JP2015084394A - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board capable of preventing impairments such as warpage and distortion, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: A printed circuit board 10 comprises: a composite material layer 105 having one face and another face corresponding thereto; a first insulator layer 110 formed on the one face of the composite material layer 105; and a second insulator layer 220 formed on the another face of the composite material layer 105. The thermal expansion coefficients of the first insulator layer 110, the second insulator layer 220 and the composite material layer 105 are different from each other.

Description

本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

近年、電子機器の発展に伴い、印刷回路基板の低重量化、薄板化、小型化、及び高集積化が進んでいる。このような要求に応えるべく、印刷回路の構造がさらに複雑化、高密度化、及び多層化している。   In recent years, with the development of electronic devices, printed circuit boards have been reduced in weight, thickness, size, and integration. In order to meet such a demand, the structure of the printed circuit is further complicated, densified, and multilayered.

また、製品サイクルの短期化により、顧客の要求への迅速な対応及び開発期間の短縮が要求されている。このような状況で、印刷回路基板の薄板化の傾向により、顧客に納品する基板の反り(Warpage)は、解決すべきの核心的な技術問題となっている。   In addition, due to the shortening of the product cycle, it is required to respond quickly to customer requests and shorten the development period. Under such circumstances, due to the trend toward thinner printed circuit boards, warpage of the substrates delivered to customers has become a core technical problem to be solved.

このような印刷回路基板に電子部品を実装する過程で、薄板化及び多層化された印刷回路基板には、熱による熱膨張及び反りが発生する。ここで、印刷回路基板を構成する各要素は、互いに異なる熱膨張係数(Coefficient of Thermal Expansion;CTE)を有しており、また、この構成要素の形態、厚さ、及び面積が互いに異なるため、製作工程を経る中に高温の熱による熱膨張及び反りが必然的に発生する。   In the process of mounting electronic components on such a printed circuit board, thermal expansion and warpage are generated due to heat in the printed circuit board that is thinned and multilayered. Here, each element constituting the printed circuit board has a different coefficient of thermal expansion (CTE), and the form, thickness, and area of the component are different from each other. Thermal expansion and warping inevitably occur due to high temperature heat during the manufacturing process.

例を挙げて説明すれば、銅の熱膨張係数(CTE)は、10〜20ppm/℃であり、印刷回路基板(PCB)に用いられる通常の高分子複合絶縁材料の熱膨張係数(CTE)は、50〜80ppm/℃である。   For example, the coefficient of thermal expansion (CTE) of copper is 10 to 20 ppm / ° C., and the coefficient of thermal expansion (CTE) of a normal polymer composite insulating material used for a printed circuit board (PCB) is 50-80 ppm / ° C.

特に、高分子は、その粘弾性により、ガラス転移温度(Tg)以上の温度で熱膨張係数(CTE)が大きく上昇する。この高温熱膨張係数(CTE)は、150〜180ppm/℃に至り、ガラス転移温度(Tg)は、150〜200℃の値を有する。   In particular, a polymer has a large coefficient of thermal expansion (CTE) at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) due to its viscoelasticity. The high temperature coefficient of thermal expansion (CTE) reaches 150 to 180 ppm / ° C., and the glass transition temperature (Tg) has a value of 150 to 200 ° C.

印刷回路基板(PCB)上に半導体等の部品を実装する際に、印刷回路基板(PCB)には、250〜280℃内外の熱が3〜5秒間急速に供給される。この際、回路と絶縁層との熱膨張係数(CTE)差が大きいと、めっきで形成された回路にクラックが発生したり、基板の形態が歪んだりする恐れがあり、処理後に冷却する際にも、熱膨張係数(CTE)差により、実装された部品と印刷回路基板との間の半田(Solder)にクラックが発生したり基板の形態が歪んだりする恐れがある。   When mounting a component such as a semiconductor on a printed circuit board (PCB), heat inside and outside of 250 to 280 ° C. is rapidly supplied to the printed circuit board (PCB) for 3 to 5 seconds. At this time, if the difference in coefficient of thermal expansion (CTE) between the circuit and the insulating layer is large, cracks may occur in the circuit formed by plating or the shape of the substrate may be distorted. However, due to the difference in coefficient of thermal expansion (CTE), there is a risk that a crack may occur in the solder between the mounted component and the printed circuit board, or the form of the board may be distorted.

このように反り等の構造的問題が発生した基板は、結局、電子部品の実装性を低下させる。このように、基板に要求される電気的、熱的、機械的、寸法安定性は、さらに重要な要素として作用する。この中でも、特に熱による寸法変形は、基板を製作する際に信頼性を左右する重要な要素の一つである。   Thus, a substrate on which a structural problem such as warpage has occurred ultimately reduces the mountability of the electronic component. Thus, the electrical, thermal, mechanical and dimensional stability required for the substrate acts as a further important factor. Among these, dimensional deformation due to heat in particular is one of the important factors that influence the reliability when manufacturing a substrate.

従来用いられていた多層の印刷回路基板は、絶縁層を中心として上・下に配線のための銅層が形成されており、この銅層と樹脂からなる絶縁層とが交互に積層されることで多層に構成される。   Conventionally used multilayer printed circuit boards have copper layers for wiring on the top and bottom centering on the insulating layer, and the copper layers and insulating layers made of resin are alternately stacked. It is composed of multiple layers.

このような上・下対称的な構造を有するにもかかわらず、印刷回路基板は、何れか一方に反る、いわゆる反り(Warpage)現象が発生する。これは、印刷回路基板の中心線を基準として上部と下部との熱膨張の差に起因することである。   In spite of having such an upper / lower symmetrical structure, the printed circuit board warps either one, that is, a so-called warpage phenomenon occurs. This is due to the difference in thermal expansion between the upper part and the lower part with reference to the center line of the printed circuit board.

しかし、絶縁層を構成する高分子物質の熱膨張係数(CTE)を低めるための多様な方法にもかかわらず、結局、配線を構成する銅との熱膨張係数(CTE)の差が生じる。   However, in spite of various methods for lowering the coefficient of thermal expansion (CTE) of the polymer material constituting the insulating layer, a difference in coefficient of thermal expansion (CTE) from copper constituting the wiring eventually occurs.

したがって、印刷回路基板の絶縁層が上・下対称的な構造を有していても、銅層の体積や面積が互いに異なって、熱的膨張面では実際に対称構造を有することができないため、印刷回路基板が何れか一方に反る現象が発生するという問題点がある。   Therefore, even if the insulating layer of the printed circuit board has an up / down symmetrical structure, the volume and area of the copper layer are different from each other, and the thermal expansion surface cannot actually have a symmetrical structure. There is a problem that a phenomenon occurs in which the printed circuit board is warped in any one of them.

上記の問題を解決するために、多様な方法が試されている。   Various methods have been tried to solve the above problems.

一例として、印刷回路基板本体の一面と他面のうち熱収縮率が大きい部分に、銅配線層及び半田レジスト層に比べ熱収縮率が小さい複数個のバー(bar)を垂直に挿入して反りを防止する方法が用いられる。   As an example, a plurality of bars having a smaller thermal contraction rate than the copper wiring layer and the solder resist layer are vertically inserted into the warp portion of one side and the other side of the printed circuit board main body and having a large thermal contraction rate. A method for preventing this is used.

また、他の例として、熱膨張係数が小さい材質と熱膨張係数が大きい材質とを上下に積層した反り相殺手段を、印刷回路基板の内部に上下対称するように内在させたり、印刷回路基板の上下の外表面に対称的に付着した。   Further, as another example, a warp canceling means in which a material having a low thermal expansion coefficient and a material having a large thermal expansion coefficient are vertically stacked is incorporated inside the printed circuit board so as to be vertically symmetrical, It adhered symmetrically to the upper and lower outer surfaces.

これにより、上方または下方に反る現象が発生しても、上部に配列された反り相殺手段が下方に反るとともに、下部に配列された反り相殺手段が上方に反って、その相殺作用により印刷回路基板の反り現象を減少させる効果を奏することができた。   As a result, even if a phenomenon of warping upward or downward occurs, the warp canceling means arranged in the upper part warps downward, and the warp canceling means arranged in the lower part warps upward, and printing is performed by the canceling action. The effect of reducing the warping phenomenon of the circuit board could be achieved.

しかし、このような従来方式は、結局、印刷回路基板の反りを防止するための部分が追加的に添加される方式であるため、薄型化且つ高密度化している集積回路パターンを実現するには限界があった。   However, since such a conventional method is a method in which a portion for preventing warpage of the printed circuit board is added in the end, it is necessary to realize an integrated circuit pattern that is thinned and densified. There was a limit.

本発明者らは、印刷回路基板の絶縁層の残銅量に応じてフィラーの含量を調節することにより、互いに異なる熱膨張率を有する絶縁層を形成することで、反りが防止されることを確認し、本発明を成すに至った。   By adjusting the filler content according to the amount of copper remaining in the insulating layer of the printed circuit board, the present inventors can prevent warping by forming insulating layers having different coefficients of thermal expansion. It confirmed and came to make this invention.

したがって、本発明の目的は、別の反り防止手段がなくても、印刷回路基板で発生する反り現象を防止し、寸法安定性を有する印刷回路基板を提供することにある。   Accordingly, it is an object of the present invention to provide a printed circuit board having a dimensional stability by preventing a warp phenomenon occurring in the printed circuit board without using another means for preventing warpage.

本発明の他の目的は、別の反り防止手段がないため、軽く、且つ薄型であるだけでなく、集積度が向上された印刷回路基板を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a printed circuit board which is not only light and thin but also has an improved degree of integration because there is no other warp prevention means.

本発明のさらに他の目的は、絶縁層のフィラーの含量を調節することで、反りが防止される印刷回路基板の製造方法を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board in which warpage is prevented by adjusting the filler content of an insulating layer.

上記の一つの目的を達成するための本発明の具体例による印刷回路基板(以下、「第1発明」という)は、一面及びそれに対応する他面を有する複合材層と、前記複合材層の一面上に形成された第1絶縁層と、前記複合材層の他面上に形成された第2絶縁層と、を含み、前記第1絶縁層、前記第2絶縁層、及び複合材層の熱膨張係数が互いに異なるように形成される。   In order to achieve the above object, a printed circuit board (hereinafter referred to as “first invention”) according to a specific example of the present invention includes a composite material layer having one surface and another surface corresponding thereto, A first insulating layer formed on one surface and a second insulating layer formed on the other surface of the composite material layer, wherein the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer It forms so that a thermal expansion coefficient may mutually differ.

第1発明において、前記第1絶縁層と前記複合材層との間に形成された第1回路層と、前記第2絶縁層と前記複合材層との間に形成された第2回路層と、さらにを含み、前記第1回路層と前記第2回路層は互いに異なる形成面積を有する。   In the first invention, a first circuit layer formed between the first insulating layer and the composite material layer; a second circuit layer formed between the second insulating layer and the composite material layer; The first circuit layer and the second circuit layer have different formation areas.

第1発明において、前記複合材層または前記第1、2絶縁層は、前記第1、2回路層と互いに交互に繰り返して積層されて形成される。   In the first invention, the composite material layer or the first and second insulating layers are alternately and repeatedly laminated with the first and second circuit layers.

第1発明において、前記複合材層は、有機繊維または無機繊維、液晶オリゴマー、エポキシ系樹脂、及びフィラーを含む。   In the first invention, the composite material layer includes an organic fiber or an inorganic fiber, a liquid crystal oligomer, an epoxy resin, and a filler.

第1発明において、前記第1絶縁層及び第2絶縁層は、液晶オリゴマー、エポキシ系樹脂、及びフィラーを含む。   In the first invention, the first insulating layer and the second insulating layer include a liquid crystal oligomer, an epoxy resin, and a filler.

第1発明において、前記液晶オリゴマーは下記化学式1で表される。   In the first invention, the liquid crystal oligomer is represented by the following chemical formula 1.

Figure 2015084394
Figure 2015084394

ここで、aは13〜26の整数、bは13〜26の整数、cは9〜21の整数、dは10〜30の整数、及びeは10〜30の整数である。   Here, a is an integer of 13 to 26, b is an integer of 13 to 26, c is an integer of 9 to 21, d is an integer of 10 to 30, and e is an integer of 10 to 30.

第1発明において、前記有機繊維または無機繊維及びフィラーは、前記複合材層100重量%に対して20〜80重量%で含まれる。   1st invention WHEREIN: The said organic fiber or inorganic fiber, and a filler are contained by 20-80 weight% with respect to 100 weight% of said composite material layers.

第1発明において、前記複合材層の全重量に対して、前記無機繊維または有機繊維の含量が5〜25重量%であり、前記フィラーの含量が5〜75重量%である。   1st invention WHEREIN: The content of the said inorganic fiber or organic fiber is 5-25 weight% with respect to the total weight of the said composite material layer, and the content of the said filler is 5-75 weight%.

第1発明において、前記無機繊維または有機繊維は、ガラス繊維、炭素繊維、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール繊維、サーモトロピック液晶高分子繊維、リオトロピック液晶高分子繊維、アラミド繊維、ポリピリドビスイミダゾール繊維、ポリベンゾチアゾール繊維、及びポリアリレート繊維から選択される一つ以上である。   In the first invention, the inorganic fiber or organic fiber includes glass fiber, carbon fiber, polyparaphenylene benzobisoxazole fiber, thermotropic liquid crystal polymer fiber, lyotropic liquid crystal polymer fiber, aramid fiber, polypyridobisimidazole fiber, One or more selected from polybenzothiazole fibers and polyarylate fibers.

第1発明において、前記ガラス繊維は、T−ガラス繊維、E−ガラス繊維、S−ガラス繊維、セラミック繊維、及びこれらの混合物から選択される何れか一つである。   In the first invention, the glass fiber is any one selected from T-glass fiber, E-glass fiber, S-glass fiber, ceramic fiber, and a mixture thereof.

第1発明において、前記フィラーは、前記第1絶縁層または第2絶縁層100重量%に対して20〜80重量%で含まれる。   In the first invention, the filler is included in an amount of 20 to 80% by weight with respect to 100% by weight of the first insulating layer or the second insulating layer.

第1発明において、前記フィラーは、有機フィラー、無機フィラー、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか一つである。   In the first invention, the filler is any one selected from the group consisting of an organic filler, an inorganic filler, and a combination thereof.

第1発明において、前記無機フィラーは、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、炭化ケイ素(SiC)、硫酸バリウム(BaSO)、タルク、雲母粉、水酸化アルミニウム(AlOH)、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、炭酸カルシウム(CaCO)、炭酸マグネシウム(MgCO)、酸化マグネシウム(MgO)、窒化ホウ素(BN)、ホウ酸アルミニウム(AlBO)、チタン酸バリウム(BaTiO)、ジルコン酸カルシウム(CaZrO)、及びこれらの組み合わせの何れか一つである。 In the first invention, the inorganic filler is silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), barium sulfate (BaSO 4 ), talc, mica powder, aluminum hydroxide (AlOH 3 ), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2), calcium carbonate (CaCO 3), magnesium carbonate (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), aluminum borate (alBO 3), barium titanate (BaTiO 3 ), calcium zirconate (CaZrO 3 ), and combinations thereof.

第1発明において、前記有機フィラーは、エポキシ樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ユリア樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、スチレン樹脂、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか一つである。   In the first invention, the organic filler is any one selected from the group consisting of epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, benzoguanamine resin powder, styrene resin, and combinations thereof.

第1発明において、前記第1回路層及び第2回路層の残銅率が10〜20%の範囲で増加する際に、前記第1絶縁層、第2絶縁層、及び複合材層のフィラーの含量を1〜10重量%の範囲で調節する。   In the first invention, when the remaining copper ratio of the first circuit layer and the second circuit layer increases in the range of 10 to 20%, the filler of the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer The content is adjusted in the range of 1 to 10% by weight.

本発明の他の目的を達成するための印刷回路基板の製造方法(以下、「第2発明」という)は、一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、前記複合材層の一面に第1回路層を、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含み、前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量とが互いに異なるように形成し、前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層の残銅率より高い場合には、前記第1絶縁層のフィラー含量が前記第2絶縁層のフィラー含量より多いように形成する。   According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board (hereinafter referred to as a “second invention”) comprising providing a composite material layer having one surface and another surface, and one surface of the composite material layer. Forming a first circuit layer, a second circuit layer on the other surface of the composite material layer, a third circuit layer on the first circuit layer, and the first circuit layer and the third circuit layer. Forming a first insulating layer between the circuit layer, forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer; Forming a filler content of the first insulating layer and a filler content of the second insulating layer different from each other, and a residual copper ratio of the first insulating layer is different from that of the second insulating layer. When the percentage of remaining copper is higher, the filler content of the first insulating layer is formed to be greater than the filler content of the second insulating layer.

第2発明において、前記第1回路層及び第2回路層の残銅率が10〜20%の範囲で増加する際に、前記第1絶縁層、第2絶縁層、及び複合材層のフィラーの含量を1〜10重量%の範囲に調節する。   In the second invention, when the remaining copper ratio of the first circuit layer and the second circuit layer is increased in the range of 10 to 20%, the filler of the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer The content is adjusted to a range of 1 to 10% by weight.

第2発明において、前記フィラーは、前記第1絶縁層または第2絶縁層の100重量%に対して20〜80重量%で含まれる。   In the second invention, the filler is contained in an amount of 20 to 80% by weight with respect to 100% by weight of the first insulating layer or the second insulating layer.

本発明のさらに他の目的を達成するための印刷回路基板の製造方法(以下、「第3発明」という)は、一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、前記複合材層の一面に第1回路層と、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含み、前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量とが互いに異なるように形成し、前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層の残銅率より高い場合には、前記第2絶縁層のフィラー含量が前記第1絶縁層のフィラー含量より少ないように形成する。   According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board (hereinafter referred to as a “third invention”) comprising: providing a composite material layer having one surface and another surface; Forming a first circuit layer on one surface and a second circuit layer on the other surface of the composite material layer; forming a third circuit layer on the first circuit layer; and Forming a first insulating layer between the three circuit layers, forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer; Forming a filler content of the first insulating layer and a filler content of the second insulating layer different from each other, and a remaining copper ratio of the first insulating layer is different from that of the second insulating layer. When the remaining copper ratio is higher, the filler content of the second insulating layer is less than the filler content of the first insulating layer. To.

第3発明において、前記第1回路層及び第2回路層の残銅率が10〜20%の範囲で増加する際に、前記第1絶縁層、第2絶縁層、及び複合材層のフィラーの含量を1〜10重量%の範囲で調節する。   In the third invention, when the remaining copper ratio of the first circuit layer and the second circuit layer is increased in the range of 10 to 20%, the filler of the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer The content is adjusted in the range of 1 to 10% by weight.

第3発明において、前記フィラーは、前記第1絶縁層または第2絶縁層の100重量%に対して20〜80重量%で含まれる。   In the third invention, the filler is contained in an amount of 20 to 80% by weight with respect to 100% by weight of the first insulating layer or the second insulating layer.

本発明の具体例による印刷回路基板及びその製造方法は、回路層の間に配置される絶縁層のフィラーの含量を選択的に調節して、互いに異なる熱膨張係数を有する絶縁層を形成することにより、反りや歪み等の不良を防止することができる効果がある。   According to embodiments of the present invention, a printed circuit board and a method of manufacturing the printed circuit board may selectively adjust the filler content of the insulating layer disposed between the circuit layers to form insulating layers having different coefficients of thermal expansion. Thus, it is possible to prevent defects such as warpage and distortion.

また、熱膨張による応力を緩和することで、回路及び回路上に実装されるチップの損傷を防止することができる。   Further, by relaxing the stress due to thermal expansion, it is possible to prevent damage to the circuit and the chip mounted on the circuit.

また、フィラーを必要な量だけ添加するため、材料が節約され、製造コストを低減することができる。   Further, since the filler is added in a necessary amount, the material is saved and the manufacturing cost can be reduced.

また、別の反り防止手段が不要であるため、軽く、且つ薄型であるだけでなく、集積度を向上することができる。   Further, since another warp prevention means is unnecessary, not only is it light and thin, but also the degree of integration can be improved.

本発明の代表的な具体例による印刷回路基板の断面図である。1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の拡大断面図である。1 is an enlarged cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。   Objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments with reference to the accompanying drawings. In this specification, it should be noted that when adding reference numerals to the components of each drawing, the same components are given the same number as much as possible even if they are shown in different drawings. I must. The terms “one side”, “other side”, “first”, “second” and the like are used to distinguish one component from another component, and the component is the term It is not limited by. Hereinafter, in describing the present invention, detailed descriptions of known techniques that may obscure the subject matter of the present invention are omitted.

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

先ず、図1から図7を参照して、本発明の例示的な具体例による印刷回路基板及びその製造方法について説明する。   First, a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS.

本発明の例示的な具体例において、液晶オリゴマーを含み、フィラーの含量が調節された絶縁層を備えた印刷回路基板について説明するが、これに限定されるものではなく、多様な絶縁層を用いることができる。   In an exemplary embodiment of the present invention, a printed circuit board including a liquid crystal oligomer and an insulating layer having a controlled filler content will be described, but the present invention is not limited thereto, and various insulating layers are used. be able to.

図1は、本発明の代表的な具体例による印刷回路基板の断面図であり、図2は、本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の拡大断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

図1及び図2を参照すれば、本発明の代表的な具体例による印刷回路基板10は、一面及びそれに対応する他面を有する複合材層105と、前記複合材層105の一面上に形成された第1絶縁層110と、前記複合材層105の他面上に形成された第2絶縁層220と、を含み、前記第1絶縁層110、前記第2絶縁層220、及び複合材層105の熱膨張係数が互いに異なるように形成される。   Referring to FIGS. 1 and 2, a printed circuit board 10 according to an exemplary embodiment of the present invention is formed on one surface of a composite material layer 105 having one surface and the other surface corresponding thereto, and on one surface of the composite material layer 105. The first insulating layer 110, the second insulating layer 220 formed on the other surface of the composite material layer 105, and the first insulating layer 110, the second insulating layer 220, and the composite material layer. The thermal expansion coefficients of 105 are different from each other.

ここで、複合材層105の一面と第1絶縁層110との間に第1回路層1100を介在させ、第1絶縁層110と第3絶縁層130との間に第3回路層1300を介在させる。また、複合材層105の他面と第2絶縁層220との間に第2回路層2200を形成し、第2絶縁層220と第4絶縁層240との間に第4回路層2400を形成することができる。このように、印刷回路基板10は、多数の絶縁層と回路層とを交互に積層させて形成し、この際、回路層の厚さや形成面積が互いに異なるように形成することができる。   Here, the first circuit layer 1100 is interposed between the one surface of the composite material layer 105 and the first insulating layer 110, and the third circuit layer 1300 is interposed between the first insulating layer 110 and the third insulating layer 130. Let Further, the second circuit layer 2200 is formed between the other surface of the composite material layer 105 and the second insulating layer 220, and the fourth circuit layer 2400 is formed between the second insulating layer 220 and the fourth insulating layer 240. can do. As described above, the printed circuit board 10 is formed by alternately laminating a large number of insulating layers and circuit layers, and at this time, the thickness and formation area of the circuit layers can be different from each other.

また、多数の絶縁層及び回路層が積層された印刷回路基板10の最外側には、絶縁層を形成することができる。この最外側の絶縁層150、260の一部が開口され、電子部品と連結されるパッドを形成することができる。   In addition, an insulating layer can be formed on the outermost side of the printed circuit board 10 on which a large number of insulating layers and circuit layers are stacked. A part of the outermost insulating layers 150 and 260 is opened, and a pad connected to an electronic component can be formed.

このような回路層1100、1300、2200、2400は、複合材層105または絶縁層110、130、150、220、240、260上に配置され、パターンを形成して回路を構成する配線となることができる。   Such circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 are arranged on the composite material layer 105 or the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260, and form wiring to form a circuit. Can do.

また、複合材層105または絶縁層110、130、150、220、240、260は、回路層1100、1300、2200、2400の厚さ方向に積層形成され、印刷回路基板10の内部回路層1100、1300、2200、2400の間を絶縁させる役割を果たすことができる。   The composite material layer 105 or the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 are stacked in the thickness direction of the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400, and the internal circuit layer 1100, 1300, 2200, and 2400 can be insulated from each other.

ここで、従来の印刷回路基板の構造は、複合材層105を基準として厚さ方向に絶縁層110、130、150、220、240、260が交互に積層形成され、上・下対称をなす構造を有しており、同一のフィラー含量で形成された絶縁層及び複合材層からなる。   Here, the structure of the conventional printed circuit board is a structure in which insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 are alternately stacked in the thickness direction with respect to the composite material layer 105 to form an upper / lower symmetry. And comprising an insulating layer and a composite layer formed with the same filler content.

しかし、実際に適用される製品では、相対的に熱膨張が少ない回路層1100、1300、2200、2400が回路(信号層及びグランド層)を構成するため、印刷回路基板10の中心を基準として上部及び下部の回路層1100、1300、2200、2400を構成する銅の体積や面積が異なって形成され得る。以下、複合材層105または絶縁層110、130、150、220、240、260上にそれぞれ接触形成される回路層1100、1300、2200、2400を、残銅率と名称する。   However, in a product that is actually applied, the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 that have relatively low thermal expansion constitute a circuit (signal layer and ground layer), and therefore, the upper part is based on the center of the printed circuit board 10. In addition, the volume and area of copper constituting the lower circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 may be different. Hereinafter, the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 formed in contact with the composite material layer 105 or the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260, respectively, will be referred to as the remaining copper ratio.

この回路層1100、1300、2200、2400は、回路配線を介して電気信号を受信して伝達するため、このような電気エネルギーにより銅配線に熱が発生し得る。前記発生した熱は、銅配線の体積及び面積等によって互いに異なる熱エネルギーとなり、隣接した複合材層105及び絶縁層110、130、150、220、240、260にその熱エネルギーを伝達させる。   Since the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 receive and transmit electrical signals through the circuit wiring, heat can be generated in the copper wiring due to such electrical energy. The generated heat becomes different thermal energy depending on the volume and area of the copper wiring, and the thermal energy is transmitted to the adjacent composite material layer 105 and insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260.

さらに、工程中に回路配線上に半導体チップ等を実装(surface mounted tech:SMT)するが、この際、実装する前に予備加熱工程が追加され、実装工程で280℃内外の熱が、複合材層105または絶縁層110、130、150、220、240、260に提供される。そのため、複合材層105または、絶縁層110、130、150、220、240、260が熱膨張し、これにより印刷回路基板10の反りが発生する恐れがある。   Furthermore, a semiconductor chip or the like is mounted on the circuit wiring during the process (surface mounted technology: SMT). At this time, a preheating process is added before the mounting, and the heat inside and outside of 280 ° C. is applied in the mounting process. Provided to layer 105 or insulating layer 110, 130, 150, 220, 240, 260. Therefore, the composite material layer 105 or the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 may thermally expand, which may cause the printed circuit board 10 to warp.

また、回路層1100、1300、2200、2400において、銅配線が露出された面積が大きい領域では、残銅率によってさらに多くの熱が発生し得る。さらに、絶縁層110、130、150、220、240、260は、粘性及び弾性の特性を有しており、このような粘弾性により、熱による熱膨張の割合が指数的に増加し得る。このように銅配線と複合材層105及び絶縁層110、130、150、220、240、260とが互いに異なる熱膨張係数を有するため、伝達される熱エネルギーによって反りが発生する恐れがある。   Further, in the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400, more heat can be generated depending on the remaining copper ratio in a region where the area where the copper wiring is exposed is large. Furthermore, the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 have viscosity and elasticity characteristics, and the rate of thermal expansion due to heat can increase exponentially due to such viscoelasticity. As described above, since the copper wiring, the composite material layer 105, and the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 have different thermal expansion coefficients, there is a risk of warping due to the transmitted thermal energy.

また、前記熱エネルギーの伝達による熱膨張を調節するために、絶縁層110、130、150、220、240、260は、高分子にフィラー180を含んで形成することができる。回路層1100、1300、2200、2400を構成する銅に比べ、絶縁層110、130、150、220、240、260を構成する高分子の熱膨張係数が相対的に高い。   In addition, in order to adjust the thermal expansion due to the transmission of the thermal energy, the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 may be formed by including a filler 180 in a polymer. Compared to copper forming the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400, the thermal expansion coefficient of the polymer that forms the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 is relatively high.

したがって、絶縁層110、130、150、220、240、260に、フィラー180等を注入して熱膨張係数を調節することで、熱膨張による反り現象を防止することができる。   Accordingly, by injecting the filler 180 or the like into the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 and adjusting the thermal expansion coefficient, it is possible to prevent a warp phenomenon due to thermal expansion.

絶縁層110、130、150、220、240、260は、高分子にフィラー180が添加されたビルドアップフィルム(Build−Up film)であることができる。前記ビルドアップフィルムは、ビアホールを備えて配線密度を増加させることにより、印刷回路基板10を高密度化及び薄型化させることができる。   The insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 may be build-up films in which a filler 180 is added to a polymer. The build-up film can be provided with via holes to increase the wiring density, thereby increasing the density and thickness of the printed circuit board 10.

絶縁層110、130、150、220、240、260に混合されるフィラー180の含量は、前記絶縁層110、130、150、220、240、260の全重量に対して20〜80重量%となるように充填することができる。   The content of the filler 180 mixed with the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 is 20 to 80% by weight with respect to the total weight of the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260. Can be filled.

フィラー180の含量が20重量%未満であると、熱伝達力が弱くなる恐れがあり、フィラー180の含量が80重量%を超過すると、回路層1100、1300、2200、2400との密着力が低下する問題が発生し得る。   If the content of the filler 180 is less than 20% by weight, the heat transfer force may be weakened. If the content of the filler 180 exceeds 80% by weight, the adhesion with the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 is reduced. Problems may occur.

また、フィラー180としては、無機フィラーまたは有機フィラー及びこれらの組み合わせの何れか一つを用いることができる。   As the filler 180, any one of an inorganic filler, an organic filler, and a combination thereof can be used.

ここで、無機フィラーとしては、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、硫酸バリウム(BaSO)、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム(AlOH)、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、炭酸カルシウム(CaCO)、炭酸マグネシウム(MgCO)、酸化マグネシウム(MgO)、窒化ホウ素(BN)、ホウ酸アルミニウム(AlBO)、チタン酸バリウム(BaTiO)、及びジルコン酸カルシウム(CaZrO)から選択される一つ以上を用いることができる。 Here, as the inorganic filler, silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), barium sulfate (BaSO 4 ), talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide (AlOH 3 ), magnesium hydroxide (Mg ( OH) 2), calcium carbonate (CaCO 3), magnesium carbonate (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), aluminum borate (alBO 3), barium titanate (BaTiO 3), and zirconate One or more selected from calcium (CaZrO 3 ) can be used.

また、有機フィラーとしては、エポキシ樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ユリア樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、スチレン樹脂、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか一つを用いることができる。   Further, as the organic filler, any one selected from the group consisting of epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, benzoguanamine resin powder, styrene resin, and combinations thereof can be used.

絶縁層110、130、150、220、240、260は、高分子からなり、エポキシ樹脂及び下記化学式1の液晶オリゴマー(Liquid Crystal oligomer)を含む。   The insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 are made of a polymer and include an epoxy resin and a liquid crystal oligomer represented by the following chemical formula 1.

Figure 2015084394
Figure 2015084394

ここで、aは13〜26の整数、bは13〜26の整数、cは9〜21の整数、dは10〜30の整数、eは10〜30の整数である。   Here, a is an integer of 13 to 26, b is an integer of 13 to 26, c is an integer of 9 to 21, d is an integer of 10 to 30, and e is an integer of 10 to 30.

前記液晶オリゴマーは、液晶(Liquid Crystal)の特性を具現する構造及び溶媒に溶ける可溶性構造をともに有している。また、前記液晶オリゴマーは、主鎖の両末端のうち一つ以上に、互いに同一であるかまたは異なる硬化性グループを導入することができる。換言すれば、エポキシと硬化剤による硬化構造を有することができる部分が両末端に存在する。   The liquid crystal oligomer has both a structure embodying liquid crystal characteristics and a soluble structure that is soluble in a solvent. In addition, the liquid crystal oligomer may have the same or different curable groups introduced into one or more of both ends of the main chain. In other words, there are portions at both ends that can have a cured structure of an epoxy and a curing agent.

このような硬化性グループとしては、光硬化性グループまたは熱硬化性グループを導入することができる。また、前記液晶オリゴマーとして、例えば、熱硬化性または光硬化性液晶オリゴマーを挙げて説明するが、機械的物性を向上させることができる材料であれば特に限定されない。   As such a curable group, a photocurable group or a thermosetting group can be introduced. The liquid crystal oligomer will be described with reference to, for example, a thermosetting or photocurable liquid crystal oligomer, but is not particularly limited as long as the material can improve mechanical properties.

前記熱硬化性グループは、基板形成用組成物を用いて印刷回路基板10等の製造する際に高温硬化を経ると、これら架橋官能基が互いに架橋されて、強固な網形態の安定した構造を形成するため、印刷回路基板10の機械的物性を向上させることができる。   When the thermosetting group undergoes high-temperature curing when the printed circuit board 10 or the like is produced using the substrate forming composition, these cross-linking functional groups are cross-linked with each other to form a stable structure in a strong network form. Therefore, the mechanical properties of the printed circuit board 10 can be improved.

また、光硬化性グループは、紫外線光により光エネルギーが提供されると、架橋官能基が互いに架橋されて、強固な網形態の安定した硬化構造を有することができる。   In addition, when photo energy is provided by ultraviolet light, the photocurable group can have a stable cured structure having a strong net form by cross-linking functional groups.

一方、図面では、複合材層105を単層に図示したが、印刷回路基板10のモジュラスを向上させるために多層に形成してもよく、絶縁層110、130、150、220、240、260も図示したように多層に形成してもよい。   On the other hand, although the composite material layer 105 is illustrated as a single layer in the drawing, it may be formed in multiple layers in order to improve the modulus of the printed circuit board 10, and the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, 260 may also be formed. It may be formed in multiple layers as shown.

ここで、複合材層105は、フィラー180を含む高分子に有・無機繊維170をさらに含むプリプレグ(PPG)であることができる。   Here, the composite material layer 105 may be a prepreg (PPG) in which a polymer including the filler 180 further includes organic / inorganic fibers 170.

前記複合材層105には、絶縁層110、130、150、220、240、260と同一の高分子及びフィラー、フィラー含量を用いることができる。   The composite material layer 105 may use the same polymer, filler, and filler content as the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260.

一方、複合材層105に混合された有・無機繊維170及びフィラー180の含量は、前記複合材層105の全重量に対して20〜80重量%となるように充填することができ、その中で有・無機繊維170は、5重量%〜25重量%含むことができる。   On the other hand, the content of the organic / inorganic fibers 170 and the filler 180 mixed in the composite material layer 105 can be filled so as to be 20 to 80% by weight with respect to the total weight of the composite material layer 105. In addition, the organic / inorganic fiber 170 may be included in an amount of 5 wt% to 25 wt%.

このような有・無機繊維170の添加量により、フィラー180は、複合材層105の全重量に対して5重量%〜75重量%含むことができる。   Depending on the amount of the organic / inorganic fiber 170 added, the filler 180 can be included in an amount of 5 wt% to 75 wt% with respect to the total weight of the composite material layer 105.

この際、フィラー180は、熱膨張係数を低めるために、少なくとも5重量%以上添加されなければならない。   At this time, the filler 180 must be added by at least 5% by weight in order to reduce the thermal expansion coefficient.

フィラー180の添加量が75重量%を超過すると、フィラー180の分散性が低下してフィラー180の凝集現象が発生し、基板の表面粗さが増加する恐れがある。また、高分子の粘度が増加して、製品の成形が困難となる恐れがある。さらに、多層に形成される積層構造において、層間密着力が低下する恐れがある。   When the added amount of the filler 180 exceeds 75% by weight, the dispersibility of the filler 180 is lowered, the aggregation phenomenon of the filler 180 occurs, and the surface roughness of the substrate may increase. In addition, the viscosity of the polymer may increase, making it difficult to mold the product. Furthermore, in the laminated structure formed in multiple layers, the interlayer adhesion may be reduced.

また、前記有・無機繊維170は、ガラス繊維、炭素繊維、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール繊維、サーモトロピック液晶高分子繊維、リオトロピック液晶高分子繊維、アラミド繊維、ポリピリドビスイミダゾール繊維、ポリベンゾチアゾール繊維、及びポリアリレート繊維から選択される一つ以上である。   The organic / inorganic fiber 170 includes glass fiber, carbon fiber, polyparaphenylene benzobisoxazole fiber, thermotropic liquid crystal polymer fiber, lyotropic liquid crystal polymer fiber, aramid fiber, polypyridobisimidazole fiber, polybenzothiazole. One or more selected from fibers and polyarylate fibers.

このうち前記ガラス繊維としては、T−ガラス繊維、E−ガラス繊維、S−ガラス繊維、セラミック繊維等を用いることができる。また、有・無機繊維170として、無機繊維、有機繊維、及びこれらの組み合わせを用いてもよい。   Among these, as said glass fiber, T-glass fiber, E-glass fiber, S-glass fiber, ceramic fiber, etc. can be used. Moreover, as the organic / inorganic fiber 170, inorganic fiber, organic fiber, and a combination thereof may be used.

このように、残銅率に応じて、複合材層105または絶縁層110、130、150、220、240、260に添加される有・無機繊維及びフィラーの量を調節することにより、絶縁層及び複合材層の熱膨張率を調節することができる。これにより、熱膨張係数差によって発生する反りを防止することができる。また、熱膨張による応力を緩和することで、回路及び回路上に実装されるチップの損傷を防止することができる。   Thus, by adjusting the amount of the organic / inorganic fibers and filler added to the composite material layer 105 or the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 according to the remaining copper ratio, the insulating layer and The coefficient of thermal expansion of the composite material layer can be adjusted. Thereby, the curvature which generate | occur | produces by a thermal expansion coefficient difference can be prevented. Further, by relaxing the stress due to thermal expansion, it is possible to prevent damage to the circuit and the chip mounted on the circuit.

一方、図2は、本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の拡大断面図であり、ここで、本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の容易な説明のために、回路層のパターン形状を任意に図示する。   Meanwhile, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. Here, for easy explanation of the printed circuit board according to the exemplary embodiment of the present invention, a circuit layer is illustrated. The pattern shape is arbitrarily illustrated.

図2を参照すれば、回路層1100、1300、2200、2400は、絶縁層110、130、150、220、240、260上に配置され、パターンを形成して回路を構成する配線となる。絶縁層110、130、150、220、240、260の上部面と下部面に回路層1100、1300、2200、2400が配置される。換言すれば、前記回路層1100、1300、2200、2400は、前記絶縁層110、130、150、220、240、260の間にそれぞれ介在させる。   Referring to FIG. 2, circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 are disposed on insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 to form wirings that form a circuit. Circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 are disposed on the upper and lower surfaces of the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260, respectively. In other words, the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 are interposed between the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260, respectively.

ここで、回路層1100、1300、2200、2400は、パターンで形成されるため、絶縁層110、130、150、220、240、260の上・下面に、異なる体積及び面積を有するように形成され得る。   Here, since the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 are formed in a pattern, they are formed on the upper and lower surfaces of the insulating layers 110, 130, 150, 220, 240, and 260 so as to have different volumes and areas. obtain.

例えば、複合材層105の一面に第1回路層1100が形成され、第1回路層1100上に第1絶縁層110が形成される。また、第1絶縁層110上に第3回路層1300が形成される。したがって、第1絶縁層110は、第1回路層1100及び第3回路層1300に接触することになる。また、複合材層105の他面に形成された第2絶縁層220も第2回路層2200及び第4回路層2400に接触するように形成される。   For example, the first circuit layer 1100 is formed on one surface of the composite material layer 105, and the first insulating layer 110 is formed on the first circuit layer 1100. A third circuit layer 1300 is formed on the first insulating layer 110. Therefore, the first insulating layer 110 is in contact with the first circuit layer 1100 and the third circuit layer 1300. The second insulating layer 220 formed on the other surface of the composite material layer 105 is also formed so as to be in contact with the second circuit layer 2200 and the fourth circuit layer 2400.

ここで、印刷回路基板10の構造は、複合材層105を基準として、第1、2絶縁層110、220が上下対称をなす構造を有しているが、実際に適用される製品では、熱膨張が相対的に少ない回路層1100、1300、2200、2400が回路を構成するため、印刷回路基板10の中心を基準として上下に回路層を構成する銅の体積や面積が異なって形成され得る。即ち、第1、2絶縁層110、220上に形成される銅層、即ち、残銅率が互いに異なって形成される。   Here, the structure of the printed circuit board 10 has a structure in which the first and second insulating layers 110 and 220 are vertically symmetrical with respect to the composite material layer 105. Since the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 that have relatively little expansion form a circuit, the copper layers and circuit areas that form the circuit layers can be formed differently on the top and bottom with respect to the center of the printed circuit board 10. That is, the copper layers formed on the first and second insulating layers 110 and 220, that is, the remaining copper ratios are different from each other.

このように、第1、2絶縁層110、220上に形成された回路層1100、1300、2200、2400の面積及び体積が互いに異なるため、回路層1100、1300、2200、2400と接触して形成される複合材層105または第1、2絶縁層110、220にそれぞれ異なる熱エネルギーが伝達される。   As described above, since the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400 formed on the first and second insulating layers 110 and 220 have different areas and volumes, they are formed in contact with the circuit layers 1100, 1300, 2200, and 2400. Different thermal energy is transmitted to the composite material layer 105 or the first and second insulating layers 110 and 220.

また、図2に図示されたように、第2絶縁層220に接触して形成された第2、4回路層2200、2400は、低い残銅率で形成され、第1絶縁層110に接触して形成された第1、3回路層1100、1300は、第2、4回路層2200、2400より高い残銅率で形成されている。   As shown in FIG. 2, the second and fourth circuit layers 2200 and 2400 formed in contact with the second insulating layer 220 are formed with a low residual copper ratio and are in contact with the first insulating layer 110. The first and third circuit layers 1100 and 1300 thus formed are formed with a higher residual copper ratio than the second and fourth circuit layers 2200 and 2400.

この際、残銅率の高い第1絶縁層110は、残銅率の低い第2絶縁層220より多くの熱エネルギーを受けて、高い熱膨張率を有することになる。   At this time, the first insulating layer 110 having a high residual copper ratio receives a larger amount of thermal energy than the second insulating layer 220 having a low residual copper ratio, and has a high coefficient of thermal expansion.

ここで、残銅率に応じて第1絶縁層110または第2絶縁層220のフィラー量を調節することができる。換言すれば、残銅率に応じて、絶縁層に添加されるフィラーの量を調節することで、伝達された熱エネルギーによる熱膨張率を調節することができる。これにより、残銅率の高い第1絶縁層110と残銅率の低い第2絶縁層220とのフィラー含量が互いに異なるように混合することで、熱膨張による反りを防止することができる。   Here, the filler amount of the first insulating layer 110 or the second insulating layer 220 can be adjusted according to the remaining copper ratio. In other words, the coefficient of thermal expansion due to the transmitted thermal energy can be adjusted by adjusting the amount of filler added to the insulating layer according to the remaining copper ratio. Thereby, the curvature by thermal expansion can be prevented by mixing so that the filler content of the 1st insulating layer 110 with a high residual copper ratio and the 2nd insulating layer 220 with a low residual copper ratio may mutually differ.

例を挙げて説明すれば、残銅率は、絶縁層の一面(100%)及び他面(100%)に形成された回路層の面積を計算した百分率で総200%と定義する。   For example, the remaining copper ratio is defined as a total percentage of 200% as a percentage calculated from the area of the circuit layer formed on one surface (100%) and the other surface (100%) of the insulating layer.

また、第1及び第2絶縁層110、220は、同一の高分子及び同一の種類のフィラーを用いて形成され、同一のフィラー含量を有すると仮定する。この際、第1絶縁層110が80%の残銅率を有し、第2絶縁層220が60%の残銅率を有すると仮定すると、印刷回路基板10は、多くの熱エネルギーを受ける方向に、即ち、高い残銅率を有する第1絶縁層110の方向に、凸状に反ることになる。   In addition, it is assumed that the first and second insulating layers 110 and 220 are formed using the same polymer and the same type of filler and have the same filler content. At this time, assuming that the first insulating layer 110 has a remaining copper ratio of 80% and the second insulating layer 220 has a remaining copper ratio of 60%, the printed circuit board 10 receives a large amount of thermal energy. That is, it is warped convexly in the direction of the first insulating layer 110 having a high residual copper ratio.

ここで、熱膨張が多く発生した第1絶縁層110にフィラーをさらに混合して第1絶縁層110の熱膨張を低めることで、反りを防止することができる。または、第2絶縁層220のフィラー量を減少させて熱膨張を高めることで、第1絶縁層110と第2絶縁層220の熱膨張の割合を調節して、反りを防止することができる。   Here, warpage can be prevented by further mixing a filler with the first insulating layer 110 where much thermal expansion has occurred to reduce the thermal expansion of the first insulating layer 110. Alternatively, by reducing the amount of filler in the second insulating layer 220 to increase thermal expansion, the rate of thermal expansion between the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 can be adjusted to prevent warping.

即ち、互いに異なる残銅率を有する第1絶縁層110及び第2絶縁層220のフィラーの含量を増加または減少させて、第1絶縁層110及び第2絶縁層220の熱膨張係数が互いに異なるようにすることで、一方向に反ることを防止することができる。   That is, the filler contents of the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 having different copper ratios are increased or decreased so that the thermal expansion coefficients of the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 are different from each other. By making it, it can prevent warping in one direction.

この際、10〜20%の残銅率差が発生する際に、フィラーの含量を1〜10%の範囲で増加または減少させることができる。これにより、絶縁層の熱膨張率を調節して、反りを防止することができる。   At this time, when a difference in the remaining copper ratio of 10 to 20% occurs, the filler content can be increased or decreased within the range of 1 to 10%. Thereby, the thermal expansion coefficient of an insulating layer can be adjusted and curvature can be prevented.

このように、フィラーを必要な量だけ添加するため、材料が節約され、製造コストを低減されることができ、別の反り防止手段が不要であるため、軽く、且つ薄型であるとともに、集積度を向上することができる。   In this way, since the filler is added only in a necessary amount, the material can be saved, the manufacturing cost can be reduced, and another warping prevention means is unnecessary, so that it is light and thin, and the degree of integration. Can be improved.

図3から図7は、本発明の例示的な具体例による印刷回路基板の製造方法を図示した工程図である。ここで、重複説明を避けるために、図1及び図2を引用して説明する。   3 to 7 are process diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. Here, in order to avoid redundant description, description will be made with reference to FIGS.

本発明の一実施形態による印刷回路基板の製造方法は、一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、前記複合材層の一面に第1回路層を、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含む。   A method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes providing a composite material layer having one surface and another surface, a first circuit layer on one surface of the composite material layer, and the other surface of the composite material layer. Forming a second circuit layer on the first circuit layer, forming a third circuit layer on the first circuit layer, and forming a first insulating layer between the first circuit layer and the third circuit layer. Forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer.

ここで、前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量とが互いに異なるように形成し、前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層より高い場合には、前記第1絶縁層のフィラー含量が前記第2絶縁層のフィラー含量より多いように形成する。   Here, when the filler content of the first insulating layer and the filler content of the second insulating layer are different from each other, and the remaining copper ratio of the first insulating layer is higher than the second insulating layer, The first insulating layer is formed to have a filler content greater than that of the second insulating layer.

また、本発明の他の実施形態による印刷回路基板の製造方法は、一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、前記複合材層の一面に第1回路層を、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含む。   According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, the step of providing a composite material layer having one surface and another surface, a first circuit layer on one surface of the composite material layer, and the composite material layer. Forming a second circuit layer on each of the other surfaces; forming a third circuit layer on the first circuit layer; and providing a first insulating layer between the first circuit layer and the third circuit layer. Forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer.

ここで、前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量が互いに異なるように形成し、前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層より高い場合には、前記第2絶縁層のフィラー含量が前記第1絶縁層のフィラー含量より少ないように形成する。   Here, when the filler content of the first insulating layer and the filler content of the second insulating layer are different from each other, and the residual copper ratio of the first insulating layer is higher than the second insulating layer, The second insulating layer is formed so that the filler content is less than the filler content of the first insulating layer.

これをより具体的に説明すると、先ず、図3に図示されたように、複合材層105を提供する。前記複合材層105は、液晶オリゴマーと、有・無機繊維170と、フィラー180と、を含むことができ、単層または多層からなることができる。この複合材層105により、印刷回路基板10のモジュラスを向上させることができる。複合材層105の液晶オリゴマー、有・無機繊維170、及びフィラー180については、上述の説明と同様であるため省略する。   More specifically, first, as shown in FIG. 3, the composite material layer 105 is provided. The composite material layer 105 may include a liquid crystal oligomer, organic / inorganic fibers 170, and a filler 180, and may be a single layer or a multilayer. With this composite material layer 105, the modulus of the printed circuit board 10 can be improved. The liquid crystal oligomer, the organic / inorganic fiber 170, and the filler 180 of the composite material layer 105 are the same as described above, and thus are omitted.

次に、図4に図示されたように、前記複合材層105の少なくとも一面に回路層を形成する。この際、複合材層105の一面に第1回路層1100を形成し、複合材層105の他面に第2回路層2200を形成することができる。前記第1回路層1100と前記第2回路層2200は、形成面積が互いに異なるように形成することができる。   Next, as illustrated in FIG. 4, a circuit layer is formed on at least one surface of the composite material layer 105. At this time, the first circuit layer 1100 can be formed on one surface of the composite material layer 105 and the second circuit layer 2200 can be formed on the other surface of the composite material layer 105. The first circuit layer 1100 and the second circuit layer 2200 may be formed to have different formation areas.

前記第1、2回路層1100、2200は、パターンを形成して構成される回路配線からなることができる。したがって、このような回路配線は所定のパターンで形成することができる。この際、第1、2回路層1100、2200は、めっき方式で形成してもよく、現像(develop)及びエッチング(etching)工程等によりパターンを形成してもよい。また、前記第1、2回路層1100、2200は、銅で形成してもよく、伝導性金属等で形成してもよい。   The first and second circuit layers 1100 and 2200 may be formed of circuit wiring formed by forming a pattern. Therefore, such circuit wiring can be formed in a predetermined pattern. At this time, the first and second circuit layers 1100 and 2200 may be formed by a plating method, or a pattern may be formed by a development and etching process. The first and second circuit layers 1100 and 2200 may be made of copper or a conductive metal.

次に、図5に図示されたように、第1回路層1100上に第1絶縁層110を形成し、第2回路層2200上に第2絶縁層220を形成する。第1、2絶縁層110、220は、銅張積層板500を第1回路層1100または第2回路層2200上に積層して形成することができる(図6参照)。   Next, as illustrated in FIG. 5, the first insulating layer 110 is formed on the first circuit layer 1100, and the second insulating layer 220 is formed on the second circuit layer 2200. The first and second insulating layers 110 and 220 can be formed by laminating a copper clad laminate 500 on the first circuit layer 1100 or the second circuit layer 2200 (see FIG. 6).

ここで、銅張積層板500は、絶縁フィルム510と、前記絶縁フィルム510上に形成された銅箔層550と、で構成される。ここで、絶縁フィルム510は、高分子と、高分子に混合されたフィラーと、を含む。この際、前記銅箔層550上にめっき工程を行ってパターニングすることで、回路層を形成することができる。前記回路層において、パターニングにより回路が形成されるが、前記回路の設計に応じて、形成面積及び体積等が互いに異なる回路層が形成される。したがって、前記回路層が形成された面積を比較して、絶縁フィルム510のフィラー含量が互いに異なる銅張積層板を複合材層の一面及び他面にそれぞれ配置することができる。   Here, the copper clad laminate 500 includes an insulating film 510 and a copper foil layer 550 formed on the insulating film 510. Here, the insulating film 510 includes a polymer and a filler mixed with the polymer. At this time, a circuit layer can be formed by performing a plating process on the copper foil layer 550 and patterning. In the circuit layer, a circuit is formed by patterning, but circuit layers having different formation areas, volumes, and the like are formed according to the design of the circuit. Therefore, by comparing the areas where the circuit layers are formed, copper clad laminates having different filler contents of the insulating film 510 can be disposed on one side and the other side of the composite material layer, respectively.

次に、図6に図示されたように、前記銅箔層550(図5参照)をエッチングしてパターニングすることで、第1絶縁層110上に第3回路層1300を形成することができる。また、前記第1回路層と第3回路層とを電気的に連結するためのビアを加工し、前記ビアを銅で満たす工程を行うことができる。   Next, as illustrated in FIG. 6, the third circuit layer 1300 can be formed on the first insulating layer 110 by etching and patterning the copper foil layer 550 (see FIG. 5). In addition, a process for processing a via for electrically connecting the first circuit layer and the third circuit layer and filling the via with copper can be performed.

また、第2回路層2200上にも銅張積層板500(図5参照)を積層して、第2絶縁層220上に第4回路層2400を形成することができる。このように銅張積層板を複数回積層することで、複合材層を中心として対称または非対称をなす絶縁層及び回路層からなる印刷回路基板を形成することができる。   Further, the fourth circuit layer 2400 can be formed on the second insulating layer 220 by stacking the copper-clad laminate 500 (see FIG. 5) also on the second circuit layer 2200. Thus, by laminating the copper-clad laminate a plurality of times, it is possible to form a printed circuit board composed of an insulating layer and a circuit layer that are symmetric or asymmetric with respect to the composite material layer.

ここで、例を挙げて説明すれば、第1、2回路層1100、2200は、第1、2絶縁層110、220により覆われる。第1、2回路層1100、2200は、電子部品等に連結されて信号を伝達するが、この前記信号伝達過程で所定の熱が発生する。前記熱エネルギーは、前記第1絶縁層110及び第2絶縁層220に伝達される。この際、回路層に用いられる銅の熱膨張係数及び熱伝達係数は、前記第1、2絶縁層110、220に用いられる絶縁材の熱膨張係数及び熱伝達係数と互いに異なり得る。さらに、前記回路層は、体積及び面積が異なるため互いに異なる熱エネルギーが発生し、前記熱エネルギーが絶縁層に伝達される。   For example, the first and second circuit layers 1100 and 2200 are covered with first and second insulating layers 110 and 220. The first and second circuit layers 1100 and 2200 are connected to an electronic component or the like to transmit a signal, and predetermined heat is generated in the signal transmission process. The thermal energy is transmitted to the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220. At this time, the thermal expansion coefficient and the heat transfer coefficient of copper used for the circuit layer may be different from the thermal expansion coefficient and the heat transfer coefficient of the insulating material used for the first and second insulating layers 110 and 220. Furthermore, since the circuit layer has a different volume and area, different thermal energy is generated, and the thermal energy is transmitted to the insulating layer.

従来は、複合材層を中心として同一の熱膨張係数を有する絶縁層を積層していた。また、互いに異なる形成面積を有する回路層により、前記絶縁層に互いに異なる熱エネルギーが伝達される。この際、上記のように同一の熱膨張率を有する絶縁材料で形成された絶縁層が積層されてなる印刷回路基板が何れか一方の方向に反る現象が発生する。   Conventionally, an insulating layer having the same thermal expansion coefficient is laminated around a composite material layer. Further, different thermal energy is transmitted to the insulating layer by the circuit layers having different formation areas. At this time, a phenomenon occurs in which the printed circuit board in which the insulating layers formed of the insulating material having the same coefficient of thermal expansion are stacked as described above is warped in either direction.

したがって、多くの熱エネルギーを受ける絶縁層には、大きい熱膨張係数を有する絶縁材料を用い、少ない熱エネルギーを受ける絶縁層には、小さい熱膨張係数を有する絶縁材を用いることで、前記複合材層105を中心として何れか一方の方向に熱膨張が集中されることを防止して、印刷回路基板の反りを防止することができる。   Therefore, an insulating material having a large thermal expansion coefficient is used for an insulating layer that receives a large amount of thermal energy, and an insulating material having a small thermal expansion coefficient is used for an insulating layer that receives a small amount of thermal energy. It is possible to prevent the thermal expansion from being concentrated in any one direction around the layer 105, thereby preventing the warp of the printed circuit board.

このような熱膨張を調節するために、回路層の形成面積に応じて、フィラーまたは有・無機繊維の量を調節することで、熱膨張係数を調節することができる。例えば、第1回路層1100と第3回路層1300の形成面積、即ち、第1絶縁層110の残銅率が第2絶縁層の残銅率(第2回路層2200と第4回路層2400の形成面積)より小さく形成される場合、第1絶縁層110のフィラー量を調節するか、または第2回路層2200と第4回路層2400に接触されている第2絶縁層220のフィラー量を調節することができる。   In order to adjust such thermal expansion, the thermal expansion coefficient can be adjusted by adjusting the amount of filler or organic / inorganic fiber according to the formation area of the circuit layer. For example, the formation area of the first circuit layer 1100 and the third circuit layer 1300, that is, the remaining copper ratio of the first insulating layer 110 is the remaining copper ratio of the second insulating layer (the second circuit layer 2200 and the fourth circuit layer 2400 In the case of being formed smaller than the formation area, the amount of filler in the first insulating layer 110 is adjusted, or the amount of filler in the second insulating layer 220 in contact with the second circuit layer 2200 and the fourth circuit layer 2400 is adjusted. can do.

換言すれば、第1絶縁層110及び第2絶縁層220のフィラー量を調節することで、第1絶縁層110と第2絶縁層220が互いに異なる熱膨張係数を有することができる。   In other words, by adjusting the amount of filler in the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 can have different thermal expansion coefficients.

例えば、第1絶縁層110と第2絶縁層220の熱膨張係数、即ち、フィラー量が同一に形成される場合、第2回路層2200及び第4回路層2400の形成面積が第1、3回路層1100、1300より大きいと、第2絶縁層220の方向に凸状の反りが発生し得る。   For example, when the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 have the same thermal expansion coefficient, that is, the filler amount, the formation area of the second circuit layer 2200 and the fourth circuit layer 2400 is the first and third circuits. When larger than the layers 1100 and 1300, a convex warpage may occur in the direction of the second insulating layer 220.

この際、第2絶縁層220のフィラー量を増加させるか、または第1絶縁層110のフィラー量を減少させることで、印刷回路基板10の反りを低減することができる。反対に反りが発生する場合にも、上記のような方法で印刷回路基板10の反りを低減することができる。   At this time, the warpage of the printed circuit board 10 can be reduced by increasing the filler amount of the second insulating layer 220 or decreasing the filler amount of the first insulating layer 110. On the other hand, even when warping occurs, the warping of the printed circuit board 10 can be reduced by the method described above.

または、第1回路層1100及び第2回路層2200は、所定の回路パターンで形成することができるため、これに応じてフィラーまたは有・無機繊維の量を調節することができる。   Alternatively, since the first circuit layer 1100 and the second circuit layer 2200 can be formed with a predetermined circuit pattern, the amount of filler or organic / inorganic fiber can be adjusted accordingly.

この際、第1、2絶縁層110、220のフィラーの含量は、20〜80重量%であることができ、その含量を調節することで、第1絶縁層110及び第2絶縁層220が互いに異なる熱膨張係数を有するように形成することができる。また、複合材層105の有・無機繊維170の含量を調節することで、印刷回路基板の反りを低減することができる。   At this time, the filler content of the first and second insulating layers 110 and 220 may be 20 to 80% by weight, and by adjusting the content, the first insulating layer 110 and the second insulating layer 220 may be mutually connected. They can be formed to have different coefficients of thermal expansion. Moreover, the curvature of a printed circuit board can be reduced by adjusting the content of the organic / inorganic fiber 170 in the composite material layer 105.

次に、図7に図示されたように、第1絶縁層110または第2絶縁層220上にそれぞれ銅張積層板500(図5参照)を繰り返して積層する。このように銅張積層板を繰り返して積層することで、複数の絶縁層及び回路層を有する印刷回路基板を形成することができる。   Next, as illustrated in FIG. 7, the copper clad laminate 500 (see FIG. 5) is repeatedly laminated on the first insulating layer 110 or the second insulating layer 220. By repeatedly laminating the copper-clad laminate in this way, a printed circuit board having a plurality of insulating layers and circuit layers can be formed.

したがって、絶縁層は、少なくとも一面に回路層を備え、これにより熱エネルギーを受けることができる。したがって、回路層の露出面積及び体積によって絶縁層の熱膨張程度が異なって、絶縁層は互いに異なる熱膨張係数を有する。   Therefore, the insulating layer includes a circuit layer on at least one surface, and can receive heat energy. Therefore, the degree of thermal expansion of the insulating layer differs depending on the exposed area and volume of the circuit layer, and the insulating layers have different thermal expansion coefficients.

上記のように、絶縁層のフィラーの含量を調節して互いに異なる熱膨張率を有する絶縁層を形成することで、印刷回路基板の反りを防止することができる。   As described above, warping of the printed circuit board can be prevented by adjusting the filler content of the insulating layer to form insulating layers having different coefficients of thermal expansion.

(実験例)
本実験例では、印刷回路基板に用いられる高分子材料である複合材層の熱膨張率による反り発生特性を観察するために、フィラーの量を調節しながら反り現象を観察した。
(Experimental example)
In this experimental example, the warpage phenomenon was observed while adjusting the amount of the filler in order to observe the warpage occurrence characteristics due to the coefficient of thermal expansion of the composite material layer which is a polymer material used for the printed circuit board.

先ず、印刷回路基板の構成については、重複説明を避けるために、図1及び図2を引用する。   First, with respect to the configuration of the printed circuit board, FIGS. 1 and 2 are cited in order to avoid redundant description.

印刷回路基板10の中央には、複合材層105が形成されている。ここで、複合材層105は、印刷回路基板10のモジュラスを向上させるためのものであって、ガラス繊維を含むプリプレグである。このような複合材層105は、単層であってもよく、多層であってもよい。また、複合材層105の両面に回路層が形成され、前記回路層上に絶縁層が形成される。このように回路層と絶縁層とが交互に順に積層形成される。   A composite material layer 105 is formed in the center of the printed circuit board 10. Here, the composite material layer 105 is for improving the modulus of the printed circuit board 10 and is a prepreg containing glass fibers. Such a composite material layer 105 may be a single layer or a multilayer. In addition, circuit layers are formed on both surfaces of the composite material layer 105, and an insulating layer is formed on the circuit layer. In this way, the circuit layers and the insulating layers are alternately stacked in order.

このように、印刷回路基板10は、複合材層105を中心として、鏡面対称構造を有することができる。   As described above, the printed circuit board 10 can have a mirror-symmetric structure with the composite material layer 105 as the center.

一方、回路層は、それぞれ回路パターンで形成されるため、露出面積が互いに異なって形成され、露出体積も互いに異なって形成され得る。   On the other hand, since each circuit layer is formed with a circuit pattern, it may be formed with different exposed areas and different exposed volumes.

表1は、印刷回路基板10の各層の厚さ及び回路層の残銅率を示すものである。ここで、厚さは、印刷回路基板10の全体厚さに対する各層の厚さの割合を百分率で換算したものであり、回路層の露出割合は、絶縁層の一面上に形成された銅の残有量(残銅率)を百分率で示したものである。   Table 1 shows the thickness of each layer of the printed circuit board 10 and the remaining copper ratio of the circuit layer. Here, the thickness is obtained by converting the ratio of the thickness of each layer to the total thickness of the printed circuit board 10 as a percentage. The amount (remaining copper ratio) is expressed as a percentage.

Figure 2015084394
Figure 2015084394

このように、回路層は、それぞれ回路パターンで構成されるため、回路層は、互いに異なる露出割合(残銅率)で形成され得る。これにより、回路層の残銅率によって、互いに異なる熱エネルギーが複合材層及び絶縁層に伝達される。   Thus, since each circuit layer is comprised by a circuit pattern, a circuit layer can be formed in a mutually different exposure ratio (remaining copper ratio). Accordingly, different thermal energy is transmitted to the composite material layer and the insulating layer depending on the remaining copper ratio of the circuit layer.

(比較例)
比較例では、実験例と同様に、印刷回路基板を形成し、複合材層及び絶縁層に同一のエポキシ系樹脂、同一の含量の液晶オリゴマーを含ませ、同一の含量の有・無機繊維またはフィラーを混合した。この際、絶縁層の残銅率にかかわらず、有・無機繊維及びフィラーの量を40重量%と同一に添加して印刷回路基板を形成した。また、複合材層及び絶縁層に混合されるフィラーも同一の種類を用いた。
(Comparative example)
In the comparative example, as in the experimental example, a printed circuit board is formed, the composite material layer and the insulating layer contain the same epoxy resin, the same content of liquid crystal oligomer, and the same content of organic / inorganic fiber or filler. Were mixed. At this time, regardless of the remaining copper ratio of the insulating layer, the amount of organic / inorganic fiber and filler was added in the same amount as 40% by weight to form a printed circuit board. Moreover, the same kind was used for the filler mixed with a composite material layer and an insulating layer.

(実施例1)
実施例1では、前記比較例と異なって、複合材層及び絶縁層に形成された残銅率、即ち、銅の体積及び面積に応じて、複合材層及び絶縁層に混合されるフィラーの量を調節して添加した。
Example 1
In Example 1, unlike the comparative example, the remaining copper ratio formed in the composite material layer and the insulating layer, that is, the amount of filler mixed in the composite material layer and the insulating layer according to the volume and area of copper. Was added after adjusting.

表1に示したように、第1回路層の残銅率は39.8%、第3回路層の残銅率は43.4%で、第1回路層と第3回路層との間に介在される第1絶縁層の残銅率は83.2%で形成される。また、第2回路層の残銅率は53.0%、第4回路層の残銅率は46.9%で、第2回路層と第4回路層との間に介在される第2絶縁層の残銅率は99.9%で形成される。   As shown in Table 1, the remaining copper ratio of the first circuit layer is 39.8%, the remaining copper ratio of the third circuit layer is 43.4%, and it is between the first circuit layer and the third circuit layer. The intervening first insulating layer has a remaining copper ratio of 83.2%. The remaining copper ratio of the second circuit layer is 53.0%, the remaining copper ratio of the fourth circuit layer is 46.9%, and the second insulation interposed between the second circuit layer and the fourth circuit layer. The residual copper ratio of the layer is formed at 99.9%.

ここで、残銅率の低い第1絶縁層には、フィラーの含量を20%減少させて混合し、残銅率の高い第2絶縁層には、フィラーの含量を30%増加させて混合した。このように、互いに異なる残銅率で形成された前記第1絶縁層と第2絶縁層に、互いに異なる量のフィラーを添加して、熱膨張による反りを観察した。   Here, the first insulating layer with a low residual copper ratio was mixed with a filler content reduced by 20%, and the second insulating layer with a high residual copper ratio was mixed with a filler content increased by 30%. . In this way, different amounts of fillers were added to the first insulating layer and the second insulating layer formed with different residual copper ratios, and warpage due to thermal expansion was observed.

(実施例2)
実施例2では、実施例1と異なって、複合材層の高分子にガラス繊維を含浸させ、前記ガラス繊維の含量を調節しながら複合材層の熱膨張率を測定した。ここで、高分子の成分及び含量を同一に維持し、フィラーの含量及び成分も同一に維持した状態で、ガラス繊維の含量を調節しながら、複合材層を単層及び二つの層に形成した。
(Example 2)
In Example 2, unlike Example 1, the polymer of the composite material layer was impregnated with glass fiber, and the thermal expansion coefficient of the composite material layer was measured while adjusting the content of the glass fiber. Here, the composite material layer was formed into a single layer and two layers while adjusting the glass fiber content while maintaining the same polymer component and content and the same filler content and component. .

(物性特性及び分析)
実施例1、実施例2、及び比較例で形成された複合材層及び絶縁層の熱膨張率による印刷回路基板の反りを測定した。反りによる印刷回路基板の変形率を測定するためにASAME(Target Model&2D Model)及びGPA製品を用い、変形率情報として変形前の基板位置情報と変形後の基板位置情報との差を用いて反りを観察した。
(Physical properties and analysis)
The warpage of the printed circuit board due to the coefficient of thermal expansion of the composite material layer and the insulating layer formed in Example 1, Example 2, and Comparative Example was measured. In order to measure the deformation rate of the printed circuit board due to warpage, an ASAME (Target Model & 2D Model) and GPA products are used, and the warp is calculated using the difference between the substrate position information before deformation and the substrate position information after deformation as deformation rate information. Observed.

表2は、比較例、実施例1、及び実施例2の反り発生有無をまとめた表である。   Table 2 is a table summarizing the presence or absence of warpage in Comparative Example, Example 1, and Example 2.

Figure 2015084394
Figure 2015084394

表2に示したように、回路層の体積及び面積によって熱発生量が互いに異なるため、銅箔層の間に配置される複合材層に伝達される熱も異なって、複合材層の熱膨張が互いに異なって生じる。   As shown in Table 2, since the heat generation amount differs depending on the volume and area of the circuit layer, the heat transferred to the composite material layer disposed between the copper foil layers also differs, and the thermal expansion of the composite material layer Occur differently from each other.

したがって、比較例のように、回路層の体積及び面積に同一の樹脂及び同一のフィラーを用いるにもかかわらず、熱膨張によって発生する反り程度が互いに異なって、印刷回路基板の反りが発生し得る。   Therefore, as in the comparative example, although the same resin and the same filler are used for the volume and area of the circuit layer, the warpage caused by thermal expansion is different from each other, and the warpage of the printed circuit board may occur. .

一方、実施例1及び実施例2のように、回路層の体積及び面積に応じてフィラーの量及びガラス繊維の量を調節する場合、フィラーが複合材層に伝達された熱を排出する程度が異なるため、上・下の熱膨張程度が互いに対称をなして、反りを防止することができる。   On the other hand, when the amount of filler and the amount of glass fiber are adjusted according to the volume and area of the circuit layer as in Example 1 and Example 2, the extent to which the filler discharges the heat transferred to the composite material layer. Since they are different, the upper and lower thermal expansions are symmetrical with each other, and warpage can be prevented.

一方、複合材層への有・無機繊維の添加量を調節して熱膨張率を調節し、互いに異なる熱膨張係数を有する複合材層を形成することで、反りを防止することができる。また、反り防止のための別の構造物が不要であるため、薄型化及び集積化を実現することができる。   On the other hand, warpage can be prevented by adjusting the amount of organic / inorganic fibers added to the composite material layer to adjust the coefficient of thermal expansion to form composite material layers having different thermal expansion coefficients. Further, since a separate structure for preventing warpage is not necessary, it is possible to realize thinning and integration.

以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。   As described above, the present invention has been described in detail based on the specific embodiments. However, the present invention is only for explaining the present invention, and the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that modifications and improvements within the technical idea of the present invention are possible.

本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。   All simple variations and modifications of the present invention belong to the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be apparent from the appended claims.

本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に適用可能である。   The present invention is applicable to a printed circuit board and a manufacturing method thereof.

10 印刷回路基板
105 複合材層
110 第1絶縁層(絶縁層)
130 第3絶縁層(絶縁層)
150 第5絶縁層(絶縁層)
170 有・無機繊維
180 フィラー
220 第2絶縁層(絶縁層)
240 第4絶縁層(絶縁層)
260 第6絶縁層(絶縁層)
500 銅張積層板
510 絶縁フィルム
550 銅箔層
1100 第1回路層(回路層)
1300 第3回路層(回路層)
2200 第2回路層(回路層)
2400 第4回路層(回路層)
10 Printed Circuit Board 105 Composite Material Layer 110 First Insulating Layer (Insulating Layer)
130 3rd insulating layer (insulating layer)
150 5th insulating layer (insulating layer)
170 Organic / inorganic fiber 180 Filler 220 Second insulating layer (insulating layer)
240 4th insulating layer (insulating layer)
260 6th insulating layer (insulating layer)
500 Copper-clad laminate 510 Insulating film 550 Copper foil layer 1100 First circuit layer (circuit layer)
1300 Third circuit layer (circuit layer)
2200 Second circuit layer (circuit layer)
2400 Fourth circuit layer (circuit layer)

Claims (19)

一面及びそれに対応する他面を有する複合材層と、
前記複合材層の一面上に形成された第1絶縁層と、
前記複合材層の他面上に形成された第2絶縁層と、を含み、
前記第1絶縁層、前記第2絶縁層、及び複合材層の熱膨張係数が互いに異なるように形成される、印刷回路基板。
A composite layer having one side and the other side corresponding thereto;
A first insulating layer formed on one surface of the composite material layer;
A second insulating layer formed on the other surface of the composite material layer,
The printed circuit board, wherein the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer are formed to have different coefficients of thermal expansion.
前記第1絶縁層と前記複合材層との間に形成された第1回路層と、
前記第2絶縁層と前記複合材層との間に形成された第2回路層と、をさらに含み、
前記第1回路層と前記第2回路層は互いに異なる形成面積を有する、請求項1に記載の印刷回路基板。
A first circuit layer formed between the first insulating layer and the composite material layer;
A second circuit layer formed between the second insulating layer and the composite material layer,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the first circuit layer and the second circuit layer have different formation areas.
前記複合材層または前記第1、2絶縁層は、前記第1、2回路層と互いに交互に繰り返して積層されて形成される、請求項2に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 2, wherein the composite material layer or the first and second insulating layers are alternately and repeatedly stacked with the first and second circuit layers. 前記複合材層は、有機繊維または無機繊維、液晶オリゴマー、エポキシ系樹脂、及びフィラーを含む、請求項1に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 1, wherein the composite material layer includes an organic fiber or an inorganic fiber, a liquid crystal oligomer, an epoxy resin, and a filler. 前記第1絶縁層及び第2絶縁層は、液晶オリゴマー、エポキシ系樹脂、及びフィラーを含む、請求項1に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 1, wherein the first insulating layer and the second insulating layer include a liquid crystal oligomer, an epoxy resin, and a filler. 前記液晶オリゴマーは下記化学式1で表される、請求項4または5に記載の印刷回路基板。
Figure 2015084394
ここで、aは13〜26の整数、bは13〜26の整数、cは9〜21の整数、dは10〜30の整数、及びeは10〜30の整数である。
The printed circuit board according to claim 4, wherein the liquid crystal oligomer is represented by the following chemical formula 1.
Figure 2015084394
Here, a is an integer of 13 to 26, b is an integer of 13 to 26, c is an integer of 9 to 21, d is an integer of 10 to 30, and e is an integer of 10 to 30.
前記有機繊維または無機繊維及びフィラーは、前記複合材層100重量%に対して20〜80重量%で含まれる、請求項4に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 4, wherein the organic fiber or the inorganic fiber and the filler are contained in an amount of 20 to 80% by weight with respect to 100% by weight of the composite material layer. 前記複合材層の全重量に対して、前記無機繊維または有機繊維の含量が5〜25重量%であり、前記フィラーの含量が5〜75重量%である、請求項4に記載の印刷回路基板。   5. The printed circuit board according to claim 4, wherein the content of the inorganic fiber or organic fiber is 5 to 25 wt% and the content of the filler is 5 to 75 wt% with respect to the total weight of the composite material layer. . 前記無機繊維または有機繊維は、ガラス繊維、炭素繊維、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール繊維、サーモトロピック液晶高分子繊維、リオトロピック液晶高分子繊維、アラミド繊維、ポリピリドビスイミダゾール繊維、ポリベンゾチアゾール繊維、及びポリアリレート繊維から選択される一つ以上である、請求項4に記載の印刷回路基板。   The inorganic fiber or organic fiber includes glass fiber, carbon fiber, polyparaphenylene benzobisoxazole fiber, thermotropic liquid crystal polymer fiber, lyotropic liquid crystal polymer fiber, aramid fiber, polypyridobisimidazole fiber, polybenzothiazole fiber, The printed circuit board according to claim 4, wherein the printed circuit board is one or more selected from polyarylate fibers. 前記ガラス繊維は、T−ガラス繊維、E−ガラス繊維、S−ガラス繊維、セラミック繊維、及びこれらの混合物から選択される何れか一つである、請求項9に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 9, wherein the glass fiber is any one selected from T-glass fiber, E-glass fiber, S-glass fiber, ceramic fiber, and a mixture thereof. 前記フィラーは、前記第1絶縁層または第2絶縁層100重量%に対して20〜80重量%で含まれる、請求項5に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 5, wherein the filler is included at 20 to 80 wt% with respect to 100 wt% of the first insulating layer or the second insulating layer. 前記フィラーは、有機フィラー、無機フィラー、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか一つである、請求項4または5に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 4, wherein the filler is any one selected from the group consisting of an organic filler, an inorganic filler, and a combination thereof. 前記無機フィラーは、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、炭化ケイ素(SiC)、硫酸バリウム(BaSO)、タルク、雲母粉、水酸化アルミニウム(AlOH)、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、炭酸カルシウム(CaCO)、炭酸マグネシウム(MgCO)、酸化マグネシウム(MgO)、窒化ホウ素(BN)、ホウ酸アルミニウム(AlBO)、チタン酸バリウム(BaTiO)、ジルコン酸カルシウム(CaZrO)、及びこれらの組み合わせの何れか一つである、請求項12に記載の印刷回路基板。 The inorganic filler is silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), barium sulfate (BaSO 4 ), talc, mica powder, aluminum hydroxide (AlOH 3 ), magnesium hydroxide (Mg) (OH) 2), calcium carbonate (CaCO 3), magnesium carbonate (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), aluminum borate (alBO 3), barium titanate (BaTiO 3), lead zirconate acid The printed circuit board according to claim 12, which is any one of calcium (CaZrO 3 ) and a combination thereof. 前記有機フィラーは、エポキシ樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ユリア樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、スチレン樹脂、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される何れか一つである、請求項12に記載の印刷回路基板。   The printed circuit according to claim 12, wherein the organic filler is any one selected from the group consisting of epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, benzoguanamine resin powder, styrene resin, and combinations thereof. substrate. 前記第1回路層及び第2回路層の残銅率が10〜20%の範囲で増加する際に、前記第1絶縁層、第2絶縁層、及び複合材層のフィラーの含量を1〜10重量%の範囲で調節する、請求項11に記載の印刷回路基板。   When the remaining copper ratio of the first circuit layer and the second circuit layer is increased in the range of 10 to 20%, the filler content of the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer is set to 1 to 10%. The printed circuit board according to claim 11, wherein the printed circuit board is adjusted within a range of weight%. 一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、
前記複合材層の一面に第1回路層を、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、
前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、
前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含み、
前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量とが互いに異なるように形成し、
前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層の残銅率より高い場合には、前記第1絶縁層のフィラー含量が前記第2絶縁層のフィラー含量より多いように形成する、印刷回路基板の製造方法。
Providing a composite layer having one side and the other side;
Forming a first circuit layer on one surface of the composite material layer and a second circuit layer on the other surface of the composite material layer;
Forming a third circuit layer on the first circuit layer, forming a first insulating layer between the first circuit layer and the third circuit layer;
Forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer,
Forming a filler content of the first insulating layer and a filler content of the second insulating layer different from each other;
When the residual copper ratio of the first insulating layer is higher than the residual copper ratio of the second insulating layer, printing is performed such that the filler content of the first insulating layer is greater than the filler content of the second insulating layer. A method of manufacturing a circuit board.
一面及び他面を有する複合材層を提供する段階と、
前記複合材層の一面に第1回路層を、前記複合材層の他面に第2回路層をそれぞれ形成する段階と、
前記第1回路層上に第3回路層を形成し、前記第1回路層と前記第3回路層との間に第1絶縁層を形成して、
前記第2回路層上に第4回路層を形成し、前記第2回路層と前記第4回路層との間に第2絶縁層を形成する段階と、を含み、
前記第1絶縁層のフィラー含量と前記第2絶縁層のフィラー含量とが互いに異なるように形成し、
前記第1絶縁層の残銅率が前記第2絶縁層の残銅率より高い場合には、前記第2絶縁層のフィラー含量が前記第1絶縁層のフィラー含量より少ないように形成する、印刷回路基板の製造方法。
Providing a composite layer having one side and the other side;
Forming a first circuit layer on one surface of the composite material layer and a second circuit layer on the other surface of the composite material layer;
Forming a third circuit layer on the first circuit layer, forming a first insulating layer between the first circuit layer and the third circuit layer;
Forming a fourth circuit layer on the second circuit layer, and forming a second insulating layer between the second circuit layer and the fourth circuit layer,
Forming a filler content of the first insulating layer and a filler content of the second insulating layer different from each other;
When the remaining copper ratio of the first insulating layer is higher than the remaining copper ratio of the second insulating layer, the filler is formed so that the filler content of the second insulating layer is less than the filler content of the first insulating layer. A method of manufacturing a circuit board.
前記第1回路層及び第2回路層の残銅率が10〜20%の範囲で増加する際に、前記第1絶縁層、第2絶縁層、及び複合材層のフィラーの含量を1〜10重量%の範囲で調節する、請求項16または17に記載の印刷回路基板の製造方法。   When the remaining copper ratio of the first circuit layer and the second circuit layer is increased in the range of 10 to 20%, the filler content of the first insulating layer, the second insulating layer, and the composite material layer is set to 1 to 10%. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 16, wherein the printed circuit board is adjusted in a range of% by weight. 前記フィラーは、前記第1絶縁層または第2絶縁層の100重量%に対して20〜80重量%で含まれる、請求項16または17に記載の印刷回路基板の製造方法。   18. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 16, wherein the filler is contained in an amount of 20 to 80 wt% with respect to 100 wt% of the first insulating layer or the second insulating layer.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018195766A (en) * 2017-05-19 2018-12-06 大日本印刷株式会社 Wiring board and mounting board
CN109273426A (en) * 2017-07-18 2019-01-25 欣兴电子股份有限公司 Encapsulating structure and its manufacturing method
WO2020090583A1 (en) * 2018-11-02 2020-05-07 京セラ株式会社 Wiring board
US11445617B2 (en) 2011-10-31 2022-09-13 Unimicron Technology Corp. Package structure and manufacturing method thereof

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11127664B2 (en) 2011-10-31 2021-09-21 Unimicron Technology Corp. Circuit board and manufacturing method thereof
TWI573230B (en) * 2015-06-26 2017-03-01 矽品精密工業股份有限公司 Package structure and its package substrate
TWI573231B (en) * 2015-07-17 2017-03-01 矽品精密工業股份有限公司 Package substrate and method of manufacture thereof
US10276467B2 (en) * 2016-03-25 2019-04-30 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Fan-out semiconductor package
CN108012402B (en) * 2016-11-02 2020-06-23 欣兴电子股份有限公司 Circuit board and manufacturing method thereof
CN107995779B (en) * 2017-12-29 2020-06-16 江苏弘信华印电路科技有限公司 Design method for improving flatness of rigid-flexible combined plate
US10506712B1 (en) * 2018-07-31 2019-12-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Printed circuit board
CN111477606B (en) * 2020-04-27 2022-03-29 中国电子科技集团公司第二十九研究所 Method for designing and assembling bonding pads of QFN (quad Flat No-lead) packaging device on high-frequency transfer carrier plate
CN114286513B (en) * 2021-11-30 2024-02-06 通元科技(惠州)有限公司 Asymmetric prestress eliminating type LED backboard and manufacturing method thereof
CN115621242A (en) * 2022-12-15 2023-01-17 北京唯捷创芯精测科技有限责任公司 Substrate with low warping stress, preparation method, packaging structure and electronic product

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001111218A (en) * 1999-10-13 2001-04-20 Hitachi Ltd Multilayer printed circuit board and electronic device
JP2001217514A (en) * 2000-02-03 2001-08-10 Denso Corp Multi-layered wiring board
JP2004327803A (en) * 2003-04-25 2004-11-18 Hitachi Chem Co Ltd Multilayered circuit board, semiconductor chip loading substrate, semiconductor package, and methods of manufacturing them
JP2005154727A (en) * 2003-05-27 2005-06-16 Ajinomoto Co Inc Resin composition for interlayer insulation of multilayer printed wiring board, adhesive film, and prepreg
JP2008085111A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring board and manufacturing method therefor
JP2008258335A (en) * 2007-04-03 2008-10-23 Sumitomo Bakelite Co Ltd Multilayer wiring board, and semiconductor package
WO2012002434A1 (en) * 2010-07-01 2012-01-05 住友ベークライト株式会社 Prepreg, wiring board, and semiconductor device
JP2012251130A (en) * 2011-05-31 2012-12-20 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Insulating resin composition for printed circuit board and printed circuit board including the same
JP2013030761A (en) * 2011-06-21 2013-02-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for manufacturing laminate
JP2013197245A (en) * 2012-03-19 2013-09-30 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2013219228A (en) * 2012-04-10 2013-10-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Process of manufacturing wiring board, and wiring board

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001111218A (en) * 1999-10-13 2001-04-20 Hitachi Ltd Multilayer printed circuit board and electronic device
JP2001217514A (en) * 2000-02-03 2001-08-10 Denso Corp Multi-layered wiring board
JP2004327803A (en) * 2003-04-25 2004-11-18 Hitachi Chem Co Ltd Multilayered circuit board, semiconductor chip loading substrate, semiconductor package, and methods of manufacturing them
JP2005154727A (en) * 2003-05-27 2005-06-16 Ajinomoto Co Inc Resin composition for interlayer insulation of multilayer printed wiring board, adhesive film, and prepreg
JP2008085111A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring board and manufacturing method therefor
JP2008258335A (en) * 2007-04-03 2008-10-23 Sumitomo Bakelite Co Ltd Multilayer wiring board, and semiconductor package
WO2012002434A1 (en) * 2010-07-01 2012-01-05 住友ベークライト株式会社 Prepreg, wiring board, and semiconductor device
US20130105200A1 (en) * 2010-07-01 2013-05-02 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Prepreg, wiring board, and semiconductor device
JP2012251130A (en) * 2011-05-31 2012-12-20 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Insulating resin composition for printed circuit board and printed circuit board including the same
JP2013030761A (en) * 2011-06-21 2013-02-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for manufacturing laminate
JP2013197245A (en) * 2012-03-19 2013-09-30 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2013219228A (en) * 2012-04-10 2013-10-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Process of manufacturing wiring board, and wiring board

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11445617B2 (en) 2011-10-31 2022-09-13 Unimicron Technology Corp. Package structure and manufacturing method thereof
JP2018195766A (en) * 2017-05-19 2018-12-06 大日本印刷株式会社 Wiring board and mounting board
JP7068638B2 (en) 2017-05-19 2022-05-17 大日本印刷株式会社 Wiring board and mounting board
CN109273426A (en) * 2017-07-18 2019-01-25 欣兴电子股份有限公司 Encapsulating structure and its manufacturing method
WO2020090583A1 (en) * 2018-11-02 2020-05-07 京セラ株式会社 Wiring board
JP2020072235A (en) * 2018-11-02 2020-05-07 京セラ株式会社 Wiring board

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Publication number Publication date
KR20150047879A (en) 2015-05-06
CN104582252A (en) 2015-04-29

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