JP2015067500A5 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び円盤形状のガラス基板 - Google Patents
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Description
本発明は、磁気ディスク用ガラスブランクから円盤形状のガラス基板を切り出す形状加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び円盤形状のガラス基板に関する。
そこで、本発明は、磁気ディスク用ガラスブランクから円盤形状のガラス基板を切り出す形状加工処理を行うとき、ガラスブランクの破損率を低くし、かつ、形状加工処理にかかる時間を短縮することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び円盤形状のガラス基板を提供することを目的とする。
前記磁気ディスク用ガラスブランクは、落下中の溶融ガラスの塊を一対の型のプレス面に挟み込むことにより前記プレス面に沿って拡がる前記塊の先端が前記プレス面の端に到達しないように溶融ガラスをプレスすることにより得られる、ことが好ましい。
本発明の別の一態様は、磁気ディスク用ガラス基板の製造に用いられる円盤形状のガラス基板である。当該円盤形状のガラス基板の主表面の外周におけるリタデーション値の最大値と最小値の差は３ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。
本発明の別の一態様は、磁気ディスク用ガラス基板の製造に用いられる円盤形状のガラス基板である。当該円盤形状のガラス基板の主表面の外周におけるリタデーション値の最大値と最小値の差は３ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。
上述の磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法及び円盤形状のガラス基板によれば、形状加工処理中のガラスブランクの破損率を低くし、かつ、形状加工処理にかかる時間を短縮することができる。
以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び円盤形状のガラス基板について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
Claims (9)
- 磁気ディスク用ガラスブランクから円盤形状のガラス基板を切り出す形状加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記形状加工処理は、プレス法によって形成された磁気ディスク用ガラスブランクの応力の高い主表面の領域と応力の低い主表面の領域とを通るように円形状の切り筋線を定めて前記切り筋線を前記ガラスブランクの主表面に形成する処理と、
前記ガラスブランクの前記切り筋線の内周側の部分を外周側の部分から分離して円盤形状のガラス基板を得る処理と、を含む
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記主表面に前記切り筋線を形成する処理では、前記磁気ディスク用ガラスブランクの主表面のリタデーション値の分布である応力分布から、前記磁気ディスク用ガラスブランクの応力の高い領域と応力の低い領域とを把握して、前記切り筋線を前記ガラスブランクの主表面に形成する、請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記切り筋線上における前記リタデーション値の最大値と最小値の差が３ｎｍ以上１５ｎｍ以下である、請求項２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記主表面に前記切り筋線を形成する処理では、前記ガラスブランクにおける前記リタデーション値の分布を、前記リタデーション値の高い領域と前記リタデーション値の低い領域の２つに区分けしたとき、前記リタデーション値の高い領域と前記リタデーション値の低い領域を区分けした境界線を通るように前記切り筋線を前記ガラスブランクの主表面に形成する、請求項２または３に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記境界線は、前記リタデーション値が２〜４ｎｍの範囲に含まれる値に対応する圧力分布の等値線である、請求項４に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記切り筋線のすべての部分は、前記リタデーション値が２０ｎｍ以下の範囲に対応する応力の領域に含まれる、請求項２〜５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 複数の磁気ディスク用ガラスブランクから複数のガラス基板を作製するとき、前記磁気ディスク用ガラスブランクを作製したプレス型の情報、前記磁気ディスク用ガラスブランクを作製したプレス日時情報、及び、前記磁気ディスク用ガラスブランクのガラス組成の情報のうち少なくとも１つの情報によって区分けされた磁気ディスク用ガラスブランクの群ごとに、前記応力分布の情報は取得される、請求項２〜６のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記磁気ディスク用ガラスブランクは、落下中の溶融ガラスの塊を一対の型のプレス面に挟み込むことにより前記プレス面に沿って拡がる前記塊の先端が前記プレス面の端に到達しないように溶融ガラスをプレスすることにより得られる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 磁気ディスク用ガラス基板の製造に用いられる円盤形状のガラス基板であって、
前記ガラス基板の主表面の外周におけるリタデーション値の最大値と最小値の差が３ｎｍ以上１５ｎｍ以下である円盤形状のガラス基板。
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