JP2015093205A - ナノバブル発生装置 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、ナノバブル発生装置1の概略構成について、図1と図2とを用いて説明する。
ナノバブル発生装置1は、固定手段12で、液体の流出される液体流路配管2の下流側開放端2aに固定され、超音波素子アレイ基板20は、下流側開放端2aの更に下流に設けられている本体11の内部に配置されている。これにより、例えば、蛇口などの液体流路配管2から流出された液体は、本体11の内部に形成されている液体流路を通り、本体11の下流開放端11aから流出される。本体11には、超音波素子アレイ基板20に備えられている超音波素子30a,30b,30c(図2および図3参照)を駆動させるための電源を供給する電源ライン14と、本体11の内部を流れる液体に気体を混入させる吸気管13とが接続されている。
図3は、図2におけるB−B線での断面図である。超音波素子アレイ基板20には、超音波素子30a,30b,30cが、液体流路の上流側から下流側に沿って配列され、上流側に配置されている超音波素子30aの発振周波数は、下流側に配置されている超音波素子30b,30cの発振周波数より低い。
詳述すると、超音波素子アレイ基板20は、上流側から第1領域20a、第2領域20b、第3領域20cに区分され、それぞれの領域に対応した超音波素子30a,30b,30cが6個ずつ配置されている。第1領域20aに配置された超音波素子30aの発振周波数をf1、第2領域20bに配置された超音波素子30bの発振周波数をf2、第3領域20cに配置された超音波素子30cの発振周波数をf3、とすると、それぞれの発振周波数は、f1<f2<f3の関係にある。超音波素子30a,30b,30cは、基板31に設けられた配線(図示せず)により、電源ライン14と電気的に接続され、超音波素子30a,30b,30cの発振周波数に応じて、駆動電圧が供給される。
本実施形態では、第2領域20bに発振周波数400kHzの超音波素子30bを、第3領域20cに発振周波数2MHzの超音波素子30cが用いられ、マイクロバブルに2段階で超音波振動が印加されている。なお、超音波振動を加える領域をさらに細分化し、マイクロバブルに、超音波振動が多段階で印加されるようにしてもよい。また、各領域に数多くの超音波素子30a,30b,30cを配置させて、液体の流速に応じて、駆動させる超音波素子30a,30b,30cの数量が、可変できるようにしてもよい。
図4は、図3のC−C線における断面図である。図4では、説明の便宜上、互いに直交する3軸として、X軸、Y軸およびZ軸を図示しており、その図示した矢印の先端側を「+側」、基端側を「−側」としている。また、以下では、X軸に平行な方向を「X軸方向」と言い、Y軸に平行な方向を「Y軸方向」と言い、Z軸に平行な方向を「Z軸方向」と言う。
図4に示すように、超音波素子30cは、基板31と、基板31の+Z軸方向に形成されている支持膜32と、支持膜32の+Z軸方向に形成されている圧電体36とにより構成されている。そして、基板31と支持膜32と圧電体36とは、±Z軸方向から保護膜38により覆われている。保護膜38には、シリコーン樹脂膜を用いることができる。
また、ZrO2層は、SiO2層の表面に、スパッタリングなどの手法によりZr層を形成した後、熱酸化することで形成される。ZrO2層は、例えば、圧電体36の圧電層34としてPZT(ジルコン酸チタン酸鉛:lead zirconate titanate)を用いる場合、PZTを構成するPbがSiO2層に拡散することを防止するための層である。また、ZrO2層には、圧電層34の歪みに対するメンブレン43の撓み効率およびメンブレン43の撓みに対する圧電層34の歪み効率を向上させるなどの効果もある。
また、下部電極層33および上部電極層35には、電圧印加用の配線パターン(図示せず)が接続されている。これらの配線パターンは、基板31上に、下部電極層33や上部電極層35の形成時に同時にパターニング形成することもできる。これらの配線パターンは、上述の電源ライン14と電気的に接続されている。
圧電体36の圧電層34が+Z軸方向に分極処理されている場合、下部電極層33に−(マイナス)の電位を、上部電極層35に+(プラス)の電位を印加すると、逆圧電効果により、圧電層34はXY平面に沿って伸長する。圧電体36の一面側はメンブレン43に固定されているため、メンブレン43は+Z軸方向に撓む。逆に、下部電極層33に+(プラス)の電位を、上部電極層35に−(マイナス)の電位を印加すると、圧電層34はXY平面に沿って収縮する。圧電体36の一面側はメンブレン43に固定されているため、メンブレン43は−Z軸方向に撓む。
したがって、超音波素子30cの下部電極層33と上部電極層35とに、交流電圧を印加することで、撓み運動は連続となり、その周波数や電圧に応じた超音波を超音波素子30cから発振させることができる。
本実施形態に係るナノバブル発生装置100の概略構成について、図5と、図6とを用いて説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の符号を使用し、重複する説明は省略する。
ナノバブル発生装置100は、固定手段112で、液体流路配管2に対して対向して固定されている。ここでは、ナノバブル発生装置100が、液体流路配管2の外周に巻き付けられている状態を、液体流路配管2に対して対向して固定されている、と表現する。本体11には、超音波素子アレイ基板20に備えられている超音波素子30a(図6参照)、および図示しない30b,30cを駆動させるための電源を供給する電源ライン14が接続されている。固定手段112の形状や方法は、特に限定されないが、民生用途では、ワンタッチで着脱が可能なバックルなどが好ましい。
カバー140は、超音波素子アレイ基板20を外周側から覆い、本体111を液体流路配管2に固定手段112で固定した場合に、超音波素子アレイ基板20を密着層130に押し当てるものである。
本実施形態では、4枚の超音波素子アレイ基板20が用いられているが、これに限定するものではない。超音波素子アレイ基板20は、液体流路配管2の形状や大きさに応じて、液体流路配管2との密着が可能な形状と枚数とで配置させることが望ましい。
ナノバブル発生装置100は、複数の超音波素子30a,30b,30cの備えられている超音波素子アレイ基板20を、内部に液体が流れている液体流路配管2に対して対向して固定し、液体流路配管2を介して内部の液体に超音波振動を印加させることができる。これにより、ナノバブル発生装置100は、液体流路配管2の内部を流れる液体に、上流側に配置された超音波素子30aからの超音波振動を印加させることにより、マイクロバブルを生成させ、さらに、下流側に配置された超音波素子30b,30cからの超音波振動を加え続けさせることで、ナノバブルを生成させることができる。ナノバブル発生装置100は、液体流路配管2の内部を流れる液体に、外部から超音波振動を連続して印加させる簡易な構成でナノバブルを生成させることができるため、ナノバブル発生装置の小型化と設置の容易化とを図ることができる。したがって、小型で既存の液体流路配管2に設置可能な民生用途に適したナノバブル発生装置を提供することができる。
本実施形態に係るナノバブル発生装置200について、図7と、図8とを用いて説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の符号を使用し、重複する説明は省略する。
液体流路配管2の内部には、液体が上流側から下流側(図8の紙面において、手前側から奥方向)に流れている。超音波素子アレイ基板20には、液体流路配管2の上流側から下流側に沿って超音波素子30aおよび図示しない超音波素子30b,30cが配列され、超音波素子30a,30b,30cは、液体流路配管2の内部を流れる液体に超音波振動を印加させる。フレーム215は、2枚の超音波素子アレイ基板20を対向させて固定させるものである。固定手段212は、ねじ状の金具であり、ねじ状の金具の先端をフレーム215から張り出させ、液体流路配管2の内壁に押し当てることにより、超音波素子アレイ基板20が固定されたフレーム215を、液体流路配管2の内壁に固定させるものである。なお、本実施形態では、2枚の超音波素子アレイ基板20が用いられているが、これに限定するものではない。フレーム215および固定手段212は、一例であり、超音波素子アレイ基板20を液体流路配管2の内部に固定できるものであれば、その形状および材質は問わない。
ナノバブル発生装置200は、複数の超音波素子30a,30b,30cの備えられている超音波素子アレイ基板20を、液体流路配管2の内側に、固定手段212で固定されることにより、液体流路配管2内部を流れる液体に超音波振動を印加させることができる。これにより、ナノバブル発生装置200は、液体流路配管2の内部を流れる液体に、上流側に配置された超音波素子30aからの超音波振動を印加させることにより、マイクロバブルを生成させ、さらに、下流側に配置された超音波素子30b,30cからの超音波振動を加え続けさせることで、ナノバブルを生成させることができる。ナノバブル発生装置200は、液体流路配管2の内部を流れる液体に、超音波振動を連続して印加させる簡易な構成でナノバブルを生成させることができるため、ナノバブル発生装置の小型化と設置の容易化とを図ることができる。したがって、小型で既存の液体流路配管2に固定可能な民生用途に適したナノバブル発生装置を提供することができる。
Claims (8)
- 複数の超音波素子を備えている超音波素子アレイ基板と、
前記超音波素子アレイ基板を液体流路配管に対して固定する固定手段と、を有することを特徴とするナノバブル発生装置。 - 前記複数の超音波素子は、液体流路の上流側から下流側に沿って配列されていることを特徴とする請求項1に記載のナノバブル発生装置。
- 前記上流側に配置されている前記複数の超音波素子の発振周波数は、前記下流側に配置されている前記複数の超音波素子の発振周波数より低いことを特徴とする請求項2に記載のナノバブル発生装置。
- 前記固定手段は、前記超音波素子アレイ基板を前記液体流路配管に対して対向して固定可能に構成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のナノバブル発生装置。
- 前記固定手段は、前記超音波素子アレイ基板を前記液体流路配管の下流側開放端に固定可能に構成され、前記超音波素子アレイ基板は、前記下流側開放端の更に前記下流側に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のナノバブル発生装置。
- 前記固定手段は、前記超音波素子アレイ基板を前記液体流路配管の内部に固定可能に構成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のナノバブル発生装置。
- 前記液体流路を流れる液体に、気体を混入させる吸気管を有することを特徴とする請求項5または6に記載のナノバブル発生装置。
- 複数の前記超音波素子アレイ基板が設けられていることを特徴とする請求項5から7のいずれか一項に記載のナノバブル発生装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016043354A (ja) * | 2014-08-22 | 2016-04-04 | 有限会社情報科学研究所 | 共鳴発泡と真空キャビテーションによる酸化性ラジカル又は、還元性ラジカルを有するウルトラファインバブルの製造方法及びウルトラファインバブル水製造装置。 |
JP6043900B1 (ja) * | 2016-02-12 | 2016-12-14 | 有限会社情報科学研究所 | 内燃機関エンジンによるウルトラファインバブルアクアジェット装置。 |
WO2021220383A1 (ja) * | 2020-04-28 | 2021-11-04 | 株式会社超微細科学研究所 | オゾン溶解水生成方法 |
CN114522551A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-05-24 | 杭州粟源科技有限公司 | 氢气纳米气泡水多级切割装置及其切割单元的制造方法 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50144361U (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-28 | ||
US4086057A (en) * | 1976-07-28 | 1978-04-25 | William Clinton Everett | Ultrasonic disinfection system |
JPH11262762A (ja) * | 1998-03-19 | 1999-09-28 | Hitachi Ltd | 殺菌処理方法および殺菌処理装置 |
JP2001215232A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Hitachi Ltd | 化学分析装置 |
JP2003003175A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Mayekawa Mfg Co Ltd | 混合廃油の改質方法及び混合廃油による省資源方法 |
JP2005246293A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | オゾン水およびその製造方法 |
JP2006289183A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Nano Bubble Kk | ナノバブル生成方法とその装置 |
JP2007503309A (ja) * | 2003-05-21 | 2007-02-22 | マイケル モーケル,フィリップ | 溶融ガスを含む水の処理 |
JP2009101299A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Fuji Xerox Co Ltd | マイクロナノバブル発生方法、マイクロ流路の洗浄方法、マイクロナノバブル発生システム、及び、マイクロリアクター |
WO2011058881A1 (ja) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | 国立大学法人岡山大学 | 超微小液滴調製装置 |
JP2011218308A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Asupu:Kk | 気体溶解液生成装置及び生成方法 |
US20120055884A1 (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-08 | Industrial Technology Research Institute | Method and apparatus for hydrolyzing organic solid |
-
2013
- 2013-11-08 JP JP2013231912A patent/JP2015093205A/ja active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50144361U (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-28 | ||
US4086057A (en) * | 1976-07-28 | 1978-04-25 | William Clinton Everett | Ultrasonic disinfection system |
JPH11262762A (ja) * | 1998-03-19 | 1999-09-28 | Hitachi Ltd | 殺菌処理方法および殺菌処理装置 |
JP2001215232A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Hitachi Ltd | 化学分析装置 |
JP2003003175A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Mayekawa Mfg Co Ltd | 混合廃油の改質方法及び混合廃油による省資源方法 |
JP2007503309A (ja) * | 2003-05-21 | 2007-02-22 | マイケル モーケル,フィリップ | 溶融ガスを含む水の処理 |
JP2005246293A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | オゾン水およびその製造方法 |
JP2006289183A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Nano Bubble Kk | ナノバブル生成方法とその装置 |
JP2009101299A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Fuji Xerox Co Ltd | マイクロナノバブル発生方法、マイクロ流路の洗浄方法、マイクロナノバブル発生システム、及び、マイクロリアクター |
WO2011058881A1 (ja) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | 国立大学法人岡山大学 | 超微小液滴調製装置 |
JP2011218308A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Asupu:Kk | 気体溶解液生成装置及び生成方法 |
US20120055884A1 (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-08 | Industrial Technology Research Institute | Method and apparatus for hydrolyzing organic solid |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016043354A (ja) * | 2014-08-22 | 2016-04-04 | 有限会社情報科学研究所 | 共鳴発泡と真空キャビテーションによる酸化性ラジカル又は、還元性ラジカルを有するウルトラファインバブルの製造方法及びウルトラファインバブル水製造装置。 |
JP2016215203A (ja) * | 2014-08-22 | 2016-12-22 | 有限会社情報科学研究所 | 真空キャビテーションによるウルトラファインバブル製造方法 |
US10500553B2 (en) | 2014-08-22 | 2019-12-10 | Johokagaku Kenkyusyo Co. Ltd. | Method for manufacturing ultra-fine bubbles having oxidizing radical or reducing radical by resonance foaming and vacuum cavitation, and ultra-fine bubble water manufacturing device |
US11007496B2 (en) | 2014-08-22 | 2021-05-18 | Johokagaku Kenkyusyo Co. Ltd. | Method for manufacturing ultra-fine bubbles having oxidizing radical or reducing radical by resonance foaming and vacuum cavitation, and ultra-fine bubble water manufacturing device |
JP6043900B1 (ja) * | 2016-02-12 | 2016-12-14 | 有限会社情報科学研究所 | 内燃機関エンジンによるウルトラファインバブルアクアジェット装置。 |
WO2021220383A1 (ja) * | 2020-04-28 | 2021-11-04 | 株式会社超微細科学研究所 | オゾン溶解水生成方法 |
JPWO2021220383A1 (ja) * | 2020-04-28 | 2021-11-04 | ||
CN114522551A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-05-24 | 杭州粟源科技有限公司 | 氢气纳米气泡水多级切割装置及其切割单元的制造方法 |
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