JP2015069141A - 感放射線性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感放射線性樹脂層の積層方法、保護膜およびタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感放射線性樹脂組成物を提供し、感光性ドライフィルム、感放射線性樹脂層の積層方法、保護膜およびタッチパネルを提供する。【解決手段】タッチパネル２１の保護膜２５を形成する感放射線性樹脂組成物を、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）式（１）の化合物および（Ｄ）式（２）の化合物を含有させて調製する。これを用いて感光性ドライフィルムを形成し、その感放射線性樹脂層を金属配線である配線３１の設けられた透明基板２２上に積層し、保護膜２５を形成してタッチパネル２１を提供する。【選択図】図１

Description

本発明は、感放射線性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感放射線性樹脂層の積層方法、保護膜およびタッチパネルに関する。

近年、ＰＤＡ（パーソナル・デジタル・アシスタント）、ノートＰＣ、ＯＡ機器およびカーナビゲーションシステム等の電子機器では、それらのディスプレイの入力装置としてタッチパネルが盛んに用いられている。

タッチパネルは、その表面を、操作者の指やペン等でタッチ（押圧）し、そのタッチ操作にかかるデータを各種処理装置に出力することで、電子機器の操作を可能とする。タッチパネルは、キーボードに代わる入力装置であり、上述した電子機器等において、対話形式で簡便に情報入力することを可能にする。

タッチパネルには、動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式および電磁誘導結合方式などがある。

こうしたタッチパネルでは、例えば、静電容量方式のように、所定方向に延在する複数の第１検知電極と、それと交差する方向に延在する第２検知電極とを組み合わせて、ガラス等の透明基板上に配置する構造のものがある。それら検知電極は各々に電気的に接続する配線によって透明基板の端部に引き回される。検知電極に接続する配線のもう一方の端部には、例えば、そのタッチパネルを接続するための端子が形成されている。

そして、静電容量方式においては、例えば、特許文献１に開示されるように、第１検知電極と第２検知電極とを、透明基板の一方の面の上で同層に配置する構造が知られている。

特許文献１に記載のタッチパネルは、第１検知電極および第２検知電極のそれぞれが、菱形形状で大面積の複数の電極パッドと、それらの間を繋ぐ、電極パッドより狭い細幅形状の接続部分とから構成される。そして、第１検知電極と第２検知電極とは、それぞれの接続部分でお互いに交差するが、その交差部分には、光透過性の層間絶縁膜が配置されている。したがって、特許文献２のタッチパネルは、第１検知電極と第２検知電極とが、それぞれの接続部分で層間絶縁膜を介して重畳するようされ、絶縁性が確保されるように構成されている。そして、それら第１検知電極および第２検知電極は、各々に電気的に接続する配線によって透明基板の端部に引き回される。検知電極に接続する配線のもう一方の端部には、タッチパネルを接続するための端子が形成されている。

上述したように、絶縁性の基板上に、検知電極と、その検知電極を基板の端部に引き回すための配線とを有する構造のタッチパネルは、さらに、検知電極や配線等を被覆して保護するための保護膜を設けることができる（例えば、特許文献２を参照）。このような保護膜は、例えば、有機材料からなる有機膜とすることができる。その場合、保護膜の形成には、液状の樹脂組成物等を用いた塗布法等の利用が可能であり、また、タッチパネルの検知電極等の配置構造に好適となるようにパターニングをすることも可能である。こうした保護膜は、タッチパネルの耐久性等の信頼性を向上することができる。

特開２００８−３１０５５１号公報 特許第５２１２５７１号公報

以上のような構造のタッチパネルは、絶縁性の基板上に、検知電極と、その検知電極に電気的に接続して検知電極を基板の端部に引き回すための配線とを有するが、各検知電極に接続する配線は、操作者の指等によるタッチ操作の検出のために直接に用いられるものではない。すなわち、タッチパネルにおいて、各検知電極に接続する配線の形成領域は、タッチ操作およびその検出に使用されない領域となる。

したがって、タッチパネルにおいて、配線形成領域は、小さく狭いものであることが好ましい。そのように配線形成領域を狭小化することで、タッチパネルにおいては、操作者の指等が触れてタッチ操作をする操作領域を大きく設けることができて、操作性を向上することができる。

タッチパネルにおいて、配線形成領域を狭小化するためには、検知電極に電気的に接続する各配線を細く形成することが好ましい。そのためには、配線を低抵抗な材料を用いて形成することが求められる。タッチパネルにおいて、検知電極に接続する配線は、例えば、モリブデン（Ｍｏ）とアルミニウム（Ａｌ）等の金属膜を用い、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線とすることができる。こうした構成材料と構造とを有することにより、検知電極に接続する配線においては、低抵抗化を実現することが可能である。

しかしながら、低抵抗の金属配線を用いた場合、簡便に形成できて高信頼化に有効な上述の有機材料からなる保護膜と組み合わせようとすると、それらの間の密着性が低いという問題がある。このような金属配線と保護膜との間の低い密着性は、タッチパネルの信頼性を低下させる原因となる。

そこで、金属配線密着性向上のために、保護膜の形成材料に密着性向上のための成分を含有させることが可能である。例えば、リン酸エステル変性多官能アクリレートの使用が可能であり、それを成分として保護膜の形成に用いた場合、保護膜と金属配線との間の密着性を向上させることがきる。

しかし、検討の結果から、リン酸エステル変性多官能アクリレートを形成材料に用いた保護膜は、金属配線の腐食等の劣化を誘発することがわかった。これは、リン酸エステル変性多官能アクリレートが保護膜の透湿性を増大させるためと解される。その結果、タッチパネルは、金属配線を被覆する保護膜を用いることによってかえって信頼性を低下させることになる。

したがって、タッチパネルにおいては、配線を低抵抗化するとともに、併せてタッチパネルの高信頼化を実現する技術が求められている。より具体的には、有機材料からなって簡便な形成とパターニングが可能であり、金属配線との密着性に優れ、さらに、金属配線の腐食等の劣化の促進を抑えた保護膜およびその形成の技術が求められている。

本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感放射線性樹脂組成物を提供することにある。

また、本発明の目的は、金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感光性ドライフィルムを提供することにある。

また、本発明の目的は、金属との密着性に優れてその劣化促進を抑えた感放射線性樹脂層を試料上に積層するための感放射線性樹脂層の積層方法を提供することにある。

また、本発明の目的は、タッチパネルの金属配線との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を提供することにある。

さらに、本発明の目的は、金属配線との密着性に優れてその劣化促進を抑えた保護膜を有するタッチパネルを提供することにある。

本発明の第１の態様は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）下記式（１）で示される化合物および（Ｄ）下記式（２）で示される化合物を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物に関する。

（式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^３および^４はそれぞれ独立に、不飽和複素環基、炭素数１１〜２０のアルキル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、メルカプト基およびスルホ基のうちのいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）

（式（２）において、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を示す。ｊは１〜５の整数を示し、ｋは１〜２の整数を示す。）

本発明の第１の態様において、上記（Ｃ）成分が、下記式（３）で示される化合物であることが好ましい。
（式（３）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立に、水素原子およびメチル基のいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）

本発明の第１の態様において、さらに、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物を含むことが好ましい。

本発明の第１の態様において、さらに、（Ｆ）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン、ストロンチウム、バリウム、セリウムおよびハフニウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む酸化物である無機酸化物粒子を含むことが好ましい。

本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の感放射線性樹脂組成物から形成されることを特徴とする感光性ドライフィルムに関する。

本発明の第３の態様は、支持フィルムと、本発明の第１の態様の感放射線性樹脂組成物を用いてその支持フィルム上に３μｍ〜３０μｍの膜厚で形成された感放射線性樹脂層と、その感放射線性樹脂層の上に配置された保護フィルムとを有することを特徴とする感光性ドライフィルムに関する。

本発明の第３の態様において、感放射線性樹脂層は露光によって硬化し、露光後の透水率が１０００ｇ／ｍ^２・２４時間〜２０００ｇ／ｍ^２・２４時間であることが好ましい。

本発明の第３の態様において、支持フィルムがポリエチレンテレフタレートであることが好ましい。

本発明の第４の態様は、本発明の第３の態様の感光性ドライフィルムを用い、試料上に感放射線性樹脂層を積層する感放射線性樹脂層の積層方法であって、
保護フィルムを除去しながら、試料に感放射線性樹脂層が密着するようにしてラミネートすることを特徴とする感放射線性樹脂層の積層方法に関する。

本発明の第５の態様は、金属配線を有するタッチパネルのその金属配線を保護する保護膜であって、
本発明の第４の態様の感放射線性樹脂層の積層方法により、金属配線に感放射線性樹脂層をラミネートし、その感放射線性樹脂層を露光して形成されることを特徴とする保護膜に関する。

本発明の第６の態様は、金属配線と、本発明の第５の態様の保護膜とを有することを特徴とするタッチパネルに関する。

本発明の第１の態様によれば、金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感放射線性樹脂組成物を提供することができる。

本発明の第２の態様によれば、金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感光性ドライフィルムを提供することができる。

本発明の第３の態様によれば、金属との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を形成する感光性ドライフィルムを提供することができる。

本発明の第４の態様によれば、金属との密着性に優れてその劣化促進を抑えた感放射線性樹脂層を試料上に積層するための感放射線性樹脂層の積層方法を提供することができる。

本発明の第５の態様によれば、タッチパネルの金属配線との密着性に優れ、その劣化促進を抑えた保護膜を提供することができる。

本発明の第６の態様によれば、金属配線との密着性に優れてその劣化促進を抑えた保護膜を有するタッチパネルを提供することができる。

本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを示す模式的な断面図である。 本発明の第３実施形態であるタッチパネルを示す平面図である。 図２のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

本発明者は、鋭意検討の結果、例えば、タッチパネルの金属配線等のような金属材料を覆って保護する保護膜を、有機材料からなる有機膜とする場合、その形成材料にリン酸エステル変性多官能アクリレートを用いることで、金属材料と保護膜との密着性を向上できることを確認した。その一方で、リン酸エステル変性多官能アクリレートを用いた保護膜では透湿性が増大し、金属材料の腐食等の劣化を誘発することを見出した。したがって、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線を有するタッチパネルに、リン酸エステル変性多官能アクリレートを用いた保護膜を適用した場合、配線の腐食等の劣化が誘発される。

そこで、本発明者は、さらなる検討を行い、有機材料からなる保護膜の形成にある特有の成分を用いることで、得られる保護膜と金属材料との間の優れた密着性を保つとともに、金属材料の腐食等の劣化が促進されるのを抑えることができることを見出した。有機材料からなる有機膜である保護膜は、感放射線性の樹脂組成物である感放射線性樹脂組成物を用いて形成することが可能である。したがって、その感放射線性樹脂組成物の含有成分として、リン酸エステル変性多官能アクリレート系の成分と、ある特有成分とを含有させることで、形成される有機膜において、金属材料に対する密着性の向上と金属材料の劣化抑制が可能である。

したがって、検討の結果得られた本発明の感放射線性樹脂組成物を用い、それを硬化して得られる硬化膜は、金属材料に対する密着性に優れる一方、その腐食等の劣化の促進が低減され、保護膜としての使用が可能である。すなわち、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いることにより、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線を有するタッチパネルに好適な保護膜を提供することができる。本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された保護膜は、金属配線との密着性に優れ、その腐食等の劣化が促進されるのを抑制して、タッチパネルの高信頼化を実現することができる。

以下、感放射線性樹脂組成物およびタッチパネル等、本発明の実施形態について、適宜図面を用いて説明する。
尚、本発明において、露光に際して照射される「放射線」には、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線および荷電粒子線等が含まれる。

実施の形態１．
＜感放射線性樹脂組成物＞
本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、金属材料との密着性に優れた保護膜であって、保護する金属材料の腐食等の劣化が促進されるのを抑制できる保護膜を形成するのに好適な感放射線性の樹脂組成物である。そして、後述する本発明の実施形態のタッチパネルは、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線等を有することができる。したがって、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、本発明の実施形態のタッチパネルに好適に使用できる保護膜を提供することができる。

本発明の第２実施形態である感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー（単に、（Ａ）成分と称することがある。）、（Ｂ）光重合開始剤（単に、（Ｂ）成分と称することがある。）、（Ｃ）下記式（１）で示される化合物（単に、（Ｃ）成分または（Ｃ）化合物と称することがある。）、および、（Ｄ）下記式（２）で示される化合物（単に、（Ｄ）成分または（Ｄ）化合物と称することがある。）を含有して構成される。

（式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^３および^４はそれぞれ独立に、不飽和複素環基、炭素数１１〜２０のアルキル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、メルカプト基およびスルホ基のうちのいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）

（式（２）において、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を示す。ｊは１〜５の整数を示し、ｋは１〜２の整数を示す。）

以下、本実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される各成分について詳述する。

〔（Ａ）バインダーポリマー〕
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ａ）バインダーポリマーは、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種（以下、「化合物（ａ１）」という。）と、（ａ２）他の不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２）」という。）との共重合体である。

本実施形態において、（Ａ）バインダーポリマーとしては、［Ａ１］化合物（ａ１）と、１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２−１）」という。）の共重合体（以下、「共重合体〔α〕」という。）に、不飽和イソシアネート化合物を反応させて得られる重合体（以下、「共重合体〔Ａ１〕」という。）、および［Ａ２］化合物（ａ１）と、オキシラニル基またはオキセタニル基を有する不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２−２）」という。）の共重合体（以下、「共重合体〔Ａ２〕」という。）よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

上記化合物（ａ１）としては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；
前記ジカルボン酸の酸無水物等を挙げることができる。

これらの化合物（ａ１）のうち、共重合反応性、得られる重合体および共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性および入手が容易である点から、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ１）、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは５重量％〜５０重量％、より好ましくは１０重量％〜４０重量％、さらに好ましくは１５重量％〜３０重量％である。化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率が５重量％未満では、得られる重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方５０重量％を超えると、得られる重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が大きくなりすぎるおそれがある。

尚、化合物（ａ１）がカルボキシル基を有するものである場合には、カルボキシル基を保護したうえで重合に供し、次いで脱保護することによりカルボキシル基を再生してもよい。ここで、カルボキシル基を保護する保護基としては、特に限定されずカルボキシル基の保護基として公知のものが使用できる。例えばトリアルキルシリル基、１−アルコキシアルキル基、環状１−アルコキシアルキル基などがあげられる。さらに具体的には、例えばトリメチルシリル基、ジメチルブチルシリル基、１−エトキシエチル基、１−プロポキシエチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、トリフェニルメチル基などが挙げられる。

共重合体〔α〕における化合物（ａ２−１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシペンチルエステル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシヘプチルエステル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチルエステル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシノニルエステル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシルエステル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシウンデシルエステル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシドデシルエステルの如き（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；
（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシ−シクロヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルエステル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシエチル−シクロヘキシルエチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルエチルエステル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシ−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシメチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルメチルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルエチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシ−アダマンタン−１−イルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシメチル−アダマンタン−１−イルメチルエステル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシエチル−アダマンタン−１−イルエチルエステルの如き脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；

（メタ）アクリル酸１，２−ジヒドロキシエチルエステル、（メタ）アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸１，３−ジヒドロキシプロピルエステル、（メタ）アクリル酸３，４−ジヒドロキシブチルエステル、（メタ）アクリル酸３−［３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］−２−ヒドロキシプロピルエステル等の（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステル；
アクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステル、アクリル酸３−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピルエステル、アクリル酸４−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）ブチルエステル、アクリル酸５−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）ペンチルエステル、アクリル酸６−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）へキシルエステルの如きアクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステル；
メタクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステル、メタクリル酸３−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピルエステル、メタクリル酸４−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）ブチルエステル、メタクリル酸５−（６−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ）ペンチルエステル、メタクリル酸６−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）へキシルエステルの如きメタクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステル等のその他の化合物（ａ２−１）（以下、「他の化合物（ａ２−１）」という。）を挙げることができる。

これらの化合物（ａ２−１）のうち、共重合反応性およびイソシアネート化合物との反応性の点から、アクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチルエステル、アクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルエステル、メタクリル酸４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルエステル、アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピルエステル、他の化合物（ａ２−１）等が好ましい。

また、化合物（ａ２−１）のうち、他の化合物（ａ２−１）は、現像性の向上の点や、得られる保護膜の強度向上の観点から特に好ましい。他の化合物（ａ２−１）のうち特に、アクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステル、メタクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステルが好ましく、メタクリル酸２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチルエステルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステルの混合物の市販品としては、商品名で、ＰＬＡＣＣＥＬ（登録商標） ＦＭ１Ｄ、ＦＭ２Ｄ（ダイセル化学工業（株）製）等を挙げることができる。

共重合体〔α〕において、化合物（ａ２−１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

共重合体〔α〕において、化合物（ａ２−１）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは１重量％〜５０重量％、より好ましくは３重量％〜４０重量％、さらに好ましくは５重量％〜３０重量％である。化合物（ａ２−１）に由来する繰り返し単位の含有率が１重量％未満では、不飽和イソシアネート化合物の重合体への導入率が低下して、感度が低下する傾向があり、一方５０重量％を超えると、不飽和イソシアネート化合物との反応により得られる重合体の保存安定性が低下する傾向がある。

共重合体〔Ａ２〕における化合物（ａ２−２）としては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−メチルグリシジル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル等の（メタ）アクリル酸エポキシ（シクロ）アルキルエステル；
α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル等の他のα−アルキルアクリル酸エポキシ（シクロ）アルキルエステル；
ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル；
３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２−ジフロロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、２−エチル−３−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２，２−ジフロロ−３−（メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン等のメタクリル酸エステル；

３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２−ジフロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、２−エチル−３−（アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２，２−ジフロロ−３−（アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（アクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン等のアクリル酸エステルが挙げられる。

これのうち特に、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、３−メチル−３−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロイルオキシメチルオキセタン等が重合性の点から好ましい。

共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ２−２）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ２−２）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは０．５重量％〜７０重量％、より好ましくは１重量％〜６０重量％、さらに好ましくは３重量％〜５０重量％である。化合物（ａ２−２）に由来する繰り返し単位の含有率が０．５重量％未満では、得られる共重合体の耐熱性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超えると、共重合体の保存安定性が低下する傾向がある。

上記共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ２−１）および化合物（ａ２−２）以外の化合物（ａ２）「以下、「化合物（ａ２−３）」という。」を共重合体の成分として使用することができる。その具体例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル等のアクリル酸アルキルエステル；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル；
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イル、アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イルオキシ）エチル、アクリル酸イソボロニル等のアクリル酸脂環式エステル；
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、メタクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、メタクリル酸イソボロニル等のメタクリル酸脂環式エステル；
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル；
アクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、アクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するアクリル酸エステル；
メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、メタクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するメタクリル酸エステル；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等のビニル芳香族化合物；
１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物の他、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等を挙げることができる。

これらのうち、共重合反応性の点からから、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イル、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、１，３−ブタジエン等が好ましい。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ２−３）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕において、化合物（ａ２−３）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは１０重量％〜７０重量％、より好ましくは２０重量％〜５０重量％、さらに好ましくは３０重量％〜５０重量％である。化合物（ａ２−３）の繰り返し単位の含有率が１０重量％未満では、共重合体の分子量が低下する傾向があり、一方７０重量％を超えると、化合物（ａ１）、化合物（ａ２−１）および化合物（ａ２−２）成分の奏する効果が低下する。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕は、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で重合することにより製造することができる。

前記重合に用いられる溶媒としては、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等のアルコール；
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；
エチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルプロピオネート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエーテル；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル；
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル等のジプロピレングリコールアルキルエーテル；

プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；
プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート；
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；
メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；
２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル等のアルコキシプロピオン酸アルキル；

酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ｎ−プロピル、ヒドロキシ酢酸ｎ−ブチル、酢酸４−メトキシブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸２−メトキシブチル、酢酸３−エトキシブチル、酢酸３−プロキシブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ｎ−プロピル、メトキシ酢酸ｎ−ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸ｎ−プロピル、エトキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−プロポキシ酢酸メチル、ｎ−プロポキシ酢酸エチル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−ブトキシ酢酸メチル、ｎ−ブトキシ酢酸エチル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−ブチル等の他のエステル
等を挙げることができる。

これらの溶媒のうち、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

前記ラジカル重合開始剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４―シアノバレリン酸）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素等を挙げることができる。

ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、それを還元剤とを併用して、レドックス型開始剤としてもよい。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

このようにして得られた共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕は、溶液のまま共重合体〔Ａ１〕の製造に供しても、また一旦溶液から分離して共重合体〔Ａ１〕の製造に供してもよい。

共重合体〔α〕および共重合体〔Ａ２〕のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２０００〜１０００００、より好ましくは５０００〜５００００である。Ｍｗが２０００未満であると、得られる被膜のアルカリ現像性、残膜率等が低下したり、またパターン形状、耐熱性等が損なわれたりするおそれがあり、一方１０００００を超えると、解像度が低下したり、パターン形状が損なわれたりするおそれがある。

本実施形態における共重合体〔Ａ１〕は、上記共重合体〔α〕に、不飽和イソシアネート化合物を反応させることにより得られる。
不飽和イソシアネート化合物としては、例えば、
２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、３−アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、４−アクリロイルオキシブチルイソシアネート、６−アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、８−アクリロイルオキシオクチルイソシアネート、１０−アクリロイルオキシデシルイソシアネート、
アクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、
アクリル酸２−［２−（２−イソシアネートエトキシ）エトキシ］エチル、
アクリル酸２−｛２−［２−（２−イソシアネートエトキシ）エトキシ］エトキシ｝エチル、アクリル酸２−（２−イソシアネートプロポキシ）エチル、
アクリル酸２−［２−（２−イソシアネートプロポキシ）プロポキシ］エチル等のアクリル等のアクリル酸誘導体；
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、３−メタクリロイルオキシプロピルイソシアネート、４−メタクリロイルオキシブチルイソシアネート、６−メタクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、８−メタクリロイルオキシオクチルイソシアネート、１０−メタクリロイルオキシデシルイソシアネート
メタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル、
メタクリル酸２−［２−（２−イソシアネートエトキシ）エトキシ］エチル、
メタクリル酸２−｛２−［２−（２−イソシアネートエトキシ）エトキシ］エトキシ｝エチル、
メタクリル酸２−（２−イソシアネートプロポキシ）エチル、
メタクリル酸２−［２−（２−イソシアネートプロポキシ）プロポキシ］エチル等のメタクリル酸誘導体を挙げることができる。

また、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としては、商品名で、カレンズＡＯＩ（昭和電工（株）製）、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としては、商品名で、カレンズＭＯＩ（登録商標）（昭和電工（株）製）、メタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチルの市販品としては、商品名で、カレンズＭＯＩ（登録商標）−ＥＧ（昭和電工（株）製）を挙げることができる。

これらの不飽和イソシアネート化合物のうち、共重合体〔α〕との反応性の点から、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、４−メタクリロイルオキシブチルイソシアネート、メタクリル酸２−（２−イソシアネートエトキシ）エチル等が好ましい。
共重合体〔Ａ１〕において、不飽和イソシアネート化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本実施形態において、共重合体〔α〕と不飽和イソシアネート化合物との反応は、例えば、ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルすず（ＩＶ）等の触媒やｐ−メトキシフェノール等の重合禁止剤を含む共重合体〔α〕溶液に、室温または加温下で、攪拌しつつ、不飽和イソシアネート化合物を投入することによって実施することができる。

共重合体〔Ａ１〕を製造する際の不飽和イソシアネート化合物の使用量は、共重合体〔α〕中の化合物（ａ２−１）に由来する水酸基１当量に対して、好ましくは０．１モル％〜９５モル％、さらに好ましくは１．０モル％〜８０モル％、特に好ましくは５．０モル％〜７５モル％である。不飽和イソシアネート化合物の使用量が０．１モル％未満では、感度および耐熱性向上への効果が小さく、一方９５モル％を超えると、未反応の不飽和イソシアネート化合物が残存し、得られる重合体溶液や感放射線性樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向がある。

（Ａ）バインダーポリマーとして、共重合体〔Ａ１〕および共重合体〔Ａ２〕は、それぞれ単独で使用することもできるが、得られる感放射線性樹脂組成物の保存安定性、並びに保護膜の強度および耐熱性をさらに向上させることができる点において、共重合体〔Ａ１〕と共重合体〔Ａ２〕を併用することが好ましい。

本実施形態において、（Ａ）バインダーポリマーとして共重合体〔Ａ１〕と共重合体〔Ａ２〕とを併用する場合、共重合体〔Ａ２〕の使用量は、共重合体〔Ａ１〕１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部〜５０重量部、より好ましくは１重量部〜４０重量部であり、さらに好ましくは３重量部〜３０重量部である。共重合体〔Ａ２〕の使用量が０．５重量部未満では、保護膜の強度や耐熱性向上に効果が小さく、一方５０重量部を超えると、感放射線性樹脂組成物の保存安定性を低下させる傾向がある。

〔（Ｂ）光重合開始剤〕
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｂ）光重合開始剤としては、例えば、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、α−ジケトン化合物、多核キノン化合物、キサントン化合物、ホスフィン化合物、トリアジン化合物等を挙げることができる。

前記Ｏ−アシルオキシム化合物としては、例えば、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−ペンタン−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（１，３，５−トリメチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−エチル−６−（２−メチル−4−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（２−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。

これらＯ−アシルオキシム化合物のうち、特に１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）が好ましい。

これらＯ−アシルオキシム化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

前記アセトフェノン化合物としては、例えば、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物等を挙げることができる。

前記α−ヒドロキシケトン化合物としては、例えば、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができ、また前記α−アミノケトン化合物としては、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等を挙げることができる。これら以外の化合物として、例えば、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等を挙げることができる。

これらのアセトフェノン化合物のうち、特に、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンが好ましい。

本実施形態においては、アセトフェノン化合物を併用することにより、感度や保護膜の強度をさらに改善することが可能となる。

前記ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。

これらのビイミダゾール化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が好ましく、特に２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。

本実施形態においては、ビイミダゾール化合物を併用することにより、感度、解像度や保護膜の密着性をさらに改善することが可能となる。

また、ビイミダゾール化合物を併用する場合、それを増感するため、ジアルキルアミノ基を有する脂肪族系または芳香族系の化合物（以下、「アミノ増感剤」という。）を添加することができる。

アミノ増感剤としては、例えば、Ｎ−メチルジエタノールアミン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミル等を挙げることができる。

これらのアミノ増感剤のうち、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
前記アミノ増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

ビイミダゾール化合物とアミノ増感剤とを併用する場合、アミノ増感剤の添加量は、ビイミダゾール化合物１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜２００重量部、さらに好ましくは１０重量部〜１５０重量部である。この場合、アミノ増感剤の添加量が１重量部未満では、感度、解像度や密着性の改善効果が低下する傾向があり、一方、２００重量部を超えると、得られるパターニング性が損なわれる傾向がある。

さらに、ビイミダゾール化合物とアミノ増感剤とを併用する場合、水素供与化合物として、チオール化合物を添加することができる。ビイミダゾール化合物は前記アミノ増感剤によって増感されて開裂し、イミダゾールラジカルを発生するが、そのままでは高い重合開始能が発現されず、得られる保護膜のパターニングがうまく行えずに、好ましくない形状となる場合が多い。しかし、ビイミダゾール化合物とアミノ増感剤とが共存する系に、チオール化合物を添加することにより、イミダゾールラジカルにチオール化合物から水素ラジカルが供与される結果、イミダゾールラジカルが中性のイミダゾールに変換されるとともに、重合開始能の高い硫黄ラジカルを有する成分が発生し、それにより保護膜のパターニングを所望するように行うことができる。

前記チオール化合物としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾイミダゾール等の芳香族化合物；３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸エチル、３−メルカプトプロピオン酸オクチル等の脂肪族モノチオール；３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール、ペンタエリストールテトラ（メルカプトアセテート）、ペンタエリストールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）等の２官能以上の脂肪族チオールを挙げることができる。

これらのチオール化合物のうち、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。

チオール化合物の添加量は、ビイミダゾール化合物１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜１５０重量部、より好ましくは１０重量部〜１００重量部である。この場合、チオール化合物の添加量が１重量部未満では、保護膜のパターニング性の改善効果が低下したり、膜減りを生じやすくなる傾向があり、一方、１５０重量部を超えると、保護膜のパターニング性が損なわれる傾向がある。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物において、（Ｂ）光重合開始剤の使用量は、（Ａ）成分、後述する（Ｃ）成分および後述する（Ｄ）成分の合計１００重量部に対して、好ましくは５重量部〜３０重量部、より好ましくは５重量部〜２５重量部である。この場合、重量部使用量が５重量部未満では、アルカリ水溶液からなる現像液による現像時の残膜率が低下する傾向があり、一方、３０重量部を超えると、未露光部の該現像液に対する溶解性が低下する傾向がある。

〔（Ｃ）化合物〕
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｃ）化合物は、下記式（１）で示される化合物である。（Ｃ）化合物は、式（１）の−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−部位や−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−部位を有する。（Ｃ）化合物は、これらの部位が弱い求核性を有することから、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された保護膜が、保護する金属材料の腐食等の劣化を誘発することを抑制することができる。そして、通常の塩基性化合物とは異なり、多量に使用されても、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された保護膜の金属材料への密着力を低下させることは無い。

上記式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、不飽和複素環基、炭素数１１〜２０のアルキル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、メルカプト基およびスルホ基のうちのいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。

より詳しく説明すると、上記式（１）において、Ｒ^１およびＲ^２の好ましい例としては、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、へプチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍａＣ_２Ｈ_４−、−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍａＣ_２Ｈ_４−（ｍａは１〜５の整数を表す。）、下記式（４ａ）、下記式（４ｂ）で表される基等を挙げることができる。

上記式（４ａ）および式（４ｂ）中、ｅ、ｆ、ｇおよびｈは、互いに同一であっても異なっていてもよく、０〜１２の整数を表す。

上記式（１）中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、不飽和複素環基、炭素数１１〜２０のアルキル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、メルカプト基、スルホ基を示す。

不飽和複素環基は、アリール（Ａｒｙｌ）基（芳香族炭化水素基）とは、区別されるものであり、不飽和結合を有する複素環基を示す。具体的には、２−フリル基、フルフリル基、２−チエニル基、２−テニル基、２−テノイル基、２−ピロリル基、２−ピリジル基、２−キノイル基、カルバゾール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基、インドール基等を示す。

上記式（１）中、ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。

（Ｃ）化合物の中で、特に下記式（３）で示されるような、両末端に重合性基を有する化合物が特に好ましい。このような化合物は上述した（Ｃ）化合物の効果に加え、重合性基がポストベーク時の加熱で、熱架橋することで、硬化膜の硬度を一層高めることが可能となり、得られるパターニングされた保護膜の耐熱性や熱に対する形状安定性を向上することが可能となる。

上記式（３）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立に、水素原子およびメチルのいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。Ｒ^１およびＲ^２は上記式（１）と同義である。

上記（３）で表される（Ｃ）化合物としては、例えば、下記式（３−１）〜（３−６）で表される化合物等が挙げられる。

（Ｃ）化合物の具体例としては、例えば、１，３−ビス（アクリロイルオキシエチル）ウレア、１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア、１，３−ビス（メタアクリロイルオキシブチル）ウレア、１，３−ビス（メタアクリロイルオキシ−２−エトキシエチル）ウレア、１，３−ビス（ｍ−メタアクリロイルオキシフェニル）ウレア、１，３−ビス（１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチル）ウレア等を挙げることができる。

（Ｃ）化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

（Ｃ）化合物は、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する不飽和イソシアネート化合物を、適当な溶媒中、水とともに反応させることにより製造することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有する不飽和イソシアネート化合物としては、共重合体〔Ａ１〕の製造に使用される不飽和イソシアネート化合物と同様の化合物を挙げることができる。

また、（Ｃ）化合物の製造に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、塩化メチレン等を挙げることができる。

また、（Ｃ）化合物を製造する際の水の使用量は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する不飽和イソシアネート化合物に対して、好ましくは５０モル％〜５００モル％、より好ましくは５０モル％〜１００モル％である。このようにして得られた（Ｃ）化合物は、メタノール、エタノール等を用いて再結晶等により精製することが好ましい。

本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｃ）化合物の使用量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは０．１重量部〜１００重量部、より好ましくは１重量部〜５０重量部、さらに好ましくは３重量部〜２０重量部である。（Ｃ）化合物の使用量が０．１重量部未満では、所望の効果が得られないおそれがあり、一方１００重量部を超えると、得られる感放射線性樹脂組成物の保存中に析出物が発生するおそれがある。

〔（Ｄ）化合物〕
本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｄ）化合物は、下記式（２）で示される化合物である。本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ｄ）化合物を含有することにより、金属に対して優れた密着力を示す硬化膜を形成することができる。そして、後述する本発明の実施形態のタッチパネルは、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線等を有することができる。したがって、本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、本発明の実施形態のタッチパネルに好適に使用できる優れた密着力の保護膜を提供することができる。

上記式（２）において、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を示す。ｊは１〜５の整数を示し、ｋは１〜２の整数を示す。

上記式（２）で示される（Ｃ）化合物の市販品としては、ＰＭ２１（日本化薬（株）製）等を挙げることができる。

本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｄ）化合物の使用量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは０．１重量部〜１００重量部、より好ましくは１０重量部〜６０重量部、さらに好ましくは３０重量部〜５０重量部である。（Ｄ）化合物の使用量が０．１重量部未満であると、保護膜において密着力向上効果が十分に表れない。また、１００重量部を超えて含有すると、形成される保護膜により被覆される金属材料において、腐食等の劣化が促進されるおそれがある。

〔（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物〕
本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）上記式（１）で示される化合物、および、（Ｄ）上記式（２）で示される化合物に加え、任意の成分として、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物（単に、（Ｅ）成分または（Ｅ）化合物と称することがある。）を含有することができる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ｅ）化合物を含有することにより、得られる保護膜が、腐食等の金属の劣化を誘発するのを低減することができる。また、（Ｅ）化合物の使用により、形成される保護膜の柔軟性を向上することができ、例えば、金属に対する保護膜の密着性を向上させることができる。そして、後述する本発明の実施形態のタッチパネルは、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線等を有することができる。したがって、本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、金属配線の腐食等の劣化を抑え、柔軟で、優れた密着力を示し、本発明の実施形態のタッチパネルに好適に使用できる保護膜を提供することができる。

本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有可能な（Ｅ）化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリオール、ジイソシアネートを構成成分として含有するものが用いられる。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１種のモノマーと、ポリオールとを用いて、水酸基を１個以上有するヒドロキシアクリレートおよび水酸基を１個以上有するヒドロキシメタクリレートの少なくとも一方を作製し、これをジイソシアネートと反応させることによりウレタンアクリレートおよびウレタンメタクリレートの少なくとも一方を製造することができる。

本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物において、（Ｅ）化合物は、１種類を単独で使用してもよく、または２種類以上を併用してもよい。

上述したアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリオール、ジイソシアネート等は、特に制限されないが、例えば、特開２００７−２９０３４１号公報の第００３２段落〜第００３４段落に例示されている物質が挙げられる。

これらの（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物の市販品としては、ＵＮ−９２００、ＵＮ−３３２０、ＵＮ−９０１、ＵＮ−９０５、ＵＮ−９５２、ＵＮ−５５０７、ＵＮ−９０４、ＵＮ−９０６ＡＶＮ(根上工業製)等が挙げることができる。

本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物における（Ｅ）化合物の使用量は、特に制限されない。本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物における（Ｅ）化合物の使用割合は、その感放射線性樹脂組成物中の樹脂１００質量部に対し、例えば、１重量部〜７０重量部、好ましくは、５重量部〜４５重量部の範囲である。この範囲で使用することにより、金属配線等の金属の腐食を防止する効果と、金属配線等の金属に対する密着性を高いレベルで向上させることができる。

〔（Ｆ）無機酸化物粒子〕
本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）上記式（１）で示される化合物、および、（Ｄ）上記式（２）で示される化合物に加え、任意の成分として、（Ｆ）無機酸化物粒子を含有することができる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物の（Ｆ）成分である（Ｆ）無機酸化物粒子は、感放射線性樹脂組成物中に含有されて、得られる硬化膜の電気絶縁性が維持されるとともに、誘電特性である比誘電率を制御することができる。また、無機酸化物粒子は、硬化膜の屈折率の制御、硬化膜の透明性の制御、硬化収縮を緩和することによるクラックの抑制、硬化膜の表面硬度向上という目的等でも使用することができる。すなわち、（Ｆ）無機酸化物粒子は、本実施形態の感放射線性樹脂組成物から得られる保護膜の比誘電率の制御、屈折率の制御、透明性の制御、クラックの抑制、表面硬度の向上等を実現することができる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物の（Ｆ）無機酸化物粒子は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン、ストロンチウム、バリウム、セリウムおよびハフニウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む酸化物である無機酸化物粒子である。

そして、この群の中でもケイ素、ジルコニウム、チタンまたは亜鉛の酸化物粒子が好ましく、ケイ素の酸化物粒子であるシリカ粒子、ジルコニウムまたはチタンの酸化物粒子やチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ_３）が特に好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、（Ｆ）無機酸化物粒子としては、上述の元素の複合酸化物粒子であってもよい。この複合酸化物粒子としては例えば、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等が挙げられる。また硬化物の電気絶縁性を損なわない範囲でＡＴＯ（ａｎｔｉｍｏｙ−ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ−ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）等を用いることもできる。これらの無機酸化物粒子としては、市販のもの、例えば、シーアイ化成（株）のナノテック（登録商標）等を使用することができる。

（Ｆ）無機酸化物粒子の形状は、特に限定されず、球状でも不定形のものでもよく、中空粒子、多孔質粒子、コア・シェル型粒子等であっても構わない。また、動的光散乱法で求めた（Ｆ）無機酸化物粒子の体積平均粒子径は５ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましく、１０ｎｍ〜８０ｎｍが特に好ましい。（Ｆ）無機酸化物粒子の体積平均粒子径が５ｎｍ未満であると、感放射線性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜の硬度が低下するおそれや、意図した比誘電率を発現できないおそれがあり、２００ｎｍを超えると硬化膜のヘイズが高くなり透過率が低下するおそれや、硬化膜の平滑性が悪くなるおそれがある。

（Ｆ）無機酸化物粒子の配合量としては、特に限定されないが、上述の（Ａ）バインダーポリマー１００質量部に対して、１質量部〜５００質量部が好ましく、５質量部〜３００質量部がより好ましい。（Ｆ）無機酸化物粒子の配合量が１質量部未満であると、得られる硬化膜の上述した特性を所望とする範囲内に制御することができない。逆に、（Ｆ）無機酸化物粒子の配合量が５００質量部を超えると塗布性や膜の硬化性が低下し、また、得られる保護膜のヘイズが高くなるおそれがある。

（Ｆ）無機酸化物粒子は、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を調製する際に、粉体として、（Ａ）成分等、並びに、後述の（Ｇ）成分としての溶剤およびその他の任意成分と混合してもよく、あらかじめ（Ｆ）無機酸化物粒子を、後述の（Ｇ）成分としての溶剤と混合し、（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液として扱ってもよい。さらに（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液には、その他の任意成分としての分散剤を添加して扱ってもよい。また、（Ｆ）無機酸化物粒子を他の成分と混合する場合、（Ｆ）無機酸化物粒子の凝集を防ぎ、均一な粒径に制御するために、分散処理を行うことが好ましい。

分散処理としては、ペイントシェーカ、ＳＣミル、アニュラー型ミル、ピン型ミル等の各種ビーズミルを用いて、粒径の低下が観察されなくなるまで継続することによって行われるとよい。この継続時間としては、数時間とすることが好ましい。また、この分散の際に、ガラスビーズやジルコニアビーズ等の分散ビーズを用いることが好ましい。このビーズ径は特に限定されないが、好ましくは０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ、より好ましくは０．０８ｍｍ〜０．５ｍｍ、さらに好ましくは０．０８ｍｍ〜０．２ｍｍである。

また、（Ｆ）無機酸化物粒子は、凝集した粗大な粒子を上述のように分散処理することで均一な粒径に制御してもよいし、気相中あるいは液相中でのゾルゲル反応等により、粒径が制御された（Ｆ）無機酸化物粒子あるいは（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液を直接作製してもよい。

〔（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分〕
本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）上記式（１）で示される化合物、および、（Ｄ）上記式（２）で示される化合物に加え、任意の成分として、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物や（Ｆ）無機酸化物粒子を含有することができ、さらに、（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分を含有することができる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ｆ）無機酸化物粒子を含有する場合、（Ｇ）成分として分散剤をさらに含有することにより、感放射線性樹脂組成物内部に均一に（Ｆ）無機酸化物粒子を分散させることができ、塗布性を高めることができる。そして、本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、それを用いて得られる硬化膜の基板等への密着性を高め、比誘電率や屈折率等の特性が一様に所望の値となるように制御することができる。

（Ｇ）分散剤としては、ノニオン系分散剤、カチオン系分散剤、アニオン系分散剤等を挙げることができる。

（Ｇ）分散剤に好適なノニオン系分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、高分子量ポリカルボン酸のアミドアミン塩、エチレンジアミンプロピレンオキサイド−エチレンオキサイド縮合物、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、アルキルグルコシド、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルまたは脂肪酸アルカノールアミドであることが好ましい。

上述のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステルとしては、下記式（５）で表される化合物が好ましい。

（式（５）中、Ｒ^３１は、各々独立に、Ｃ_ｑＨ_２ｑ＋１−ＣＨ_２Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｑ’−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−である。そのｑは１２〜１６の整数である。そのｑ’は８〜１０の整数である。そのＬは１〜３の整数である。）

上記式（５）で表される分散剤の市販品としては、楠本化成（株）製ＰＬＡＡＤ ＥＤ１５１等が挙げられる。以上のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステルによれば、無機酸化物粒子の均一分散性をさらに向上させることができる。

上述の高分子量ポリカルボン酸のアミドアミン塩としては、下記式（６）で表されるものが好ましい。

（式（６）中、ｒおよびｓは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求められたポリスチレン換算数平均分子量が、１００００〜４００００となるように選択される数である。）

上記式（６）で表される分散剤の市販品としては、楠本化成（株）製ＰＬＡＡＤ ＥＤ２１１等が挙げられる。以上の高分子量ポリカルボン酸のアミドアミン塩によっても無機酸化物粒子の均一分散性をさらに向上させることができる。

上述のエチレンジアミンプロピレンオキサイド−エチレンオキサイド縮合物としては下記式（７）で表されるものが好ましい。

（式（７）中、ｔおよびｕは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求められたポリスチレン換算数平均分子量が１０００〜３００００となるように選択される数である。）

上記式（７）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカプルロニックＴＲ−７０１、ＴＲ−７０２、ＴＲ−７０４等が挙げられる。以上のエチレンジアミンプロピレンオキサイド−エチレンオキサイド縮合物によっても、（Ｆ）無機酸化物粒子の均一分散性をさらに向上させることができる。

上述のポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては、下記式（８）で表されるものが好ましい。

（式（８）中、Ｒ^３４は炭素数１〜２０のアルキル基である。ｖは１０〜３００の整数である。）

上記式（８）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテルにおいて、Ｒ^３４としては、炭素数１〜１２にアルキル基が特に好ましい。
上記式（８）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカトール（登録商標）ＴＮ／ＳＯ／ＵＡシリーズ等が挙げられる。

上述のポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテルとしては、下記式（９）で表される化合物が好ましい。

（式（９）中、Ｒ^３５は炭素数１〜１２のアルキル基である。ｗは１０〜３００の整数である。）

上記式（９）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカトール（登録商標）ＳＰ／ＰＣシリーズ等が挙げられる。

上述のアルキルグルコシドとしては、下記式（１０）で表されるものが好ましい。

（式（１０）中、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９およびＲ^４０は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜１２のアルキル基である。）

上述のポリオキシエチレン脂肪酸エステルとしては下記式（１１）で表されるものが好ましい。

（式（１１）中、Ｒ^４１は、炭素数１〜２０のアルキル基である。Ｒ^４２は、水素または炭素数２〜１３のアシル基である。ｙは１０〜３００の整数である。）

上記式（１１）で表されるポリオキシエチレン脂肪酸エステルにおいて、Ｒ^４１としては、炭素数１〜１２のアルキル基が特に好ましい。

上記式（１１）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカエストール（登録商標）ＯＥＧシリーズ、アデカエストール（登録商標）ＴＬシリーズ等が挙げられる。

上述のショ糖脂肪酸エステルとしては、下記式（１２）で表されるものが好ましい。

（式（１２）中、Ｒ^４３、Ｒ^４４、Ｒ^４５、Ｒ^４６、Ｒ^４７、Ｒ^４８、Ｒ^４９およびＲ^５０はそれぞれ独立して、水素または炭素数２〜１３のアシル基である。）

上述のソルビタン脂肪酸エステルとしては、下記式（１３）で表されるものが好ましい。

（式（１３）中、Ｒ^５１は、−（ＣＨ^２ＣＨ^２Ｏ）_ｚ１−Ｈで表される基である。ｚ１は、１０〜３００の整数である。）

上記式（１３）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカエストール（登録商標）Ｓシリーズ等が挙げられる。

ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルとしては、下記式（１４）で表されるものが好ましい。

（式（１４）中、Ｒ^５２、Ｒ^５３およびＲ^５４は、それぞれ独立して、水素または−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｚ２−Ｈで表される基である。ｚ２は、１０〜３００の整数である。）

脂肪酸アルカノールアミドとしては、下記式（１５）で表されるものが好ましい。

（式（１５）中、Ｒ^５５は、炭素数１〜２０のアルキル基である。）

上記式（１５）で表される脂肪酸アルカノールアミドにおいて、Ｒ^５５としては、炭素数１〜１２のアルキル基が特に好ましい。

上記式（１５）で表される分散剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカトール（登録商標）シリーズ等が挙げられる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物において、（Ｇ）成分としての分散剤の配合量としては、特に限定されないが、（Ｆ）無機酸化物粒子が含有される場合、（Ｆ）無機酸化物粒子１００質量部に対して、０．１質量部〜１００質量部が好ましく、１０質量部〜６０質量部がより好ましい。（Ｇ）成分としての分散剤の配合量が０．１質量部より小さいと、（Ｆ）無機酸化物粒子の分散性が低下することによって、感放射線性樹脂組成物の塗布性や保存安定性の低下が生じるとともにパターニング性が低下するおそれがある。逆にこの配合量が１００質量部を超えると、本実施形態の感放射線性樹脂組成物において、感放射線特性が低下するおそれがある。また、分散剤の配合が多すぎることによって、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて得られる硬化物の基板等への密着性が低下するおそれや耐熱透明性が損なわれるおそれがある。

（Ｇ）成分としての分散剤は、感放射線性樹脂組成物を調製する際に添加してもよく、その分散剤と（Ｆ）無機酸化物粒子とをあらかじめ（Ｇ）成分としての任意の溶剤中で混合して分散処理を行い、（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液として取り扱ってもよい。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物の（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分としては、分散剤以外にも、溶剤や界面活性剤等を含有することができる。以下、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分である、溶剤および界面活性剤について説明する。

（Ｇ）成分である溶剤は、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を所望の固形分濃度に調整したり、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）上記式（１）で示される化合物、および、（Ｄ）上記式（２）で示される化合物等、並びに（Ｇ）成分としてのその他任意成分を均一かつ安定に溶解させたり、（Ｆ）無機酸化物粒子を含有する場合、その（Ｆ）無機酸化物粒子を感放射線性樹脂組成物中に均一かつ安定に分散させることができる。また、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を基板に塗布する際の、塗布性および成膜性を向上させることができる。すなわち、（Ｇ）成分である溶剤は、上述のような機能を有すれば特に限定されない。

（Ｇ）溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類；エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類を用いることができる。（Ｇ）溶剤は、１種または２種以上を混合して用いることができる。

（Ｇ）成分としての界面活性剤は、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の塗布性の改善、塗布ムラの低減、放射線照射部の現像性を改良するために添加することができる。好ましい界面活性剤の例としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他の界面活性剤が挙げられる。

上述のフッ素系界面活性剤としては、例えば、１，１，２，２−テトラフルオロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル等のフルオロエーテル類；パーフルオロドデシルスルホン酸ナトリウム；１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロデカン等のフルオロアルカン類；フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム類；フルオロアルキルオキシエチレンエーテル類；フルオロアルキルアンモニウムヨージド類；フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル類；パーフルオロアルキルポリオキシエタノール類；パーフルオロアルキルアルコキシレート類；フッ素系アルキルエステル類等を挙げることができる。

上記フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ １７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、フタージェント（登録商標）ＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２５１、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ（以上、（株）ネオス製）等を挙げることができる。

上記シリコーン系界面活性剤としては、市販品として、商品名で、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、同−４３００、同−４４４５、同−４４４６、同−４４６０、同−４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等を挙げることができる。

上記その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤や、市販品として、商品名で、例えば、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）等を挙げることができる。

上述した界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

界面活性剤を使用する場合の配合量は、（Ａ）バインダーポリマー１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．０５質量部〜５質量部である。界面活性剤の配合量を０．０１質量部〜１０質量部とすることによって、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の塗布性を最適化することができる。

本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、（Ｇ）成分として、必要に応じてさらに種々の添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、接着助剤、保存安定剤、耐熱性向上剤等を挙げることができる。

上述した接着助剤は、本実施形態の感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とその保護膜が設けられる基体との密着性をさらに改善する作用を有する成分であり、官能性シランカップリング剤が好ましい。

前記官能性シランカップリング剤としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性官能基を有する化合物を挙げることができ、より具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。

これらの接着助剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

接着助剤の配合量は、（Ａ）バインダーポリマー１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、さらに好ましくは１０重量部以下である。接着助剤の配合量が２０重量部を超えると、現像時の現像残りが生じやすくなる傾向がある。

上述した保存安定剤としては、例えば、硫黄、キノン化合物、ヒドロキノン化合物、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等を挙げることができ、より具体的には、４−メトキシフェノール、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等を挙げることができる。

これらの保存安定剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

保存安定剤の配合量は、（Ａ）バインダーポリマー１００重量部に対して、好ましくは３重量部以下、さらに好ましくは０．００１重量部〜０．５重量部である。保存安定剤の配合量が３重量部を超えると、感度が低下してパターン形状が損なわれるおそれがある。

上述した耐熱性向上剤としては、例えば、Ｎ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物、Ｎ−（アルコキシメチル）メラミン化合物挙げることができる。
前記Ｎ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（エトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｎ−プロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｉ−プロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｎ−ブトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｔ−ブトキシメチル）グリコールウリル等を挙げることができる。

これらのＮ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物のうち、特にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリルが好ましい。

上述のＮ−（アルコキシメチル）メラミン化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（メトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（エトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（ｎ−プロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（ｉ−プロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（ｎ−ブトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（ｔ−ブトキシメチル）メラミン等を挙げることができる。

これらのＮ−（アルコキシメチル）メラミン化合物のうち、特にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサ（メトキシメチル）メラミンが好ましく、その市販品としては、商品名で、例えば、ニカラック（登録商標）Ｎ−２７０２、同ＭＷ−３０Ｍ（以上、三和ケミカル（株）製）等を挙げることができる。

これらの耐熱性向上剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

耐熱性向上剤の配合量は、（Ａ）バインダーポリマー重量部に対して、好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは２０重量部以下である。耐熱性向上剤の配合量が３０重量部を超えると、感放射線性樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向がある。

＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、上述した（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）上記式（１）で示される化合物および（Ｄ）上記式（２）で示される化合物を所定の割合で混合することで調製される。

また、本実施形態の感放射線性樹脂組成物が、必要に応じて、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物、（Ｆ）無機酸化物粒子、（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分、を含有する場合、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物、（Ｆ）無機酸化物粒子、（Ｇ）溶剤およびその他の任意成分を所定の割合で混合することで、調製される。（Ａ）バインダーポリマーは、あらかじめ溶剤に溶解させて、（Ａ）バインダーポリマーの溶液として扱ってもよく、（Ｂ）光重合開始剤等の必須成分は、あらかじめ溶剤に溶解させて、（Ｂ）光重合開始剤等の溶液として扱ってもよく、（Ｆ）無機酸化物粒子は、上述の通り（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液として扱ってもよく、（Ｇ）成分としてのその他の任意成分は、あらかじめ溶剤に溶解させて、（Ｇ）その他任意成分の溶液として扱ってもよい。これらの場合に用いる溶剤は、上述の（Ｇ）溶剤と同様のものを用いることができる。また、（Ｆ）無機酸化物粒子を含有する場合は、上述の通り、必要に応じて分散処理を行ってもよい。

実施の形態２．
＜感光性ドライフィルム＞
上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物は、後述する本発明の実施形態のタッチパネルの保護膜の形成に好適に使用することができる。その場合、タッチパネルを構成するための、金属配線等の形成された基板上に、直接に、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を適用して、乾燥、パターニング（露光と現像等）および必要に応じて硬化等を行って、所望形状の保護膜を形成することができる。

そして、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いてタッチパネルの保護膜を形成するにあたり、より好ましい方法としては、感放射線性樹脂組成物から本発明の感光性ドライフィルムを形成し、その本発明の感光性ドライフィルムを用いて保護膜を形成する方法を挙げることができる。

以下、本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された本発明の実施形態の感光性ドライフィルム、および、感光性ドライフィルムを用いた、保護膜となる感放射線性樹脂層の積層方法について説明する。

図１は、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを示す模式的な断面図である。

図１に示すように、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルム１００は、支持フィルム１０１と、支持フィルム１０１上に形成された感放射線性樹脂層１０２と、感放射線性樹脂層１０２の上に配置された保護フィルム１０３とを有して構成される。感放射線性樹脂層１０２は、上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて支持フィルム１０１上に形成されたものである。

より具体的には、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルム１００の形成において、上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を用い、それを支持フィルム１０１上に塗布し、乾燥して感放射線性樹脂層１０２を形成する。次いで、その感放射線性樹脂層１０２上に保護フィルム１０３を貼り合わせることにより感光性ドライフィルム１００を形成する。したがって、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルム１００は、上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成することができる。

尚、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムは、別の例として、支持フィルム上の感放射線性樹脂層の上に保護フィルムを設けない構造とすることも可能である。すなわち、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムの別の例は、図１に示す感光性ドライフィルム１００と異なり、支持フィルムおよび感放射線性樹脂層からなる構造とすることも可能である。

感光性ドライフィルム１００の支持フィルム１０１としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。具体的には、帝人社製テトロンフィルムＧＳシリーズ、デュポン社製マイラーフィルムＤシリーズ等のポリエステルフィルム等が挙げられる。そして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられる。

支持フィルム１０１の厚さは、５μｍ〜１００μｍ程度が好ましく、被覆性の確保と、支持フィルムを介した露光を高効率に行うため、１０μｍ〜７０μｍがより好ましい。

感光性ドライフィルム１００の感放射線性樹脂層１０２は、上述したように、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成される。

保護フィルム１０３としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、および、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなる厚さ５μｍ〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。

本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルム１００は、試料上に、上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物からなる感放射線性樹脂層１０２を積層するために用いることができる。

そして、例えば、後述する本発明の実施形態のタッチパネルを製造するにあたり、検知電極や、例えば、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有して構成された金属配線等を有するタッチパネルの基板上に、感放射線性樹脂層１０２を積層することができる。そして、配設された感放射線性樹脂層１０２から、露光と現像等のパターニング工程等を経て、保護膜を形成することができる。

感光性ドライフィルム１００を用い、タッチパネルの基板等の試料上に、感放射線性樹脂層１０２を積層する方法としては、保護フィルム１０３を除去しながら、その試料に感放射線性樹脂層１０２が密着するようにしてラミネートすることにより実施することができる。より具体的には、感光性ドライフィルム１００から保護フィルム１０３を除去した後、残る感光性ドライフィルム１００を加熱しながら、例えば、金属配線の設けられたタッチパネルの基板表面等の試料の表面に、感放射線性樹脂層１０２を圧着する。その結果、上述の試料上に感放射線性樹脂層１０２を積層することができる。

圧着時の加熱温度としては、感放射線性樹脂層１０２が熱劣化しないように、１０℃〜１８０℃とすることが好ましく、２０℃〜１６０℃とすることがより好ましく、３０℃〜１５０℃とすることがさらに好ましい。

また、圧着時の圧着手段としては、圧着ロールの使用が好ましい。そして、圧着圧力は、試料の変形を抑える観点から、線圧で、５０Ｎ／ｍ〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０^２Ｎ／ｍ〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０^２Ｎ／ｍ〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。

以上の方法に従い、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルム１００は、試料上に、上述した本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物からなる感放射線性樹脂層１０２を積層することができる。そして、感放射線性樹脂層１０２は、露光と現像等のパターニング工程や、必要に応じてさらなる露光処理や加熱処理を経て、保護膜を形成することができる。

実施の形態３．
＜タッチパネル＞
本発明の第３実施形態であるタッチパネルは、金属配線とその金属配線の少なくとも一部を覆う保護膜とを有するタッチパネルである。すなわち、本実施形態のタッチパネルは、基板上に、操作者の指等のタッチ操作を検出するための検知電極を有する。そして、本実施形態のタッチパネルは、検知電極に電気的に接続する配線を有し、その配線は、金属材料を用い形成された金属配線である。本実施形態のタッチパネルにおいて、検知電極に接続する配線は、検知電極をタッチパネルの基板の端部に引き回すための配線を含み、また、分断された検知電極の部分同士を接続するための配線を含む。本実施形態のタッチパネルは、これら配線を覆って保護する保護膜を有して構成される。

本実施形態のタッチパネルは、例えば、静電容量方式のタッチパネルとすることができる。

図２は、本発明の第３実施形態のタッチパネルを示す平面図である。

図３は、図２のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

図２に示すように、本実施形態のタッチパネル２１は、透明基板２２の表面に、Ｘ方向に延在する第１検知電極２３と、Ｘ方向に直交するＹ方向に延在する第２検知電極２４とを有する。

透明基板２２はガラス基板とすることができる。また、透明基板２２は、樹脂基板とすることもでき、その場合、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリイミドフィルム、環状オレフィンの開環重合体フィルムおよびその水素添加物からなるフィルム等を用いることができる。透明基板２２の厚みとしては、ガラス基板の場合、０．１ｍｍ〜３ｍｍとすることができる。樹脂基板の場合、１０μｍ〜３０００μｍとすることができる。

第１検知電極２３および第２検知電極２４は、それぞれ複数が配置される。そして、第１検知電極２３および第２検知電極２４は、タッチパネル２１の操作領域でマトリクス状に配置されている。第１検知電極２３は、操作者によるタッチ位置のＹ方向の座標を検出するために用いられる。第２検知電極２４は、操作者によるタッチ位置のＸ方向の座標を検出するために用いられる。第１検知電極２３と第２検知電極２４とは、透明基板２２の同一面の同一層に設けられている。尚、第１検知電極２３および第２検知電極２４の数は図２の例に限られるものではなく、操作領域の大きさと必要とされるタッチ位置の検出精度に応じて決定されることが好ましい。すなわち、より多い数や少ない数の第１検知電極２３および第２検知電極２４を用い、タッチパネル２１を構成することができる。

図２に示すように、第１検知電極２３および第２検知電極２４はそれぞれ、菱形形状の複数の電極パッド３０から構成されている。第１検知電極２３と第２検知電極２４とは、第１検知電極２３の電極パッド３０がそれと隣接する第２検知電極２４の電極パッド３０と離間するように配置される。このとき、それら電極パッド３０間の隙間は、絶縁性が確保できる程度のごく小さなものとされる。

そして、第１検知電極２３と第２検知電極２４とは、互いに交差する部分をできる限り小さくできるように配置される。そして、第１検知電極２３および第２検知電極２４を構成する電極パッド３０がタッチパネル２１の操作領域全体に配置されるようにする。
図２に示すように、電極パッド３０は菱形形状とすることができるが、こうした形状に限られず、例えば、六角形等の多角形形状とすることができる。

第１検知電極２３および第２検知電極２４はそれぞれ、透明電極であることが好ましい。ここで、透明電極とは、可視光に対して高い透過性を備える電極である。第１検知電極２３および第２検知電極２４としては、ＩＴＯからなる電極や、酸化インジウムと酸化亜鉛からなる電極等、透明導電材料からなる電極を用いることができる。第１検知電極２３および第２検知電極２４がそれぞれＩＴＯからなる場合、十分な導電性を確保できるよう、それらの厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとすることが好ましい。

第１検知電極２３および第２検知電極２４の形成は、公知の方法を用いて行うことができ、例えば、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる膜をスパッタリング法等を用いて成膜し、フォトリソグラフィ法等を利用してパターニングすることで行うことができる。

図２および図３に示すように、第１検知電極２３および第２検知電極２４は、透明基板２２の同一面上に形成されており、同一層をなしている。そのため、第１検知電極２３と第２検知電極２４とは、操作領域において、複数の箇所で交差しており、交差部２８を形成している。

本実施形態のタッチパネル２１では、図３に示すように、交差部２８において、第１検知電極２３および第２検知電極２４のいずれか一方が他方と接触しないように分断される。すなわち、交差部２８において、第１検知電極２３は繋がっているが、図３の左右方向に伸びる第２検知電極２４は分断されて形成されている。そして、第２検知電極２４の途切れた箇所を電気的に接続させるために、ブリッジ配線３２が設けられている。ブリッジ配線３２と第１検知電極２３との間には、絶縁性物質からなる層間絶縁膜２９が設けられている。

図３に示すように、交差部２８で、第１検知電極２３の上に設けられた層間絶縁膜２９は、光透過性に優れた材料から形成されている。層間絶縁膜２９は、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマー等の印刷法を用いて塗布し、必要な場合にパターニングを行った後、それを加熱硬化させて形成することができる。ポリシロキサンを用いて形成した場合には、層間絶縁膜２９はシリコン酸化物（ＳｉＯ_２）からなる無機絶縁層となる。また、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマーを用いた場合には、層間絶縁膜２９は樹脂からなる有機絶縁層となる。層間絶縁膜２９にＳｉＯ_２を用いる場合には、例えば、マスクを用いたスパッタリング法によって、交差部２８における第１検知電極２３の上にのみＳｉＯ_２膜を形成して、層間絶縁膜２９を構成することもできる。

層間絶縁膜２９の上層には、ブリッジ配線３２が設けられている。ブリッジ配線３２は、上述したように、交差部２８で途切れた第２検知電極２４同士を電気的に接続する機能を果たす。ブリッジ配線３２は、ＩＴＯ等の光透過性に優れた材料によって形成されることが好ましい。また、ブリッジ配線３２は、抵抗特性に優れた金属材料を用いて構成し、金属配線とすることも可能である。ブリッジ配線３２は、抵抗特性に優れた金属配線とすることにより、線幅を細くすることができ、タッチパネル２１の操作者に対して目立ち難くすることができる。タッチパネル２１では、ブリッジ配線３２を設けることにより、第２検知電極２４をＹ方向に電気的に接続することができる。

図３に示すように、第１検知電極２３および第２検知電極２４は、上述したように、菱形の電極パッド３０を縦または横に複数並べた形状を有する。第１検知電極２３において、交差部２８に位置する接続部分は、第１検知電極２３の菱形の電極パッド３０より幅の狭い形状とされる。また、ブリッジ配線３２も、菱形の電極パッド３０より幅の狭い形状であって、短冊状に形成されている。

タッチパネル２１の第１検知電極２３と第２検知電極２４の端部には、それぞれ端子（図示されない）が設けられており、その端子からそれぞれ配線３１が引き出される。配線３１は、アルミニウム、銅、モリブデンおよび銅−マンガン合金等を用いた金属配線とすることができる。また、例えば、モリブデンとアルミニウムの金属膜を用い、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を形成して構成された金属配線とすることができる。

配線３１は、その端部の接続端子（図示されない）を用いて、第１検知電極２３および第２検知電極２４への電圧印加やタッチ操作の位置を検出する外部の制御回路（図示されない）に電気的に接続される。

図２および図３に示すように、第１検知電極２３、第２検知電極２４および配線３１の形成された透明基板２２の表面には、配線３１を覆うように、光透過性の保護膜２５が設けられている。同様に、保護膜２５は、第１検知電極２３および第２検知電極２４も覆うように形成されている。したがって、ブリッジ配線３２が、配線３１と同様に金属配線である場合、保護膜２５は、配線３１とともに、金属配線であるブリッジ配線３２も覆うことができる。

保護膜２５は、タッチパネル２１の配線形成領域で配線３１の少なくとも一部を覆って保護し、また、操作領域で、第１検知電極２３および第２検知電極２４等を覆って保護するようにパターニングされて形成される。具体的に、保護膜２５は、第１検知電極２３および第２検知電極２４から引き出される配線３１の端部の接続端子（図示されない）が露出するようにパターニングされて形成される。

保護膜２５の形成には、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて形成された、上述の本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを使用することができる。すなわち、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを用い、上述した感放射線性樹脂層を積層する方法にしたがって、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物から形成された感放射線性樹脂層をタッチパネル２１の透明基板２２上に積層する。次いで、所望のパターニング等を行って、保護膜２５を形成することができる。

保護膜２５の形成方法について、以下でより詳細に説明する。

はじめに、図１に示されたものと同様の本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを準備する。

次に、その感光性ドライフィルムを用い、保護フィルムを除去しながら、第１検知電極２３、第２検知電極２４および配線３１等の形成された透明基板２２の表面に、感放射線性樹脂層が密着するようにしてラミネートする。ラミネートの具体的方法については、上述した感放射線性樹脂層を積層する方法に従うことが好ましい。その結果、透明基板２２の配線３１等の形成された表面に、感光性ドライフィルムの有していた感放射線性樹脂層が積層される。

次いで、透明基板２２上の感放射線性樹脂層の少なくとも一部に、放射線を照射（以下、露光とも言う。）する。この場合、感放射線性樹脂層の一部に露光する際には、通常、タッチパネル２１の保護膜２５の形成に好適な所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用できる。これらの放射線の中でも、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、特に３６５ｎｍの紫外線を含む放射線が好ましい。

感放射線性樹脂層の一部に露光する際の露光量は、放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を、照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ３５６、ＯＡＩ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｉｎｃ．製）により測定した値として、好ましくは１００Ｊ／ｍ^２〜１００００Ｊ／ｍ^２、より好ましくは５００Ｊ／ｍ^２〜６０００Ｊ／ｍ^２である。

次いで、露光後の感放射線性樹脂層を現像することにより、不要な部分（感放射線性樹脂組成物からなる感放射線性樹脂層がネガ型の場合は、放射線の非照射部分。）を除去して、所定のパターンを形成し、所望形状にパターニングされた硬化膜を得る。

現像に使用される現像液としては、アルカリ（塩基性化合物）の水溶液かならるアルカリ現像液の使用が好ましい。アルカリの例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等を挙げることができる。

また、このようなアルカリ現像液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ現像液におけるアルカリの濃度は、適当な現像性を得る観点から、好ましくは０．１質量％以上５質量％以下とすることができる。現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。現像時間は、感放射線性樹脂組成物の組成によって異なるが、好ましくは１０秒間〜１８０秒間程度である。このような現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を３０秒間〜９０秒間行った後、例えば、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成することができる。

尚、現像の後、必要に応じて、さらなる露光により硬化膜をさらに硬化させてもよい。また、現像後の露光の代わりに、あるいは、露光と併せて、８０℃〜２８０℃の加熱処理を施してもよい。

保護膜２５の膜厚としては、好ましくは０．１μｍ〜８μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜６μｍ、さらに好ましくは０．１μｍ〜４μｍである。

このようにして透明基板２２上で所望形状となるようにパターニングされた硬化膜は、透明性が高く、また、配線３１や第１検知電極２３等を保護するように被覆して、タッチパネル２１の保護膜２５となる。

保護膜２５は、本発明の第２実施形態の感光性ドライフィルムを用いて形成され、ひいては、本発明の第１実施形態の感放射線性樹脂組成物から形成されることになる。したがって、保護膜２５は光透過性に優れ、また、タッチパネルの透明基板２２上に形成された、金属配線である配線３１に対して優れた密着性を備えている。さらに、保護膜２５は、配線３１において腐食等の劣化が促進されるのを抑制することができる。

したがって、タッチパネル２１は、保護膜２５を有することによって高信頼化を実現することができる。

また、保護膜２５の形成されたタッチパネル２１は、透明基板２２の配線３１並びに第１検知電極２３および第２検知電極２４の形成面に、例えば、アクリル系の透明接着剤からなる接着層（図示されない）を用いて透明な樹脂からなるカバーフィルム（図示されない）を設けることが可能である。

以上の構成を有するタッチパネル２１は、第１検知電極２３と第２検知電極２４がマトリクス状に配置された操作領域において静電容量を計測し、操作者の指等のタッチ操作があった場合に生じる静電容量の変化から、指等の接触位置を検知することができる。そして、タッチパネル２１は、第１検知電極２３および第２検知電極２４に電気的に接続する配線３１を介して接続され、液晶表示素子や有機ＥＬ素子等のディスプレイの上に載置され、電子機器のディスプレイの入力装置として好適に使用することが可能である。

以下、実施例に基づき本発明の実施形態をより詳しく説明するが、この実施例によって本発明が限定的に解釈されるものではない。

＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
合成例１
［バインダーポリマーの合成］
フラスコにメタクリル酸（１９ｗ％）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１９ｗ％）、ベンジルメタクリレート（４４ｗ％）、シクロヘキシルマレイミド（１０ｗ％）、Ｐ−イソプロぺニルフェノール（８ｗ％）、アゾビスイソブチロニトリル（４ｗ％）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（２ｗ％）を投入し、Ｓ／Ｍ比が２になるようにメチル３−メトキシプロピオネートを加えた。室温、窒素雰囲気下で撹拌し全てのモノマーが溶解した後、９０℃、窒素雰囲気下で反応させた。反応開始４ｈ後にＰ−メトキシフェノールを仕込み全量に対し０．１ｗ％量加え、窒素を止めてＡｉｒバブリングを開始した。その１０分後に２−ヒドロキシエチルメタクリレートと等モルの２−イソシアナトエチルメタクリレートを滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了から１．５ｈ後に冷却して反応を終了させて、バインダーポリマーを得た。

合成例２
［（Ｃ）化合物の合成］
冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、２−メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート１０部およびテトラヒドロフラン３０部を仕込んだ。引き続き蒸留水２部を仕込み、溶液の温度を４０℃に上昇させ１時間緩やかに撹拌を行った。減圧留去によりテトラヒドロフラン、蒸留水を除去した後、エタノール５０部より再結晶を行い、針状白色結晶として、上記式（３−１）の１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレアを得た。
得られた化合物が１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）であることを、溶媒として重ＤＭＳＯ、基準としてＴＭＳを用いて、^１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。^１Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。ケミカルシフト（プロトン比、分裂）；１．８２（３Ｈ，ｓ）、３．２６（２Ｈ，ｑ）、３．９９（２Ｈ，ｔ）、５．６１（１Ｈ，ｓ）、６．００（１Ｈ，ｓ）、６．０８（１Ｈ，ｔ）。

調製例１
［（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液の調製］
ポリビンまたはガラス瓶にＺｒＯ_２の紛体であるＵＥＰ−１００（第一希元素社製）を３０質量部と、酸性分散剤Ｓ５５０００（日本ルーブリゾール社製）を２．５質量部、カルボン酸部位を持つ多官能アクリレートのアロニックス（登録商標）Ｍ−５２０（東亞合成社製）を２．５質量部加えた。溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を６５質量部添加し、０．１ｍｍのジルコニアビーズを仕込重量の３．５倍分添加して密封し軽く撹拌して溶剤と粒子、有機成分をなじませた。これをペイントシェーカーにセットし３時間分散処理し、メッシュフィルターでジルコニアビーズを除去して（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液を得た。

［感放射線性樹脂組成物の調製］
実施例で使用した各成分の詳細を下記に示す。

（Ａ）バインダーポリマー（（Ａ）成分）
上述の合成例１によるバインダーポリマー

（Ｂ）光重合開始剤（（Ｂ）成分）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）

（Ｃ）上記式（１）で示される化合物（（Ｃ）成分）
１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）

（Ｄ）上記式（２）で示される化合物（（Ｄ）成分）
Ｄ−１：Ｋａｙａｍｅｒ（登録商標） ＰＭ−２１（日本化薬社製）
Ｄ−２：ライトエステル Ｐ−２Ｍ（共栄社化学社製）
Ｄ−３：ＪＰＡ−５１４（城北化学社製）

（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物（（Ｅ）成分）
Ｅ−１：ＵＮ−９０６ＡＶＮ（根上工業社製）
Ｅ−２：ＵＮ−５５０７（根上工業社製）
Ｅ−３：ＵＮ−９０４（根上工業社製）

（Ｆ）無機酸化物粒子の分散液（（Ｆ）成分）
上述の調製例１による無機酸化物粒子の分散液

実施例１
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＫａｙａｍｅｒ（登録商標） ＰＭ−２１（日本化薬社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０６ＡＶＮ（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例２
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＫａｙａｍｅｒ（登録商標） ＰＭ−２１（日本化薬社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−５５０７（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例３
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＫａｙａｍｅｒ（登録商標） ＰＭ−２１（日本化薬社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０４（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例４
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるライトエステルＰ−２Ｍ（共栄社化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０６ＡＶＮ（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例５
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるライトエステルＰ−２Ｍ（共栄社化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−５５０７（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例６
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるライトエステルＰ−２Ｍ（共栄社化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０４（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例７
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＪＰＡ−５１４（城北化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０６ＡＶＮ（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例８
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＪＰＡ−５１４（城北化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−５５０７（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

実施例９
（Ａ）バインダーポリマーの固形分が１００質量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を３質量部、（Ｃ）成分である１，３−ビス（メタアクリロイルオキシエチル）ウレア（３−１）を１０質量部、（Ｄ）成分であるＪＰＡ−５１４（城北化学社製）を４０質量、（Ｅ）成分であるＵＮ−９０４（根上工業社製）を１００質量部、および、（Ｆ）成分である上記の調製例１による無機酸化物粒子を固形分で５００質量部、加え、固形分濃度が３５％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、全ての原料が溶解するまで撹拌して、感放射線性樹脂組成物を得た。

＜保護膜の評価＞
実施例１０
実施例１〜実施例９で得られた感放射線性樹脂組成物を用い、支持フィルムと感放射線性樹脂層とからなる感光性ドライフィルムをそれぞれ形成した後、各感光性ドライフィルムを用いて保護膜を形成し、各保護膜について評価を行った。
評価は、パターニング性、透水率（透湿度とも言う。）、密着性、硬度、および、プレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の密着性について行い、評価方法を以下で説明するとともに、評価結果を下記の表１にまとめてを示した。

［パターニング性の評価］
支持フィルムであるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの未処理面に実施例１〜実施例９で調製した感放射線性樹脂組成物を硬化後膜厚が８μｍになるようにバーコーター（テスター産業 ＡＵＴＯ ＦＩＬＭ ＡＰＰＬＩＣＡＴＯＲ）で塗工し、クリーンオーブンで１００℃／２分間プリベークして溶剤を除去しドライフィルム化した。そして、支持フィルム上に感放射線性樹脂層が形成された感光性ドライフィルムを形成した。

この感光性ドライフィルムを用い、その感放射線性樹脂層を、ロール温度を９０℃に設定したラミネーター（大成ラミネーター ＦＩＲＳＴ ＬＡＭＩＮＡＴＯＲ ＶＡＩＩ−７００特殊型）で、銅基板上に転写し、その後、ＵＶ露光機（ＴＯＰＣＯＮ Ｄｅｅｐ−ＵＶ露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＪ）を使用し、９０μｍ幅のラインと１００μｍ幅のスペースとが交互に連なるライン・アンド・スペースパターンを備えたマスクを用い、マスク露光（６０ｍＪ）した。次いで、感光性ドライフィルムのＰＥＴフィルムを剥離し、感光性ドライフィルムの感放射線性樹脂層が転写された基板を２％炭酸ナトリウム水溶液で５０秒間アルカリ現像し、次いで、超純水で６０秒間リンスして未露光部を除去した。この基板をポスト露光（２５０ｍＪ）し、ポストベイク（１４０度／２５分間）で感放射線性樹脂層をさらに硬化させて、パターニングされた硬化膜として保護膜を得た。

パターニング性の評価については、９０μｍのラインと１００μｍのスペースが連なるマスクパターンが残さなく形成できる場合を「良好（○）」と判断し、残差が残る、または形成したパターンがマスクのパターンに比べ著しく太くなる場合を「不良（×）」と判断した。

［透湿度の評価］
実施例１〜実施例９の感放射線性樹脂組成物を用い、アプリケーターを用いて硬化後膜厚が４０μｍになるように、支持フィルムであるＰＥＴフィルムの未処理面に塗工し、クリーンオーブンで１００℃／２分間プリベークして溶剤を除去しドライフィルム化した。そして、支持フィルム上に感放射線性樹脂層が形成された感光性ドライフィルムを形成した。

この感光性ドライフィルムをＵＶ露光機（ＴＯＰＣＯＮ Ｄｅｅｐ−ＵＶ露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＪ）で全面露光（６０ｍＪ）し、２％炭酸ナトリウム水溶液で５０秒間アルカリ現像し、次いで、超純水で６０秒間リンスした。この感光性ドライフィルムをポスト露光（２５０ｍＪ）し、次いで、ポストベイク（１４０度／２５分間）で感放射線性樹脂層をさらに硬化させ、ＰＥＴフィルムから硬化膜として保護膜を剥離して取り出した。

この保護膜を用い、透湿カップ法により、露光後の透水率として、透湿度を測定した。透湿カップには株式会社井元製作所の「透湿カップ（ねじ締付式） ＪＩＳ Ｚ０２０８」を使用した。吸湿剤として関東化学株式会社の塩化カルシウム（水分測定用）を用い、この吸湿剤を５ｇ測り取った透湿カップを上記のドライフィルムの硬化膜で覆い、器具で固定して硬化膜でカップを完全に密閉し、６５℃／９０％ＲＨの恒温恒湿化に２４時間（ｈ）静置し試験前と試験後の吸湿剤の重量変化から透湿度を算出した。透湿度算出式は以下の通りである。
透湿度（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）
＝（吸湿剤の重量変化量［ｇ］×２４）／（透湿面積［ｍ^２］×試験時間［ｈ］）

［密着性の評価］
支持フィルムであるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの未処理面に実施例１〜実施例９で調製した感放射線性樹脂組成物を硬化後膜厚が８μｍになるようにバーコーター（テスター産業 ＡＵＴＯ ＦＩＬＭ ＡＰＰＬＩＣＡＴＯＲ）で塗工し、クリーンオーブンで１００℃／２分間プリベークして溶剤を除去しドライフィルム化した。そして、支持フィルム上に感放射線性樹脂層が形成された感光性ドライフィルムを形成した。

この感光性ドライフィルムを用い、その感放射線性樹脂層を、ロール温度を９０℃に設定したラミネーター（大成ラミネーター ＦＩＲＳＴ ＬＡＭＩＮＡＴＯＲ ＶＡＩＩ−７００特殊型）で、ＩＴＯでガラス基板の表面を被覆してなるＩＴＯ基板上に転写し、その後、ＵＶ露光機（ＴＯＰＣＯＮ Ｄｅｅｐ−ＵＶ露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＪ）で全面露光（６０ｍＪ）した。次いで、感光性ドライフィルムのＰＥＴフィルムを剥離し、感光性ドライフィルムの感放射線性樹脂層が転写された基板を２％炭酸ナトリウム水溶液で５０秒間アルカリ現像し、次いで、超純水で６０秒間リンスした。この基板をポスト露光（２５０ｍＪ）し、ポストベイク（１４０度／２５分間）で感放射線性樹脂層をさらに硬化させて、基板上に硬化膜として保護膜が形成された試験片を得た。

密着性を評価する密着性試験は、上述の保護膜の形成された基板をコーテック株式会社のクロスカットガイドＣＣＪ−１を用いた。そして、碁盤目試験（ＪＩＳ Ｋ５４００−８．５）の方法に準じて評価を行った。具体的には、ＩＴＯ基板上での評価で、剥がれた部分が全くない場合を５Ｂ、一部剥がれるが剥がれた部分が全体の５％以下なら４Ｂ、剥がれた部分が５％を超え１５％以下なら３Ｂ、剥がれた部分が１５％を超え３５％以下なら２Ｂ、剥がれた部分が３５％を超え６５％以下なら１Ｂ、剥がれた部分が６５％を超える場合を０Ｂとして評価した。

［硬度の評価］
支持フィルムであるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの未処理面に実施例１〜実施例９で調製した感放射線性樹脂組成物を硬化後膜厚が８μｍになるようにバーコーター（テスター産業 ＡＵＴＯ ＦＩＬＭ ＡＰＰＬＩＣＡＴＯＲ）で塗工し、クリーンオーブンで１００℃／２分間プリベークして溶剤を除去しドライフィルム化した。そして、支持フィルム上に感放射線性樹脂層が形成された感光性ドライフィルムを形成した。

この感光性ドライフィルムを用い、その感放射線性樹脂層を、ロール温度を９０℃に設定したラミネーター（大成ラミネーター ＦＩＲＳＴ ＬＡＭＩＮＡＴＯＲ ＶＡＩＩ−７００特殊型）でガラス基板上に転写し、その後、ＵＶ露光機（ＴＯＰＣＯＮ Ｄｅｅｐ−ＵＶ露光機ＴＭＥ−４００ＰＲＪ）で全面露光（６０ｍＪ）した。次いで、感光性ドライフィルムのＰＥＴフィルムを剥離し、感光性ドライフィルムの感放射線性樹脂層が転写された基板を２％炭酸ナトリウム水溶液で５０秒間アルカリ現像し、次いで、超純水で６０秒間リンスした。この基板をポスト露光（２５０ｍＪ）し、ポストベイク（１４０度／２５分間）で感放射線性樹脂層をさらに硬化させて、基板上に硬化膜として保護膜が形成された試験片を得た。

硬度は、ガラス基板上に製膜した保護膜を用い、新東科学株式会社の連続荷重式引掻強度試験機ＴＹＰＥ１８を用いて鉛筆硬度測定法（ＪＩＳ ５６００）に準じて測定した。

［プレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の密着性の評価］
実施例１〜実施例９で調製した感放射線性樹脂組成物を用い、上述した密着性の評価と同様の方法で、ＩＴＯ基板上に保護膜を形成してなる試験片を作製した後、プレッシャークッカー試験を行い、上述した密着性の評価と同様の方法で、プレッシャークッカー後の保護膜の密着性試験を行った。プレッシャークッカーは（株）平山製作所のＰＣ−３０４Ｒ８を使用し、試験条件は１００℃／１００％ＲＨ／０．１ＭＰａで２時間（ｈ）行った。そして、上述した密着性の評価と同様の方法で評価を行った。

表１には、実施例１〜実施例９で調製した感放射線性樹脂組成物の組成を示すとともに、それらを用いて製造された保護膜の評価結果をまとめて示している。

表１に示すように、パターニング性、密着性、透湿度の相関を見ると、透湿度（透水率）が約１０００ｇ／ｍ^２・２４時間（ｈ）以下となる保護膜ではパターニング性が不良である。これは親水性が低いため現像時のアルカリ溶解性が低く、残渣が残りやすいためだと考えられる。

また、透湿度（透水率）が約２０００ｇ／ｍ^２・２４時間（ｈ）を超えるとプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後のＩＴＯ密着性が悪化することがわかる。これは密着性に主に寄与する（Ｄ）成分において、高極性基を有するものが増加すると保護膜の吸水性が増大し、ＰＣＴにより保護膜が膨潤することで密着性が低下すると考えられる。以上から、保護膜は、露光後の透水率が１０００ｇ／ｍ^２・２４時間〜２０００ｇ／ｍ^２・２４時間であることがより好ましい。

尚、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。

本発明のタッチパネルは高い信頼性を有する。したがって、本発明のタッチパネルは、優れた表示品位と信頼性が求められる携帯用情報機器の入力装置として好適である。

２１ タッチパネル
２２ 透明基板
２３ 第１検知電極
２４ 第２検知電極
２５ 保護膜
２８ 交差部
２９ 層間絶縁膜
３０ 電極パッド
３１ 配線
３２ ブリッジ配線
１００ 感光性ドライフィルム
１０１ 支持フィルム
１０２ 感放射線性樹脂層
１０３ 保護フィルム

Claims (11)

1. （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）下記式（１）で示される化合物および（Ｄ）下記式（２）で示される化合物を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
   （式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^３および^４はそれぞれ独立に、不飽和複素環基、炭素数１１〜２０のアルキル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、メルカプト基およびスルホ基のうちのいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）
   （式（２）において、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を示す。ｊは１〜５の整数を示し、ｋは１〜２の整数を示す。）
2. （Ｃ）成分が、下記式（３）で示される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
   （式（３）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、単結合または２価〜４価の有機基を示し、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立に、水素原子およびメチル基のいずれかを示す。ｎおよびｍはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）
3. さらに、（Ｅ）ウレタン結合を有する不飽和化合物を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
4. さらに、（Ｆ）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン、ストロンチウム、バリウム、セリウムおよびハフニウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む酸化物である無機酸化物粒子を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成されることを特徴とする感光性ドライフィルム。
6. 支持フィルムと、請求項１〜４のいずれかに１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて該支持フィルム上に３μｍ〜３０μｍの膜厚で形成された感放射線性樹脂層と、該感放射線性樹脂層の上に配置された保護フィルムとを有することを特徴とする感光性ドライフィルム。
7. 前記感放射線性樹脂層は露光によって硬化し、露光後の透水率が１０００ｇ／ｍ^２・２４時間〜２０００ｇ／ｍ^２・２４時間であることを特徴とする請求項６に記載の感光性ドライフィルム。
8. 前記支持フィルムがポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項６または７に記載の感光性ドライフィルム。
9. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムを用い、試料上に前記感放射線性樹脂層を積層する感放射線性樹脂層の積層方法であって、
   前記保護フィルムを除去しながら、前記試料に前記感放射線性樹脂層が密着するようにしてラミネートすることを特徴とする感放射線性樹脂層の積層方法。
10. 金属配線を有するタッチパネルの該金属配線を保護する保護膜であって、
    請求項９記載の感放射線性樹脂層の積層方法により、前記金属配線に前記感放射線性樹脂層をラミネートし、該感放射線性樹脂層を露光して形成されることを特徴とする保護膜。
11. 金属配線と、請求項１０記載の保護膜とを有することを特徴とするタッチパネル。