JP2015087724A - 光導波路の製造方法および光導波路の製造装置 - Google Patents
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Description
図8は、従来の光導波路の製造装置の構成を示す斜視図であり、図9は、図8に示す光導波路の製造装置において被加工物に対して照射されるレーザーの照射領域とその走査方向とを示す平面図であり、図10は、図8に示す光導波路の製造装置により加工されて得られる光導波路を示す斜視図であり、図11は、図10の平面図である。
(1) レーザー光源と、並列する複数のコア部を備える光導波路形成用部材と、列状に並んだ複数の透過部を有するマスクと、を配置する配置工程と、
前記レーザー光源から前記各透過部を介して前記光導波路形成用部材にレーザーを照射しつつ、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させることにより、前記光導波路形成用部材に加工を施し、光導波路を得る加工工程と、を有し、
前記光導波路形成用部材を基準にした系において、前記マスクが移動する方向をマスク移動方向とし、前記複数の透過部が並ぶ方向を透過部配列方向としたとき、前記光導波路形成用部材にそれぞれ投影された前記マスク移動方向と前記透過部配列方向とが斜めに交差するように、前記マスクを配置するとともに前記光導波路形成用部材と前記マスクの位置を相対的に変化させることを特徴とする光導波路の製造方法。
前記配置工程において、前記コア部の延在方向の端部における一辺と前記透過部の一辺とが平行になるよう、前記マスクを配置する上記(1)に記載の光導波路の製造方法。
前記マスク移動方向と前記2辺のそれぞれの延在方向とが直交するよう、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させる上記(1)または(2)に記載の光導波路の製造方法。
前記移動機構は、前記光導波路形成用部材を基準にした系において、前記マスクが移動する方向をマスク移動方向とし、前記複数の透過部が並ぶ方向を透過部配列方向としたとき、前記光導波路形成用部材にそれぞれ投影された前記マスク移動方向と前記透過部配列方向とが斜めに交差するように、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させるよう構成されていることを特徴とする光導波路の製造装置。
まず、本発明の光導波路の製造方法により製造される光導波路の一例について説明する。
次に、本発明の光導波路の製造装置の実施形態について説明する。
(レーザー光源)
レーザー光源21としては、特に限定されないが、比較的広い領域に対して均等な光量を照射可能なものが好ましく用いられる。具体的には、例えば、YAGレーザー、YVO4レーザー、Ybレーザー、半導体レーザーのような各種固体レーザー、CO2レーザー、He−Neレーザー、エキシマーレーザーのような各種気体レーザー等が挙げられる。このうち、光量の均等性や加工に適した波長であるといった観点から、エキシマーレーザーが好ましく用いられる。
反射鏡23は、レーザーL5を反射させ、照射方向を変換する。このような反射鏡23を用いることにより、レーザーL3の出射方向とレーザーL5の照射方向とを異ならせることができるので、光導波路の製造装置2の設計自由度を高めることができる。その結果、より小型の装置を実現することができる。
図3に示す光導波路の製造装置2は、前述したように、マスク22を備えている。
図3に示す光導波路の製造装置2には、光導波路形成用部材29がセットされている。図3に示す光導波路の製造装置2は、図示しないステージを備えており、光導波路形成用部材29はこのステージ上に載置される。また、このステージは、X軸とY軸に移動可能なX−YステージやX軸とY軸とZ軸とに移動可能なX−Y−Zステージ等であってもよい。これにより、光導波路形成用部材29を自在に移動することができるので、光導波路形成用部材29の任意の位置に、前述したレーザーL5による照射領域D2を移動させることができる。その結果、任意の位置に凹部170を形成することができる。
次に、本発明の光導波路の製造方法の実施形態について説明する。
また、この傾斜面は、コア部の延長線上ではなく、コア部の途中に形成されてもよい。
10 積層体
11 クラッド層
12 クラッド層
13 コア層
131 一端面
14 コア部
141 一端部
15 側面クラッド部
170 凹部
171 傾斜面
172 傾斜面
173 直立面
174 直立面
2 光導波路の製造装置
21 レーザー光源
22 マスク
220 板状体
221 透過部
229 矢印
23 反射鏡
29 光導波路形成用部材
C1 光軸
C2 光軸
D1 照射領域
D2 照射領域
E1 配列軸
E2 配列軸
L1 レーザー
L2 レーザー
L3 レーザー
L5 レーザー
N1 法線
N2 投影法線
N3 投影法線
R1 短軸
S1 範囲
S2 範囲
S3 範囲
S4 範囲
θ1 傾斜角度
θ2 傾斜角度
θ3 交差角度
9 光導波路の製造装置
90 光導波路
91 レーザー光源
92 マスク
93 反射鏡
99 光導波路形成用部材
921 透過部
991 クラッド層
992 クラッド層
993 コア層
994 コア部
995 側面クラッド部
997 凹部
9931 一端面
9941 一端部
9971 傾斜面
Claims (6)
- レーザー光源と、並列する複数のコア部を備える光導波路形成用部材と、列状に並んだ複数の透過部を有するマスクと、を配置する配置工程と、
前記レーザー光源から前記各透過部を介して前記光導波路形成用部材にレーザーを照射しつつ、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させることにより、前記光導波路形成用部材に加工を施し、光導波路を得る加工工程と、を有し、
前記光導波路形成用部材を基準にした系において、前記マスクが移動する方向をマスク移動方向とし、前記複数の透過部が並ぶ方向を透過部配列方向としたとき、前記光導波路形成用部材にそれぞれ投影された前記マスク移動方向と前記透過部配列方向とが斜めに交差するように、前記マスクを配置するとともに前記光導波路形成用部材と前記マスクの位置を相対的に変化させることを特徴とする光導波路の製造方法。 - 前記光導波路形成用部材が平面視されたとき、前記コア部は、細長い形状をなしており、
前記配置工程において、前記コア部の延在方向の端部における一辺と前記透過部の一辺とが平行になるよう、前記マスクを配置する請求項1に記載の光導波路の製造方法。 - 前記透過部は、対向する2辺が平行な形状をなしており、
前記マスク移動方向と前記2辺のそれぞれの延在方向とが直交するよう、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させる請求項1または2に記載の光導波路の製造方法。 - 前記マスク移動方向と前記コア部の端部の光軸とが平行になるよう、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させる請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 前記複数のコア部は、隣り合う2本の前記コア部の端部の位置が、前記コア部の延在方向において互いにずれるよう構成されている請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 光導波路形成用部材に向けてレーザーを照射するレーザー光源と、列状に並んだ複数の透過部を有するマスクと、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置が相対的に変化するよう前記光導波路形成用部材および前記マスクの少なくとも一方を移動させる移動機構と、を有し、
前記移動機構は、前記光導波路形成用部材を基準にした系において、前記マスクが移動する方向をマスク移動方向とし、前記複数の透過部が並ぶ方向を透過部配列方向としたとき、前記光導波路形成用部材にそれぞれ投影された前記マスク移動方向と前記透過部配列方向とが斜めに交差するように、前記光導波路形成用部材に対する前記マスクの位置を相対的に変化させるよう構成されていることを特徴とする光導波路の製造装置。
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