JP2015111729A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記モジュール群に含まれ、搬送の順番が同じであって、基板に対して同一の処理を行う複数のモジュールからなるマルチモジュールと、
前記モジュール群の下流側に設けられた後段モジュールと、
前記モジュール群の下流側に設けられ、多数枚の基板を載置する基板載置部と、
前記複数の単位ブロックの夫々の搬入モジュールへ基板の払い出しを行う第1の受け渡し手段と、
前記複数の単位ブロックの夫々の搬出モジュールから基板を取り出し、前記後段モジュール及び基板載置部に搬送する第2の受け渡し手段と、
前記搬送手段及び第1の受け渡し手段並びに第2の受け渡し手段を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、通常時には下記(1)の動作が行われ、前記単位ブロックに含まれるマルチモジュールの少なくとも一つが使用できない使用不可モジュールになりかつ少なくとも一つが使用できる状態にあるときには、下記(2)の動作が行われるように構成されていることを特徴とする。
(1)前記複数の単位ブロックの夫々の搬入モジュールに対して第1の受け渡し手段により一定の順番で基板が払い出される。
(2) (2−a)使用不可モジュールが発生した後は、第1の受け渡し手段により、複数の単位ブロックにおいて最も早く載置可能になった搬入モジュールに基板を払い出す。
(2−b)前記複数の単位ブロックの夫々においては、基板が搬入モジュールに払い出された順番に沿って、搬送手段により基板をモジュール群に順次搬送して搬出モジュールに受け渡す。
(2−c)基板が搬入モジュールに払い出された順番に沿って、第2の受け渡し手段により基板を搬出モジュールから取り出す。
(2−d)前記搬出モジュールから取り出した基板を、第2の受け渡し手段により直接後段モジュールに搬送するか、又は一旦基板載置部に搬送してから後段モジュールに搬送し、こうして、通常時に第1の受け渡し手段により基板が搬入モジュールに払い出される一定の順番に沿って、第2の受け渡し手段により後段モジュールに基板を搬送する。
前記モジュール群に含まれ、搬送の順番が同じであって、基板に対して同一の処理を行う複数のモジュールからなるマルチモジュールと、
前記モジュール群の下流側に設けられた後段モジュールと、
前記モジュール群の下流側に設けられ、多数枚の基板を載置する基板載置部と、を備え
通常時に行われる下記(4)の工程と、前記単位ブロックに含まれるマルチモジュールの少なくとも一つが使用できない使用不可モジュールになりかつ少なくとも一つが使用できる状態にあるときに行われる下記(5)の工程と、を含むことを特徴とする。
(4)前記複数の単位ブロックの夫々の搬入モジュールに対して一定の順番で基板が払い出される工程。
(5) (5−a)使用不可モジュールが発生した後は、複数の単位ブロックにおいて最も早く載置可能になった搬入モジュールに基板を払い出す工程。
(5−b)前記複数の単位ブロックの夫々においては、基板が搬入モジュールに払い出された順番に沿って、搬送手段により基板をモジュール群に順次搬送して搬出モジュールに受け渡す工程。
(5−c)基板が搬入モジュールに払い出された順番に沿って基板を搬出モジュールから取り出す工程。
(5−d)前記搬出モジュールから後段モジュールに直接基板を搬送するか、又は一旦基板載置部に搬送してから後段モジュールに搬送し、こうして、通常時に基板が搬入モジュールに払い出される一定の順番に沿って後段モジュールに基板を搬送する工程。
搬送制御プログラム35は、ウエハWの搬送中に、当該ウエハWの搬送予定のモジュールが使用不可モジュールとなったときに駆動するプログラムである。このプログラムは、例えばモジュールにてトラブルが発生したり、ウエハWの搬送が乱れたりしたときに発生されるアラーム信号に基づいて駆動される。また、オペレータがコンピュータの表示画面により、使用不可モジュールを選択することによっても駆動されるようになっている。この使用不可モジュールとは、モジュールにトラブルが発生したか、メンテナンス等により、ウエハを搬入できないモジュールをいう。また、オペレータが使用不可モジュールを選択するときとは、モジュールにメンテナンスを行う場合や、プロセスが正常にできないモジュールを使用不可モジュールとする場合等が含まれる。ここでプロセスが正常にできないとは他のマルチモジュールとの差が発生する場合をいう。このような場合、当該モジュールを使用しないようにレシピを変更すると、当該モジュールが正常に戻った場合再度レシピを変更しなければならず、レシピが複数存在するとそのレシピ数分作業が発生するため、使用不可モジュールとすることが好ましい。
ここでは使用不可モジュールがBCT1層B1の反射防止膜形成モジュールBCTであるものとして説明する。モジュールからの発信されたアラーム信号により使用不可モジュールとなった反射防止膜形成モジュールBCTが記憶部37に記憶され、実行中の搬送スケジュールとに基づいてその使用不可モジュールで処理されていたウエハWがAbortウエハとして記憶部37に記憶される。そして、図15で既述したようにこのAbortウエハ以外のウエハはBCT1層B1の使用可能な反射防止膜モジュールBCTにて処理されて下流側へと搬送される。
反射防止膜形成モジュールでAbortウエハが発生した場合と略同様であり、差異点を中心に説明する。ここでは、使用不可モジュールがCOT1層B3のレジスト膜形成モジュールCOTであるものとする。モジュールからの信号と実行中の搬送スケジュールとに基づいて、使用不可となったモジュールで処理されていたウエハWがAbortウエハとして記憶部37に記憶される。そして、このAbortウエハ以外のウエハWはCOT1層B3の使用可能なレジスト膜形成モジュールCOTにより処理されて下流側へと搬送される。
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
A1〜A6 メインアーム
B1〜B6 単位ブロック
C,D 受け渡しアーム
E インターフェイスアーム
BU バッファモジュール
SCPW 受け渡しモジュール
TRS 受け渡しモジュール
3 制御部
33 搬送スケジュール変更部
35 搬送制御プログラム
Claims (4)
- 搬入モジュールに置かれた基板を、各々基板が載置されると共に搬送の順番が決められたモジュール群に搬送手段により一枚ずつ搬送して前記モジュール群の下流端の搬出モジュールに受け渡すと共に、基板に対して同一の処理を行う単位ブロックを複数層備えた基板処理装置において、
前記モジュール群に含まれ、搬送の順番が同じであって、基板に塗布膜を形成する複数の塗布膜形成モジュールと、
前記複数の単位ブロックの夫々の搬入モジュールへ基板の払い出しを行う第1の受け渡し手段と、
前記搬送手段及び第1の受け渡し手段を制御する制御部と、
を備え、
前記複数の塗布膜形成モジュールはそれぞれ、前記塗布膜を形成するために薬液を基板に塗布する塗布膜形成機構と、塗布膜形成モジュールが使用不可モジュールになったときに当該使用不可モジュールに搬入されている基板の前記塗布膜を除去する塗布膜除去機構とを有し、
前記制御部は、前記単位ブロックに含まれる前記複数の塗布膜形成モジュールの少なくとも一つが使用不可モジュールとなったときは、第1の受け渡し手段により複数の単位ブロックの内いずれかの搬入モジュールに基板を払い出し、前記複数の単位ブロックの夫々においては、前記搬送手段により、前記使用不可モジュールに搬入されている基板と同一ロット内の他の基板を、基板が搬入モジュールに払い出された順番に沿ってモジュール群に順次搬送して搬出モジュールに受け渡すことを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送手段により、前記使用不可モジュールに搬入されている基板を、前記他の基板が前記複数の単位ブロックの内いずれかの搬入モジュールに払い出された後に、前記搬入モジュールのいずれかに受け渡すことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記搬送手段及び第1の受け渡し手段は、
使用不可モジュールとなった塗布膜形成モジュールの前記塗布膜除去機構により塗布膜が除去された基板に前記塗布膜を再び形成するために、当該塗布膜形成モジュールが含まれる単位ブロックの使用可能な塗布膜形成モジュールかまたは他の単位ブロックの使用可能な塗布膜形成モジュールに前記基板を搬送するように動作することを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。 - 前記モジュール群の下流側に設けられた後段モジュールと、
前記モジュール群の下流側に設けられ、複数枚の基板を載置する基板載置部と、
前記複数の単位ブロックの夫々の搬出モジュールから基板を取り出し、前記後段モジュール及び前記基板載置部に搬送する第2の受け渡し部と、を更に備え、
前記制御部は前記第2の受け渡し部を制御し、
前記搬送手段は、前記使用不可モジュールに搬入されている基板の上流側の基板を前記モジュール群に搬送した後に前記基板載置部に受け渡すことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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