JP2015067901A - 金属水酸化物の製造方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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- 電解槽内に、疎水性のガス拡散層と親水性の反応層とを積層して構成されるガス拡散電極を設置してこの電解槽内を区画し、この区画された電解槽の反応層に面する部分に電解液を収納し、この電解液中にInと、Ga、Zn、Al及びSnから選択された少なくとも1種の金属とを含有する導電性金属酸化物を浸漬し、
ガス拡散電極を陰極、導電性金属酸化物を陽極として両電極間に電圧を印加すると共に、区画された電解槽のガス拡散層に面する部分に酸素を供給して電解し、電解液中に金属水酸化物を析出させることを特徴とする金属水酸化物の製造方法。 - 前記電解液として硝酸アンモニウムを用い、前記導電性金属酸化物としてIn2O3−Ga2O3−ZnO、In2O3−Al2O3−ZnO、In2O3−SnO2、In2O3−SnO2−ZnO及びIn2O3−ZnOから選択された1種を用いることを特徴とする請求項1記載の金属水酸化物の製造方法。
- 請求項1または2記載の金属水酸化物の製造方法により製造された金属水酸化物を用いてスパッタリングターゲットを製造することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
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