表される。

式（９）中、ｊは、０〜１５の整数を示す。ｊは、入手のしやすさから、０又は１であることが好ましい。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。−Ｘ（Ａ_１）−は、−Ｘ−Ａ_１−と、−Ａ_１−Ｘ−と、−Ｘ−とのうちのいずれか１つを示す。Ｘは、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを示す。Ａ_１は、式（１０）で表される構造と、式（１１）で表される構造とのうちのいずれか１つである。

なお、Ａ_１の向きは任意である。例えば、式（１０）で表される構造は−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−であっても、−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−であってもよい。更に、Ｘの官能基の向きは任意である。例えば、エステル結合は、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−であっても、−ＯＣ（Ｏ）−であってもよい。また、ウレタン結合は、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ−であっても、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨ−であってもよい。アミド結合は、−ＮＨＣ（Ｏ）−であっても、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−であってもよい。２級アミノ基を含むメチレン基は、−ＮＨＣＨ_２−であっても−ＣＨ_２ＮＨ−であってもよい。

式（９）において、Ｗがフェニル基であり、Ｘが―Ｃ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１０）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、３−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、４−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−３−ヒドロキシブチルホスホリルコリン、５−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−４−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、６−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、７−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、８−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−７−ヒドロキシオクチルホスホリルコリン、９−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−８−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１０−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−９−ヒドロキシデシルホスホリルコリン、１１−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−４−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、７−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−６−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、９−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−８−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１１−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−４−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、７−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−６−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、９−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−８−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１１−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１２）で表される６−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンや、式（１３）で表される１１−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがビニレン基であり、Ｘが―Ｃ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（２）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、６−（ジヒドロキシボリルビニルカルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、１１−［（６−ジヒドロキシボリル−５−ヘキセン−１−イル）カルボニルオキシ］−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１４）で表される６−（ジヒドロキシボリルエチニルカルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがフェニル基であり、Ｘが―Ｃ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１１）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、２−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、３−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−４−ヒドロキシブチルホスホリルコリン、４−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−５−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、５−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、６−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−７−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、７−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−８−ヒドロキシオクチルホスホリルコリン、８−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−９−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、９−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１０−ヒドロキシデシルホスホリルコリン、１０−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、４−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−５−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−７−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、８−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−９−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１０−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルボニルオキシ］−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、４−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−５−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−７−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、８−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−９−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１０−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１５）で表される５−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンや、式（１６）で表される１０−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがビニレン基であり、Ｘが―Ｃ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１１）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、５−（ジヒドロキシボリルエチニルカルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、１０−［（６−ジヒドロキシボリル−５−ヘキセン−１−イル）カルボニルオキシ］−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１７）で表される５−（ジヒドロキシボリルエチニルカルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがフェニル基であり、Ｘが―ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１０）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−４−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、７−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、９−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−８−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１１−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−４−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、７−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、９−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−８−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１１−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１８）で表される３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンや、式（１３）で表される６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがビニレン基であり、Ｘが―ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１０）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、３−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、６−［（４−ジヒドロキシボリル−３−ブテン−１−イル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２０）で表される３−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがフェニル基であり、Ｘが―ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（１１）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、４−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−７−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、８−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−９−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１０−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、４−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシペンチルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−７−ヒドロキシヘプチルホスホリルコリン、８−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−９−ヒドロキシノニルホスホリルコリン、１０−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）カルバモイルオキシ］−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２１）で表される２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンや、式（２２）で表される５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがビニレン基であり、Ｘが―ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ―であり、Ａ_１が式（３）で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、２−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、５−［（４−ジヒドロキシボリル−３−ブテン−１−イル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２３）で表される２−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがフェニル基であり、Ｘが―ＮＨＣＨ_２―で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、２−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリン、４−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］ブチルホスホリルコリン、６−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］ヘキシルホスホリルコリン、８−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］オクチルホスホリルコリン、１０−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］デシルホスホリルコリン、２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］エチルホスホリルコリン、４−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］ブチルホスホリルコリン、６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］ヘキシルホスホリルコリン、８−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］オクチルホスホリルコリン、１０−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］デシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１８）で表される２−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリンであることが好ましい。

式（９）において、Ｗがビニレン基であり、Ｘが―ＮＨＣＨ_２―で表される構造であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物としては、例えば、２−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリン、１０−［（４−ジヒドロキシボリル−３−ブテン−１−イル）アミノ］デシルホスホリルコリン等が挙げられる。

合成容易性の観点から、上記のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（１９）で表される２−［（３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリンであることが好ましい。

＜ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法＞
式（９）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２６）で表されるボロン酸含有化合物と、式（２７）で表されるホスホリルコリン基含有化合物との付加反応により得ることができる。

式（２６）中、Ｗはフェニル基又はビニレン基を示す。Ｙは、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｊは、０〜１５の整数を示す。ｊは、入手のしやすさから、０又は１であることが好ましい。Ｗがフェニル基の場合、入手のしやすさからは、ベンゼン環の置換基の位置は、Ｙを有する置換基に対してボロン酸がメタ位あるいはパラ位であることが好ましい。Ｗがビニレン基の場合、立体異性体はシス体でもトランス体でもよい。

式（２７）中、Ｚ、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｋは、１〜９の整数を示す。ｋは、入手のしやすさから、１、４又は９であることが好ましい。

式（９）において、Ｘが―Ｃ（Ｏ）Ｏ―であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物とを、非プロトン性極性溶媒中、塩基存在下で反応させることにより得られる。

式（２６）のＷがフェニル基であり、Ｙがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、３−ジヒドロキシボリル安息香酸、３−ジヒドロキシボリルフェニルエタン酸、３−（４−ジヒドロキシボリルフェニル）ブタン酸、４−ジヒドロキシボリル安息香酸、４−ジヒドロキシボリルフェニルエタン酸、４−（４−ジヒドロキシボリルフェニル）ブタン酸等が挙げられる。

式（２６）のＷがビニレン基であり、Ｙがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、３−ジヒドロキシボリル−２−プロペン酸、５−ジヒドロキシボリル−４−ペンテン酸、７−ジヒドロキシボリル−６−ヘプテン酸等が挙げられる。

式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物としては、例えば、２，３−エポキシプロピルホスホリルコリン、３，４−エポキシブチルホスホリルコリン、４，５−エポキシペンチルホスホリルコリン、５，６−エポキシヘキシルホスホリルコリン、６，７−エポキシヘプチルホスホリルコリン、７，８−エポキシオクチルホスホリルコリン、８，９−エポキシノニルホスホリルコリン、９，１０−エポキシデシルホスホリルコリン、１０，１１−エポキシウンデシルホスホリルコリンが挙げられる。

式（９）において、Ｘが―ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ―であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物とを、極性溶媒中で反応させることにより得られる。

式（２６）のＷがフェニル基であり、Ｙがアミノ基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、（３−アミノフェニル）ジヒドロキシボラン、［３−（２−アミノメチル）フェニル］ジヒドロキシボラン、［（３−アミノエチル）フェニル］ジヒドロキシボラン、（４−アミノフェニル）ジヒドロキシボラン、［４−（２−アミノメチル）フェニル］ジヒドロキシボラン、［４−（３−アミノエチル）フェニル］ジヒドロキシボラン等が挙げられる。

式（２６）のＷがビニレン基であり、Ｙがアミノ基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、（３−アミノ−１−プロペニル）ジヒドロキシボラン、（４−アミノ−１−ブテニル）ジヒドロキシボラン等が挙げられる。

式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物としては、例えば、（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルホスホリルコリン、２−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）エチルホスホリルコリン、３−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）プロピルホスホリルコリン、４−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ブチルホスホリルコリン、５−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ペンチルホスホリルコリン、６−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ヘキシルホスホリルコリン、７−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ヘプチルホスホリルコリン、８−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）オクチルホスホリルコリン、９−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ノニルホスホリルコリンが挙げられる。

式（９）において、Ｘが―ＮＨＣＨ_２―であるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物とを、プロトン性極性溶媒中で反応させ、更に還元剤と反応させることにより得られる。

式（２６）のＷがフェニル基であり、Ｙがアミノ基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、（４−アミノフェニル）ジヒドロキシボラン、［４−（３−アミノエチル）フェニル］ジヒドロキシボランが挙げられる。

式（２６）のＷがビニレン基でＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物としては、例えば、（３−アミノ−１−プロペニル）ジヒドロキシボラン、（４−アミノ−１−ブテニル）ジヒドロキシボラン等が挙げられる。

式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物としては、ホルミルメチルホスホリルコリン、２−ホルミルエチルホスホリルコリン、３−ホルミルプロピルホスホリルコリン、４−ホルミルブチルホスホリルコリン、５−ホルミルペンチルホスホリルコリン、６−ホルミルヘキシルホスホリルコリン、７−ホルミルヘプチルホスホリルコリン、８−ホルミスオクチルホスホリルコリン、９−ホルミルノニルホスホリルコリンが挙げられる。

式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物は、例えば、米国特許第５，１４４，０４５号明細書に記載される製造方法により得ることができる。

式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物は、例えば、特開２００９−２４２２８９号公報に記載された製造方法により得ることができる。

式（２７）のＺがホルミル基であり、ｋ＝１であるホスホリルコリン基含有化合物は、例えば、特開２００５−１８７４５６号公報に記載された製造方法により得ることができる。

式（２７）のＺがホルミル基であり、ｋ＝２〜９であるホスホリルコリン基含化合物は、例えば、ジヒドロキシル基含有ホスホリルコリン化合物を酸化的開裂することにより得ることができる。このジヒドロキシル基含有ホスホリルコリン化合物は、例えば、米国特許第５，１４４，０４５号明細書に記載されたアルケニル基含有ホスホリルコリン化合物のエポキシ化により得られるエポキシ基含有ホスホリルコリン化合物を酸触媒存在下で開環することにより得ることができる。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物を、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物に開環付加反応させて、式（１２）〜（１７）で表されるようなエステル結合及び水酸基を有する反応生成物を得ることができる。得られる反応生成物は、そのまま未精製で用いることができる他、減圧乾燥、再沈殿、再結晶、カラム、イオン交換、ゲルろ過等の処理により単離、精製後に用いることもできる。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応に用いられる溶媒としては、一般的な非プロトン性溶媒を採用可能である。

採用可能な非プロトン性溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、アセトニトリル、アセトン、エチルメチルケトン、塩化メチレン、クロロホルム、シクロペンチルメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。なお、化合物の溶解性、化合物の反応性の観点から、非プロトン性溶媒はクロロホルムであることが好ましい。

本実施形態にて使用する非プロトン性溶媒の量は、式（２７）のＺがエポキシ基であるボロン酸含有化合物に対して質量比で通常１〜２０倍量、好ましくは２〜１５倍量、最も好ましくは４〜１０倍量である。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物の量は、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物に対してモル比で０．５〜２．０倍量、好ましくは０．８〜１．５倍量、最も好ましくは１．０〜１．２倍量である。

ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して０．５倍量より少ない場合には、高い反応転化率が得られない場合がある。また、ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して２．０倍量よりも多い場合には、反応転化率の向上に寄与せずに無駄になるボロン酸含有化合物が発生する。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムが挙げられる。なお、これら塩基の中でも、トリエチルアミンが特に好ましい。

本実施形態にて使用する塩基の量は、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物に対してモル比で０．０５〜０．５倍量、好ましくは０．１〜０．２倍量である。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物を、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物に開環付加反応させて、式（１８）〜（２４）で表されるようなウレタン結合及び水酸基を有する反応生成物を得ることができる。得られる反応生成物は、そのまま未精製で用いることができる他、減圧乾燥、再沈殿、再結晶、カラム、イオン交換、ゲルろ過等の処理により単離、精製後に用いることもできる。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがカルボキシル基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがエポキシ基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応における反応温度は、通常０〜８０℃、好ましくは３０〜６０℃、最も好ましくは４０〜５０℃の範囲である。

反応温度が０℃よりも低い場合には、反応に長時間を要する場合がある。また、８０℃を超える反応温度では、反応温度を高くしても反応速度が向上しないため、製造コストなどの観点から反応温度は８０℃以下に抑えることが好ましい。反応時間は、反応温度や濃度などの条件により適宜決定されるが、通常１〜１０時間程度であることが好ましい。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応に用いられる溶媒としては、一般的な極性溶媒を採用可能である。

採用可能な極性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。なお、化合物の溶解性、化合物の反応性の観点から、極性溶媒はメタノールであることが好ましい。

本実施形態にて使用する極性溶媒の量は、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物に対して質量比で通常１〜２０倍量、好ましくは２〜１５倍量、最も好ましくは４〜１０倍量である。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物の量は、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物に対してモル比で０．５〜３．０倍量、好ましくは１．０〜２．５倍量、最も好ましくは１．５〜２．０倍量である。

ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して０．５倍量より少ない場合は、高い反応転化率が得られない場合がある。また、ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して３．０倍量よりも多い場合には、反応転化率の向上に寄与せずに無駄になるボロン酸含有化合物が発生する。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがシクロカーボネート基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応における反応温度は、通常０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃、最も好ましくは２０〜３０℃の範囲である。

反応温度が０℃よりも低い場合には、反応に長時間を要する場合がある。また、５０℃を超える反応温度では、反応温度を高くしても反応速度が向上しないため、製造コストなどの観点から反応温度は５０℃以下に抑えることが好ましい。反応時間は、反応温度、濃度などの条件により適宜決定されるが、通常５〜２４時間程度であることが好ましい。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物を、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物に付加反応させて、式（２４）〜（２５）で表されるようなアミノ結合を有する反応生成物を得ることができる。得られる反応生成物は、そのまま未精製で用いることができる他、減圧乾燥、再沈殿、再結晶、カラム、イオン交換、ゲルろ過等の処理により単離、精製後に用いることもできる。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応に用いられる溶媒としては、一般的なプロトン性溶媒を採用可能である。

採用可能なプロトン性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｔ−ブタノール等が挙げられる。なお、化合物の溶解性、化合物の反応性の観点から、プロトン性溶媒はメタノール、エタノールであることが好ましい。

本実施形態にて使用するプロトン性溶媒の量は、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物に対して質量比で通常１〜６０倍量、好ましくは１０〜５０倍量、最も好ましくは２０〜４０倍量である。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物の量は、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物に対してモル比で０．５〜２．０倍量、好ましくは０．８〜１．５倍量、最も好ましくは１．０〜１．２倍量である。

ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して０．５倍量より少ない場合には、高い反応転化率が得られない場合がある。また、ボロン酸含有化合物の量がホスホリルコリン基含有化合物に対して２．０倍量よりも多い場合には、反応転化率の向上に寄与しない無駄なボロン酸含有化合物が発生する。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基であるボロン酸含有化合物と、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物との反応に用いられる還元剤としては、例えば、２−ピコリンボラン、シアノヒドロホウ素化ナトリウムが挙げられる。なお、還元剤は、２−ピコリンボランであることが好ましい。

本実施形態にて使用する還元剤の量は、式（２７）のＺがホルミル基であるホスホリルコリン基含有化合物に対してモル比で１．０〜２．５倍量、好ましくは１．５〜２．０倍量である。

本実施形態に係る製造方法において、式（２６）のＹがアミノ基である化合物と、式（２７）のＺがホルミル基である化合物との反応における反応温度は、通常０〜６０℃、好ましくは１０〜４０℃、最も好ましくは２０〜３０℃の範囲である。

反応温度が０℃よりも低い場合には、反応に長時間を要する場合がある。また、６０℃を超える反応温度では、反応温度を高くしても反応速度が向上しないため、製造コストなどの観点から反応温度は６０℃以下に抑えることが好ましい。反応時間は、反応温度、濃度などの条件により適宜決定されるが、通常１〜５時間程度であることが好ましい。

＜ヨード基含有化合物修飾剤＞
本実施形態に係る式（９）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物によって修飾可能なヨード基を有する化合物としては、例えば、ヨード化ポリエチレングリコール、ヨード化ペプチド、ヨード化タンパク質が挙げられる。

上記のヨード化ポリエチレングリコールの分子量は４００〜２００００である。

上記のヨード基を有するペプチドの分子量は１００〜１０００である。ペプチドを構成するアミノ酸の種類は任意である。

上記のヨード化タンパク質としては、例えば、ヨード基を有するＢＳＡ（アルブミンウシ血清由来），ヨード基を有するＫＬＨ（キーホールリモペットヘモシアニン），ヨード基を有するオボアルブミンが挙げられる。

ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物と、ヨード基を有する化合物とをパラジウム触媒存在下での鈴木−宮浦クロスカップリングによって、ヨード基を有する化合物をホスホリルコリン基で修飾することができる。得られる反応生成物は、そのまま未精製で用いることができる他、減圧乾燥、再沈殿、再結晶、カラム、イオン交換、ゲルろ過等の処理により単離、精製後に用いることもできる。

ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物とヨード基含有化合物との反応において、触媒は必須ではないが、反応時間短縮の観点から触媒を用いることが好ましい。

使用可能な触媒としては、０価又は２価のパラジウムを採用可能である。０価又は２価のパラジウムとしては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化［１，１‘−ビス（ジフェニルホスフィノ）−フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、塩化［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラジウム（ＩＩ）、塩化［ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）］パラジウム（ＩＩ）等が挙げられる。

本実施形態にて使用される触媒の量は、ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物に対してモル比で０．０１〜１倍量、好ましくは０．０２〜０．５倍量、最も好ましくは０．０５〜０．１倍量である。

本実施形態に係るヨード基含有化合物への修飾方法において、ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物とヨード基含有化合物との反応における溶媒としては、ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物で表される化合物が溶解する溶媒を適宜採用可能である。

採用可能な触媒としては、例えば、例えば水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｔ−ブタノール、Ｎ−Ｎ‘−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。化合物の溶解性、化合物の反応性の観点から、溶媒は水であることが好ましい。

本実施形態にて使用される触媒の量は、ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物に対して質量比で通常１〜６０倍量、好ましくは１０〜５０倍量、最も好ましくは２０〜４０倍量である。

ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物とヨード基含有化合物との反応における反応温度は、通常０〜８０℃、好ましくは２０〜７０℃、最も好ましくは４０〜６０℃の範囲である。

反応温度が０℃よりも低い場合には、反応に長時間を要する場合がある。また、８０℃を超える反応温度では、反応温度を高くしても反応速度が向上しないため、製造コストなどの観点から反応温度は８０℃以下に抑えることが好ましい。反応時間は、反応温度、濃度などの条件により適宜決定されるが、通常１〜２４時間程度であることが好ましい。なお、反応温度は、ペプチド及びタンパク質が変性しない温度（３０〜４０℃）であることが特に好ましい。

本実施形態に係るヨード基含有タンパク質への修飾方法において用いられる縮合剤としては、アミノ基とカルボキシル基とを縮合できるものが採用可能である。

採用可能な縮合剤としては、例えば、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣＩ）、ジベンジルシクロオクチン−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル、Ｎ−カルボベンゾキシオキシスクシンイミド、Ｎ−（２−クロロベンジルオキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニルオキシ］スクシンイミド、Ｎ−スクシンイミジルアクリレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−（２，４−ジニトロアニリロ）ヘキサノエイト、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−［２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニルオキシ］スクシンイミド等が挙げられる。反応性の観点から、縮合剤は、ジベンジルシクロオクチン−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステルであることが好ましい。

＜本実施形態で得られる効果＞
本実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、分子内に親水性、保湿性、タンパク質吸着の抑制などの優れた生体適合性を示すホスホリルコリン基を有し、かつヨード基との鈴木−宮浦クロスカップリングが可能なボロン酸を有する。そのため、本実施形態に係る修飾剤では、ヨード基を有する低分子化合物、ポリマー、生体分子等に穏やかな条件下でホスホリルコリン基を導入することができる。

また、本実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、ウレタン結合、水酸基、エステル結合、あるいはアミノ基等の水素結合性官能基を鎖中に有するため、高い水溶性を有している。そのため、本実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、生体分子と水中で容易に結合可能である。

更に、本実施形態に係るボロン酸含有ホスホリルコリン化合物は、アミノ基又はカルボキシル基を有するボロン酸含有化合物と、これらの官能基と温和な条件で容易に反応可能であるエポキシ基、ホルミル基、あるいはシクロカーボネート基を有するホスホリルコリン基とを反応させることにより、高収率で簡便に合成可能である。

以下、実施例について説明するが、本発明は実施例に限定されない。

［合成例１］式（２９）で示すホスホリルコリン基含有化合物（５，６−エポキシヘキシルホスホリルコリン）の合成
１００ｍＬのフラスコに式（２８）で表される５−ヘキセニルホスホリルコリン１．０６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、メタクロロ過安息香酸１．７３ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム４０ｍＬを加えて、室温で２４時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水２０ｍＬを加えた。析出した白色固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液を酢酸エチル２０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して、式（２９）で表される５，６−エポキシヘキシルホスホリルコリンを得た。収量は９２０ｍｇ（３．２３ｍｍｏｌ）、収率は８２％であった。

［合成例２］式（３１）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（１０，１１−エポキシウンデシルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、式（３０）で表される１０−ウンデセニルホスホリルコリン３３５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、メタクロロ過安息香酸４３１ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム１０ｍＬを加えて、室温で２４時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。析出した白色固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去したろ液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して、式（３１）で表される１０，１１−エポキシウンデシルホスホリルコリンを得た。収量は２７３ｍｇ（０．７８ｍｍｏｌ）、収率は７８％であった。

［合成例３］式（３２）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（１，３−ジオキソラン−２−オン−４−メチルホスホリルコリン）の合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに、グリセリンカーボネート（１，３−ジオキソラン−２−オン−メタノール）２０．０ｇ（１６９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１７．１ｇ（１６９ｍｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２５０ｍＬを加えて、攪拌しながら０℃まで冷却した。２−クロロ−２−オキサ−１，３，２−ジオキサホスホラン（シグマ−アルドリッチ社製）２４．０ｇ（１６９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍＬに溶解し、得られた溶液を上記のフラスコに滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、反応混合物を昇温して室温で２時間反応を継続させた。副生成物として析出したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液中に１，３−ジオキソラン−２−オン−４−メチルエチレンサイクリックホスフェイトがあることをＮＭＲにて確認した。得られたろ液、及びアセトニトリル３００ｍＬを、１Ｌの密栓付き耐圧瓶に移し替え、その耐圧瓶にトリメチルアミン４０．０ｇ（６７６ｍｍｏｌ）を加えて密栓し、７０℃で２０時間反応させた。過剰のトリメチルアミンを留去後、反応液を−２０℃で半日放置して結晶を生成させた。生成物をろ過し、アセトニトリル１Ｌで洗浄し、５０℃で一晩減圧乾燥させ、式（２４）で表される１，３−ジオキソラン−２−オン−４−メチルホスホリルコリンを得た。収量は２１．５ｇ（７６．１ｍｍｏｌ）、収率は４５．０％であった。

［合成例４］式（３３）で表される化合物（４−（４−ヒドロキシブチル）−１，３−ジオキソラン−２−オン）の合成
２００ｍＬのフラスコに、１，２，６−ヘキサントリオール（東京化成工業製）２６．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）、炭酸ジメチル１９．８ｇ（２２０ｍｍｏｌ）、及び炭酸カリウム６０．８ｇ（４４０ｍｍｏｌ）を加えて、８０℃で１５時間反応させた。反応混合物を酢酸エチル１００ｍＬに希釈した液体を、水１００ｍＬで３回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、残渣を減圧乾燥させ、式（３３）で表される４−（４−ヒドロキシブチル）−１，３−ジオキソラン−２−オンを得た。収量は２５．３ｇ（１５８ｍｍｏｌ）、収率は７９％であった。

［合成例５］式（３４）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（４−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ブチルホスホリルコリン）の合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに、式（３３）で表される４−（４−ヒドロキシブチル）−１，３−ジオキソラン−２−オン２０．０ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１２．６ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２５０ｍＬを加えて、攪拌しながら０℃まで冷却した。２−クロロ−２−オキサ−１，３，２−ジオキサホスホラン（シグマ−アルドリッチ社製）１７．８ｇ（１２５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍＬに溶解し、得られた溶液を上記のフラスコに滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、反応混合物を昇温して室温で２時間反応を継続させた。副生成物として析出したトリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ろ液中に１，３−ジオキソラン−２−オン−４−ブチルエチレンサイクリックホスフェイトがあることをＮＭＲにて確認した。得られたろ液、及びアセトニトリル３００ｍＬを１Ｌの密栓付き耐圧瓶に移し替え、その耐圧瓶にトリメチルアミン２９．６ｇ（５００ｍｍｏｌ）を加えて密栓し、７０℃で２０時間反応させた。過剰のトリメチルアミンを留去後、反応液を−２０℃で半日放置して結晶を生成させた。生成物をろ過し、アセトニトリル１Ｌで洗浄し５０℃で一晩減圧乾燥させ、式（３４）で表される４−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ブチルホスホリルコリンを得た。収量は１７．６ｇ（５３．８ｍｍｏｌ）、収率は４３．０％であった。

［合成例６］式（３６）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（ホルミルメチルホスホリルコリン）の合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに、式（３５）で表される特開２００９−２４２２８９号公報に記載される２，３−ジヒドロキシプロピルホスホリルコリン５．１４ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、及び水１７０ｍＬを加えて攪拌した。過ヨウ素酸ナトリウム６．４１ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にメタノールを加えた。析出した固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液にイオン交換樹脂（三菱化学製ＤＩＡＩＯＮＷＡ２１）を加えて３時間攪拌した。ろ過（ＰＴＦＥフィルター：０．４５μｍ）により固体を除去し、ろ液を減圧濃縮して、式（３６）で表されるホルミルメチルホスホリルコリンを得た。収量は３．９０ｇ（１７．３ｍｍｏｌ）、収率は８７％であった。

［合成例７］式（３８）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリン）の合成
２００ｍＬのフラスコに、式（３７）で表される米国特許第５，１４４，０４５号明細書に記載される１０−ウンデシルホスホリルコリン１．６８ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、メタクロロ過安息香酸２．１６ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）、アンバーリスト６５０ｍｇ、クロロホルム１５ｍＬ、及び水３０ｍＬを加えて室温で４８時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。析出した白色固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して、式（３０）で表される１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリンを得た。収量は１．７５ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）、収率は９５％であった。

［合成例８］式（３９）で表されるホスホリルコリン基含有化合物（９−ホルミルノニルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬフラスコに、式（３８）で表される１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリン３６９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及び水１０ｍＬを加えて攪拌した。過ヨウ素酸ナトリウム３２１ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にメタノールを加えた。析出した固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液にイオン交換樹脂（三菱化学製ＤＩＡＩＯＮＷＡ２１）を加えて３時間攪拌した。ろ過（ＰＴＦＥフィルター：０．４５μｍ）により固体を除去し、ろ液を減圧濃縮して、式（３９）で表される９−ホルミルノニルホスホリルコリンを得た。収量は２９７ｍｇ（０．８８ｍｍｏｌ）、収率は８８％であった。

［実施例１−１］式（４１）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（６−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン）、及び式（４２）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（５−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例１で合成した式（２９）で表される５，６−エポキシヘキシルホスホリルコリン２８２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、式（４０）で表される４−カルボキシフェニルボロン酸１８２ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム５ｍＬを加えて室温で攪拌した。トリエチルアミン１０．１ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で５時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（４１）で表される６−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、及び式（４２）で表される５−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンを７：３の比で得た。収量は２７７ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）、収率は６２％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．３６−１．５９（ｍ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ−），３．２４（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６１−３．６２（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．７６−４．６６（ｍ，７Ｈ，−ＣＨ _２ −ＣＨ−ＣＨ _２−，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−），４．２３−４．３０（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．３５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．０５

［実施例１−２］式（４３）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（１１−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン）、及び式（４４）（１０−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例２で合成した式（３１）で表される１０，１１−エポキシウンデシルホスホリルコリン３５１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、式（４０）で表される４−カルボキシフェニルボロン酸１８２ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）及びクロロホルム５ｍＬを加えて、室温で攪拌した。トリエチルアミン１０．１ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で５時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（４３）で表される１１−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１０−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリン、及び式（４４）で表される１０−（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−カルボニルオキシ）−１１−ヒドロキシウンデシルホスホリルコリンを７：３の比で得た。収量は２８４ｍｇ（０．５５ｍｍｏｌ）、収率は５５％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．３６−１．７２（ｍ，１６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ−），３．２４（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６２−３．６３（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．７６−４．６６（ｍ，５Ｈ，−ＣＨ _２ −ＣＨ−ＣＨ_２−，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−），４．２６−４．３３（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．８２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．３４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．１２

［実施例１−３］式（４６）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン）、及び式（４７）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例１で合成した式（２９）で表される５，６−エポキシヘキシルホスホリルコリン２８２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、式（４５）で表される５−（４−ジヒドロキシボリルフェニル）ペンタン酸２４４ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム５ｍＬを加えて、室温で攪拌した。トリエチルアミン１０．１ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で５時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（４６）で表される６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−５−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリン、及び式（４７）で表される５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−ブチル）カルボニルオキシ］−６−ヒドロキシヘキシルホスホリルコリンを７：３の比で得た。収量は３４３ｍｇ（０．６８ｍｍｏｌ）、収率は６８％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．２４−１．６０（ｍ，１０Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ−，−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｐｈ），２．１７（ｔ，２Ｈ，−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｐｈ），２．３３（ｔ，２Ｈ，−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｐｈ）３．２４（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６１−３．６２（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．７６−４．６６（ｍ，７Ｈ，−ＣＨ _２ −ＣＨ−ＣＨ _２−，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−），４．２３−４．３０（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．３５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．０３

［実施例１−４］式（４９）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン）、及び式（５０）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例３で合成した式（３２）で表される（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルホスホリルコリン２８３ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（４８）で表される４−アミノメチルフェニルボロン酸塩３７３ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（５０ｍＬ）中に滴下した。上澄みを除去し、沈殿物を減圧乾燥して式（４９）で表される３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、及び式（５０）で表される２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンを３：２の比で得た。収量は３８２ｍｇ（０．８８ｍｍｏｌ）、収率は８８％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：３．２５（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６２−３．６４（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．９０−３．９７（ｍ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ−ＣＨ_２−，−Ｐｈ−ＣＨ _２−ＮＨ−），３．９８−４．２１（ｍ，５Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−ＣＨ_２−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ−，−ＯＣ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ _２−），４．２８−４．３７（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．４４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．０５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：０．９３，１．１０

［実施例１−５］式（５１）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン）、及び式（５２）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例５で合成した式（３４）で表される４−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル）ブチルホスホリルコリン３２５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（４８）で表される４−アミノメチルフェニルボロン酸塩３７３ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（２００ｍＬ）中に滴下した。上澄みを除去し、沈殿物を減圧乾燥して式（５１）で表される６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、及び式（５２）で表される５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシプロピルホスホリルコリンを３：２の比で得た。収量は３９２ｍｇ（０．８５ｍｍｏｌ）、収率は８５％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．４０−１．６８（ｍ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ−ＣＨ_２−），３．２５（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６２−３．６４（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．８８−３．９７（ｍ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−ＣＨ_２−，−Ｐｈ−ＣＨ _２−ＮＨ−），４．０５−４．２０（ｍ，３Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ−ＣＨ_２−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ−），４．２８−４．３７（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．４４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．０５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．１５

［実施例１−６］式（５４）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（２−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例６で合成した式（３６）で表されるホルミルメチルホスホリルコリン２２５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（５３）で表される４−アミノフェニルボロン酸１３７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及び２−ピコリンボラン２１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水１０ｍＬに溶解させた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（５４）で表される２−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリンを得た。収量は２２８ｍｇ（０．６６ｍｍｏｌ）、収率は６６％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：２．９４（ｔ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−ＮＨ−），３．２０（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６６−３．６９（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），３．９９−４．０３（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＮＨ−），４．２９−４．３５（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３，７．４０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．０２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：０．８０

［実施例１−７］式（５６）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］エチルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例６で合成した式（３６）で表されるホルミルメチルホスホリルコリン２２５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（５５）で表される［４−（２−アミノエチル）フェニル］ジヒドロキシボラン１６５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及び２−ピコリンボラン２１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水１０ｍＬに溶解させた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（５６）で表される２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−エチル）アミノ］エチルホスホリルコリンを得た。収量は３２５ｍｇ（０．８７ｍｍｏｌ）、収率は８７％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：２．３３（ｔ，２Ｈ，−ＮＨ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｐｈ），２．８５−２．９６（ｍ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−ＮＨ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｐｈ），３．２０（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６６−３．６９（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），３．９９−４．０３（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＮＨ−），４．２９−４．３５（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３，７．４０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．０１（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：０．８０

［実施例１−８］式（５８）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（２−［（３−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例６で合成した式（３６）で表されるホルミルメチルホスホリルコリン２２５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（５７）で表される３−アミノフェニルボロン酸１３７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及び２−ピコリンボラン２１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水１０ｍＬに溶解させた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して、式（５８）で表される２−［（３−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］エチルホスホリルコリンを得た。収量は２３５ｍｇ（０．６８ｍｍｏｌ）、収率は６８％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：２．９４（ｔ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−ＮＨ−），３．２０（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６６−３．６９（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），３．９９−４．０３（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＮＨ−），４．２９−４．３５（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３，７．４１（ｄ，１Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），７．９４（ｄ，１Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），８．１８（ｄ，１Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：０．７７

［実施例１−９］式（５９）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物（１０−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］デシルホスホリルコリン）の合成
５０ｍＬのフラスコに、合成例８で合成した式（３９）で表される９−ホルミルノニルホスホリルコリン３３７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びメタノール１０ｍＬを加えた。式（５３）で表される４−アミノフェニルボロン酸１３７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及び２−ピコリンボラン２１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水１０ｍＬに溶解させた。この水溶液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（５９）で表される１０−［（４−ジヒドロキシボリルベンゼン−１−イル）アミノ］デシルホスホリルコリンを得た。収量は２６３ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）、収率は７０％であった。得られた生成物に関する^１Ｈ−ＮＭＲ及び^３１Ｐ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：１．４５−１．７０（ｍ，１６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２ −ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＮＨ−），２．９８（ｔ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ _２−ＮＨ−），３．２０（ｓ，９Ｈ，−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３），３．６４−３．６７（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），３．９４−３．９９（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＨ−），４．２９−４．３５（ｍ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ _２−ＣＨ_２−Ｎ^＋−（ＣＨ_３）_３），７．０１（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ），７．９５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨｏｆＰｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）：０．８３

［実施例２−１］ホスホリルコリン基含有ポリエチレングリコールの合成
５０ｍＬフラスコに、ポリエチレングリコール（重量平均分子量＝５０００，ＳＵＮＢＲＩＧＨＴＭＥ−０５０ＣＳ，日油製）５．０ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）を加えた。４−ヨードアニリン（東京化成工業製）３２８ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌した。反応混合物をエタノールで２回再沈殿し、減圧乾燥後に凍結乾燥を行ってヨード化ポリエチレングリコールを得た。
得られたヨード化ポリエチレングリコール、実施例１−４で合成した式（４９）で表される３−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、実施例１−４で合成した式（５０）で表される２−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン混合物４６１ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）、及びリン酸緩衝液（ｐＨ８．０）１０ｍＬを加えた。Ｌ_２Ｐｄ（ＯＡｃ）_２で表される酢酸パラジウム（Ｌの構造は式（６０）に示す）を含む溶液０．２ｍＬ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間攪拌した。反応混合物をアセトンで２回再沈殿し、減圧乾燥後に凍結乾燥を行ってホスホリルコリン基含有ポリエチレングリコールを得た。

［実施例２−２］ホスホリルコリン基含有ペプチドの合成
５０ｍＬフラスコに、ポリＬリジン（重量平均分子量＝１０１３、受託合成品、シグマ−アルドリッチ社製）１．０１ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、４−ヨードアニリン３２８ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）、及びジメチルスルホキシド１０ｍＬを加えた。１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２８７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応混合物をエタノールで２回再沈殿し、減圧乾燥後に凍結乾燥を行ってヨード化ペプチドを得た。
得られたヨード化ペプチド９６８ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）、実施例１−５で合成した式（５１）で表される６−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−５−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン、実施例１−５で合成した式（５２）で表される５−［（１−ジヒドロキシボリルベンゼン−４−メチル）カルバモイルオキシ］−６−ヒドロキシプロピルホスホリルコリン混合物３６１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、及びリン酸緩衝液（ｐＨ８．０）１０ｍＬを加えた。Ｌ_２Ｐｄ（ＯＡｃ）_２で表される酢酸パラジウムを含む溶液０．２ｍＬ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、３０℃で２４時間攪拌した。反応混合物をエタノールで２回再沈殿し、減圧乾燥後に凍結乾燥を行ってホスホリルコリン基含有ペプチドを得た。

［実施例２−３］ホスホリルコリン基含有ＢＳＡの合成
ＢＳＡ（アルブミンウシ血清由来）（シグマ−アルドリッチ社製）１００ｍｇをリン酸緩衝液（ｐＨ７−９）１０ｍＬ溶解させ、リン酸緩衝液で平衡化したＰＤ−１０（ゲルろ過カラムＧＥヘルスケア社製）カラムにかけた。この溶出液に、ジベンジルシクロオクチン−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル１０ｍｇのジメチルスルホキシド溶液２ｍＬを加え、室温で３０分攪拌した。１Ｍトリス塩酸緩衝液（ｐＨ８．０）を１ｍＬ加えて室温で５分攪拌した。反応溶液をリン酸緩衝液で平衡化したＰＤ−１０カラムにかけた。この溶出液に、実施例２−３で合成したホスホリルコリン基含有ペプチド１０ｍｇのリン酸緩衝液溶液２．５ｍＬを加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物をリン酸緩衝液で平衡化したＰＤ−１０カラムにかけ、凍結乾燥を行ってホスホリルコリン基含有ＢＳＡを得た。

＜りんの定量＞
実施例２−１、実施例２−２、及び実施例２−３で合成した化合物についてホスホリルコリン基が良好に修飾されていることを確認するため、りんの定量（モリブデン青法）を行った。りんの定量にはメルク社製のりん定キット（ｐｈｏｓｐｈａｔｅｃｅｌｌｔｅｓｔ）を用いて、簡易型全リン計によりＰ元素の含有量を測定した。

具体的には、反応セルに、所定の濃度（≒０．０１ｗｔ％）に調製した、実施例２−１、実施例２−２、実施例２−３、及び実施例２−４に係るホスホリルコリン基含有化合物（セルロース、ポリエチレングリコール、ペプチド、ＢＳＡ）の水溶液５ｍＬを加え、ｐ−１ｋ試薬を１回分添加して攪拌混合後、リアクター（ＣＲ３２００）内で、１２０℃で３０分反応させる。リファレンスとして各ホスホリルコリン基含有化合物を含まないイオン交換水のみの反応セルにも、ｐ−１ｋを加えた後に同様にリアクター内で反応させた。反応後、３０分間室温で冷却し、各反応セルにｐ−２ｋ試薬を５滴ずつ加えて攪拌混合する。その後、ｐ−３ｋ試薬を各反応セルに１回分加え、５分間放置する。その後、ｐＨｏｔｏＦｌｅｘにより６１２ｎｍの吸光度からＰ元素の含量（ｍｇ／ｌ）を測定した。

表１は、実施例２−１、実施例２−２、及び実施例２−３についてＰＣ基導入率を示している。実施例２−１、実施例２−２、及び実施例２−３のいずれでも、ＰＣ基導入率が充分に高く、ホスホリルコリン基の修飾が良好に行われていた。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。

Claims

下記式（１）で表されるボロン酸含有ホスホリルコリン化合物。

（式（１）中、ｊは、０〜１５の整数を示す。ｋは、１〜９の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。−Ｘ（Ａ_１）−は、−Ｘ−Ａ_１−と、−Ａ_１−Ｘ−と、−Ｘ−とのうちのいずれか１つを示す。Ｘは、エステル結合と、ウレタン結合と、アミド結合と、２級アミノ基を含むメチレン基とのうちのいずれか１つを示す。Ａ_１は、下記式（２ａ）で表される構造と、下記式（２ｂ）で表される構造と、下記式（２ｃ）で表される構造とのうちのいずれか１つである。）
下記式（３）で表されるボロン酸含有化合物と、下記式（４）で表されるホスホリルコリン基含有化合物とを用意し、
前記ボロン酸含有化合物と上記ホスホリルコリン基含有化合物とを付加反応させる
ボロン酸含有ホスホリルコリン化合物の製造方法。

（式（３）中、Ｙは、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｊは、０〜１５の整数を示す。Ｗは、フェニル基又はビニレン基を示す。）

（式（４）中、Ｚ、カルボキシル基と、一級アミノ基と、エポキシ基と、ホルミル基と、シクロカーボネート基とのうちのいずれか１つを示す。ｋは、１〜９の整数を示す。）
請求項１に記載のボロン酸含有ホスホリルコリン化合物からなり、
ヨード基を有する化合物をホスホリルコリン基で修飾する
ヨード基含有化合物修飾剤。
請求項３に記載のヨード基含有化合物修飾剤であって、
前記ヨード基を有する化合物が、ヨード基含有タンパク質、ヨード基含有ポリエチレングリコール、又はヨード基含有ペプチドである
ヨード基含有化合物修飾剤。