JP2015088743A5 - - Google Patents
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Description
第1の発明は、処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、を備え、前記電極層は、互いに離間して配設された複数の電極要素を含み、前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、前記方向にみて、前記電極層の外周と前記セラミック誘電体基板の外周との間隔が、前記複数の電極要素の間隔よりも狭いことを特徴とする静電チャックである。
第2の発明は、処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、を備え、前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が200マイクロメートル以下であることを特徴とする静電チャックである。
第3の発明は、処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、を備え、前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、|X1−X2|/X5が0.07%以下であることを特徴とする静電チャックである。
Claims (15)
- 処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、
前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、
を備え、
前記電極層は、互いに離間して配設された複数の電極要素を含み、
前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、
前記方向にみて、前記電極層の外周と前記セラミック誘電体基板の外周との間隔が、前記複数の電極要素の間隔よりも狭いことを特徴とする静電チャック。 - 処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、
前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、
を備え、
前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、
前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔の相互誤差が200マイクロメートル以下であることを特徴とする静電チャック。 - 処理対象物を載置する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、多結晶セラミック焼結体であるセラミック誘電体基板と、
前記セラミック誘電体基板の前記第1主面と前記第2主面との間に介設され、前記セラミック誘電体基板に一体焼結された電極層と、
を備え、
前記第1主面と直交する方向にみて、前記セラミック誘電体基板の外周と、前記電極層の外周と、の間隔が均一となるように前記セラミック誘電体基板の外周が設けられ、
前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、|X1−X2|/X5が0.07%以下であることを特徴とする静電チャック。 - 前記電極層の外周の長さを周長LX5、前記セラミック誘電体基板の外周の長さを周長LX6、としたときに、LX5/LX6が97.4%以上99.6%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記電極層の外周における外径で規定される円の面積を面積SX5、前記セラミック誘電体基板の外周における外径で規定される円の面積を面積SX6、としたときに、SX5/SX6が95.1%以上99.2%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、|X1−X3|/X5が0.07%以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第3仮想線とは反対側に伸ばした第4仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X4、としたときに、|X1−X2|−|X3−X4|が200マイクロメートル以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第3仮想線とは反対側に伸ばした第4仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X4、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、||X1−X2|−|X3−X4||/X5が0.07%以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、|X1+X3|/X5が0.15%以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記電極層の外周における外径を外径X5、としたときに、|X1×X3|/X5が15%以下であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした第1仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X1、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線とは反対側に伸ばした第2仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X2、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第1仮想線と直交する方向に伸ばした第3仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X3、前記セラミック誘電体基板の中央から外周方向に伸ばした仮想線であって前記第3仮想線とは反対側に伸ばした第4仮想線上において、前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔を間隔X4、としたときに、|X1−X2|/|X3−X4|が200以下であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記電極層の外周と、前記セラミック誘電体基板の外周と、の間隔は、0.95ミリメートル以下であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記セラミック誘電体基板の周端部に設けられ前記第1主面の一部を形成するシールリングの幅は、0.3ミリメートル以上3ミリメートル以下であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1つに記載の静電チャック。
- 前記第1主面と直交する方向にみたときに、前記電極層が、前記シールリングと重複する幅は、−0.7ミリメートル以上2ミリメートル以下であることを特徴とする請求項13記載の静電チャック。
- 前記第1主面と直交する方向にみたときに、前記電極層が、前記シールリングと重複した領域の面積を面積S1、前記第1主面と直交する方向にみたときの前記セラミック誘電体基板の面積を面積S2、としたときに、S1/S2が5%以下であることを特徴とする請求項13または14に記載の静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014195518A JP2015088743A (ja) | 2013-09-27 | 2014-09-25 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013201240 | 2013-09-27 | ||
JP2013201240 | 2013-09-27 | ||
JP2014195518A JP2015088743A (ja) | 2013-09-27 | 2014-09-25 | 静電チャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015088743A JP2015088743A (ja) | 2015-05-07 |
JP2015088743A5 true JP2015088743A5 (ja) | 2017-11-02 |
Family
ID=53051172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014195518A Pending JP2015088743A (ja) | 2013-09-27 | 2014-09-25 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015088743A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6124156B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2017-05-10 | Toto株式会社 | 静電チャックおよびウェーハ処理装置 |
CN116454003A (zh) * | 2018-04-05 | 2023-07-18 | 朗姆研究公司 | 有冷却气体区域和相应槽及单极静电夹持电极模式的静电卡盘 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001219331A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-14 | Ibiden Co Ltd | 静電チャック |
JP4646461B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2011-03-09 | 京セラ株式会社 | 電極内蔵セラミック部材及びその製造方法 |
JP4061131B2 (ja) * | 2002-06-18 | 2008-03-12 | キヤノンアネルバ株式会社 | 静電吸着装置 |
JP4031419B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2008-01-09 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
JP4879929B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2012-02-22 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
JP5189928B2 (ja) * | 2008-08-18 | 2013-04-24 | 日本碍子株式会社 | セラミックス部材の作成方法及び静電チャック |
JP5969488B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2016-08-17 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
-
2014
- 2014-09-25 JP JP2014195518A patent/JP2015088743A/ja active Pending
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