JP2015090974A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6643048B2 (ja) * 2015-11-09 2020-02-12 キヤノン株式会社 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路
JP6808386B2 (ja) * 2016-07-12 2021-01-06 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP6882027B2 (ja) * 2017-03-16 2021-06-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
JP7089375B2 (ja) * 2018-02-19 2022-06-22 キヤノン株式会社 平坦化装置
US12228854B2 (en) * 2021-11-12 2025-02-18 Canon Kabushiki Kaisha Layer forming system including cover with support pads, a positioning system with the cover and support pads, and a method of loading a plate

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050270516A1 (en) 2004-06-03 2005-12-08 Molecular Imprints, Inc. System for magnification and distortion correction during nano-scale manufacturing
JP2006165371A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
US8215946B2 (en) * 2006-05-18 2012-07-10 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography system and method
NL1036034A1 (nl) 2007-10-11 2009-04-15 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
NL2004735A (en) * 2009-07-06 2011-01-10 Asml Netherlands Bv Imprint lithography apparatus and method.
JP5669466B2 (ja) * 2010-07-12 2015-02-12 キヤノン株式会社 保持装置、インプリント装置及び物品の製造方法
JP5247777B2 (ja) * 2010-08-30 2013-07-24 キヤノン株式会社 インプリント装置およびデバイス製造方法
JP5395769B2 (ja) * 2010-09-13 2014-01-22 株式会社東芝 テンプレートチャック、インプリント装置、及びパターン形成方法
JP5744548B2 (ja) 2011-02-02 2015-07-08 キヤノン株式会社 保持装置、それを用いたインプリント装置および物品の製造方法
JP6140966B2 (ja) * 2011-10-14 2017-06-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP2013110162A (ja) 2011-11-17 2013-06-06 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
JP5661666B2 (ja) * 2012-02-29 2015-01-28 株式会社東芝 パターン形成装置及び半導体装置の製造方法
JP6071221B2 (ja) * 2012-03-14 2017-02-01 キヤノン株式会社 インプリント装置、モールド、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6304934B2 (ja) * 2012-05-08 2018-04-04 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法

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