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Description
本発明の蛍光光源装置は、励起光によって励起される蛍光体による波長変換部材を備えてなる蛍光光源装置であって、
前記波長変換部材は、蛍光体が含有されてなる蛍光部材と、当該蛍光部材上に形成されたフォトニック構造部とからなり、当該フォトニック構造部の表面が当該波長変換部材における蛍光出射面とされており、
前記フォトニック構造部は、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が前記蛍光部材から遠ざかる方向に伸びて形成された無機化合物層により構成されてなることを特徴とする。
前記波長変換部材は、蛍光体が含有されてなる蛍光部材と、当該蛍光部材上に形成されたフォトニック構造部とからなり、当該フォトニック構造部の表面が当該波長変換部材における蛍光出射面とされており、
前記フォトニック構造部は、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が前記蛍光部材から遠ざかる方向に伸びて形成された無機化合物層により構成されてなることを特徴とする。
本発明の蛍光光源装置においては、前記フォトニック構造部は、前記無機化合物層の表面に、複数の凸部が二次元周期的に配列されてなる周期構造が形成されていることが好ましい。
また、本発明の蛍光光源装置においては、前記無機化合物層を構成する柱状単位における横幅に対する縦幅の比が1.3以上であることが好ましい。
また、本発明の蛍光光源装置においては、前記無機化合物層を構成する柱状単位における横幅に対する縦幅の比が1.3以上であることが好ましい。
本発明の蛍光光源装置の製造方法は、励起光によって励起される蛍光体による波長変換部材を備えてなる蛍光光源装置を製造するための蛍光光源装置の製造方法であって、
蛍光体が含有されてなる蛍光部材上に、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が当該蛍光部材から遠ざかる方向に伸びる無機化合物層を形成し、この無機化合物層の表面をエッチング処理する工程を経ることにより、当該蛍光部材と、表面がエッチング処理された当該無機化合物層により構成されてなるフォトニック構造部とからなる波長変換部材を得ることを特徴とする。
蛍光体が含有されてなる蛍光部材上に、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が当該蛍光部材から遠ざかる方向に伸びる無機化合物層を形成し、この無機化合物層の表面をエッチング処理する工程を経ることにより、当該蛍光部材と、表面がエッチング処理された当該無機化合物層により構成されてなるフォトニック構造部とからなる波長変換部材を得ることを特徴とする。
以下、本発明の蛍光光源装置の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の蛍光光源装置の一例における構成の概略を示す説明図であり、図2は、図1の蛍光光源装置における蛍光発光部材の構成を示す説明用断面図である。また、図3は、図2の蛍光発光部材における波長変換部材を拡大して示す説明用拡大図であり、図4は、図3の波長変換部材のフォトニック構造部の表面構造を示す説明用部分断面図である。
この蛍光光源装置10は、図1に示すように、レーザダイオード11と、このレーザダイオード11に対向して配置された、当該レーザダイオード11から出射されるレーザ光である励起光Lによって励起されて蛍光L1を出射する波長変換部材21を有する蛍光発光部材20とを備えている。
レーザダイオード11と蛍光発光部材20との間における当該レーザダイオード11に接近した位置には、レーザダイオード11から入射された励起光Lを平行光線として出射するコリメータレンズ15が配置されている。また、コリメータレンズ15と蛍光発光部材20との間には、レーザダイオード11からの励起光Lを透過すると共に蛍光発光部材20における波長変換部材21からの蛍光L1を反射するダイクロイックミラー16が、コリメータレンズ15の光軸に対して例えば45°の角度で傾斜した姿勢で配置されている。
ここに、図1においては、1つのレーザダイオード11の光を用いているが、レーザダイオード11が複数あり、蛍光発光部材20における波長変換部材21の前に集光レンズを配置させ、集光光を当該波長変換部材21に照射する形態であってもよい。また、励起光Lはレーザダイオード11による光に限るものではなく、波長変換部材21における蛍光体を励起することができるものであれば、LEDによる光を集光したものでもよく、更には、水銀、キセノン等が封入されたランプからの光であってもよい。尚、ランプやLEDのように放射波長に幅を持つ光源を利用した場合には、励起光の波長は主たる放射波長の領域である。ただし、本発明においては、これに限定されるものではない。
図1は、本発明の蛍光光源装置の一例における構成の概略を示す説明図であり、図2は、図1の蛍光光源装置における蛍光発光部材の構成を示す説明用断面図である。また、図3は、図2の蛍光発光部材における波長変換部材を拡大して示す説明用拡大図であり、図4は、図3の波長変換部材のフォトニック構造部の表面構造を示す説明用部分断面図である。
この蛍光光源装置10は、図1に示すように、レーザダイオード11と、このレーザダイオード11に対向して配置された、当該レーザダイオード11から出射されるレーザ光である励起光Lによって励起されて蛍光L1を出射する波長変換部材21を有する蛍光発光部材20とを備えている。
レーザダイオード11と蛍光発光部材20との間における当該レーザダイオード11に接近した位置には、レーザダイオード11から入射された励起光Lを平行光線として出射するコリメータレンズ15が配置されている。また、コリメータレンズ15と蛍光発光部材20との間には、レーザダイオード11からの励起光Lを透過すると共に蛍光発光部材20における波長変換部材21からの蛍光L1を反射するダイクロイックミラー16が、コリメータレンズ15の光軸に対して例えば45°の角度で傾斜した姿勢で配置されている。
ここに、図1においては、1つのレーザダイオード11の光を用いているが、レーザダイオード11が複数あり、蛍光発光部材20における波長変換部材21の前に集光レンズを配置させ、集光光を当該波長変換部材21に照射する形態であってもよい。また、励起光Lはレーザダイオード11による光に限るものではなく、波長変換部材21における蛍光体を励起することができるものであれば、LEDによる光を集光したものでもよく、更には、水銀、キセノン等が封入されたランプからの光であってもよい。尚、ランプやLEDのように放射波長に幅を持つ光源を利用した場合には、励起光の波長は主たる放射波長の領域である。ただし、本発明においては、これに限定されるものではない。
また、フォトニック構造部23においては、周期構造24を構成する複数の凸部25の各々が柱状単位により構成されていることが好ましい。すなわち、凸部25は、1つの柱状単位よりなるものであることが好ましい。
凸部25を柱状単位により構成することにより、後述の蛍光光源装置の製造方法(波長変換部材形成工程)によって当該凸部25を確実に所期の形状を有するものとすることができる。
凸部25を柱状単位により構成することにより、後述の蛍光光源装置の製造方法(波長変換部材形成工程)によって当該凸部25を確実に所期の形状を有するものとすることができる。
スパッタ法によってフォトニック構造部形成層23Aを形成するためには、スパッタ条件を制御することが必要とされる。
具体的には、蛍光部材22とターゲット物質との間に印加される高周波電圧を低くすると共に、不活性ガスの流量を小さくすることが好ましい。
印加する高周波電圧を小さくすることによれば、スパッタ膜の形成時における蛍光部材22の温度を低くすることができる。そのため、蛍光部材22上に形成されるスパッタ膜における再結晶化を抑制し、よって得られるスパッタ膜を、所期の柱状構造を有するものとすることができる。
不活性ガスの流量を比較的小さくすることによれば、蛍光部材22上に形成されるスパッタ膜を緻密なもの、具体的には柱状単位アスペクト比が大きくて、柱状単位間に微細空間が形成された多孔性のものとすることができると共に、高屈折率のものとすることができる。
また、スパッタ膜を高屈折率のものとするためには、不活性ガスと共に酸素ガスを導入することが好ましい。
具体的に、スパッタ装置を用い、フォトニック構造部形成層23Aとしてジルコニアのスパッタ膜を形成する場合においては、蛍光部材22とターゲット物質(ジルコニア)との間に印加される高周波電力は、450W以下であることが好ましく、更に好ましくは250W以下である。
また、例えばアルゴンガスなどの不活性ガスの流量は、1〜20sccmであることが好ましい。また、必要に応じて不活性ガスと共に導入される酸素ガスの流量は、0.1〜3sccmであることが好ましい。
この図の例において、フォトニック構造部形成層23Aは、ジルコニアのスパッタ膜よりなり、厚みが600nm程度(具体的には550nm)のものである。また、このフォトニック構造部形成層23Aは、スパッタ装置を用い、ジルコニアをターゲット物質とし、高周波電力が250W、不活性ガスとしてのアルゴンガスの流量が20sccm、酸素ガスの流量が0.5sccmの形成条件により、4時間かけて形成されたものである。このスパッタ膜の成膜中において、蛍光部材22の温度(表面温度)は100℃以下であった。
具体的には、蛍光部材22とターゲット物質との間に印加される高周波電圧を低くすると共に、不活性ガスの流量を小さくすることが好ましい。
印加する高周波電圧を小さくすることによれば、スパッタ膜の形成時における蛍光部材22の温度を低くすることができる。そのため、蛍光部材22上に形成されるスパッタ膜における再結晶化を抑制し、よって得られるスパッタ膜を、所期の柱状構造を有するものとすることができる。
不活性ガスの流量を比較的小さくすることによれば、蛍光部材22上に形成されるスパッタ膜を緻密なもの、具体的には柱状単位アスペクト比が大きくて、柱状単位間に微細空間が形成された多孔性のものとすることができると共に、高屈折率のものとすることができる。
また、スパッタ膜を高屈折率のものとするためには、不活性ガスと共に酸素ガスを導入することが好ましい。
具体的に、スパッタ装置を用い、フォトニック構造部形成層23Aとしてジルコニアのスパッタ膜を形成する場合においては、蛍光部材22とターゲット物質(ジルコニア)との間に印加される高周波電力は、450W以下であることが好ましく、更に好ましくは250W以下である。
また、例えばアルゴンガスなどの不活性ガスの流量は、1〜20sccmであることが好ましい。また、必要に応じて不活性ガスと共に導入される酸素ガスの流量は、0.1〜3sccmであることが好ましい。
この図の例において、フォトニック構造部形成層23Aは、ジルコニアのスパッタ膜よりなり、厚みが600nm程度(具体的には550nm)のものである。また、このフォトニック構造部形成層23Aは、スパッタ装置を用い、ジルコニアをターゲット物質とし、高周波電力が250W、不活性ガスとしてのアルゴンガスの流量が20sccm、酸素ガスの流量が0.5sccmの形成条件により、4時間かけて形成されたものである。このスパッタ膜の成膜中において、蛍光部材22の温度(表面温度)は100℃以下であった。
ナノインプリント法によってレジスト膜にパターンニングする手法としては、先ず、図5(c)に示すように、形成すべきフォトニック構造部23における周期構造41に対応するパターン(具体的には、複数の凹部52が配列されてなるパターン)を有するソフトモールド51を形成する。ソフトモールド51としては、例えば熱硬化型材料よりなるもの、または紫外線硬化型材料よりなるものなどが用いられる。
そして、ナノインプリント装置を用い、図5(d)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に形成されたレジスト膜にソフトモールド51を押し付けることにより、当該レジスト膜に、ソフトモールド51に形成されたパターンを転写する。これにより、図5(e)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に、周期460nmのレジストパターン膜27が形成される。
この図の例において、レジストパターン膜27は、フォトニック構造部形成層23Aの表面全面を覆うように形成されており、フォトニック構造部形成層23Aの表面に形成された薄膜部28Aと、この薄膜部28A上に形成された複数の凸部28Bとを有している。そして、この複数の凸部28Bが、形成すべきフォトニック構造部23の周期構造41を構成する凸部43に対応する一定の間隔(周期(凸部28B間の中心間距離)が460nmの等間隔)で配設されたものである。
そして、ナノインプリント装置を用い、図5(d)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に形成されたレジスト膜にソフトモールド51を押し付けることにより、当該レジスト膜に、ソフトモールド51に形成されたパターンを転写する。これにより、図5(e)に示すように、フォトニック構造部形成層23A上に、周期460nmのレジストパターン膜27が形成される。
この図の例において、レジストパターン膜27は、フォトニック構造部形成層23Aの表面全面を覆うように形成されており、フォトニック構造部形成層23Aの表面に形成された薄膜部28Aと、この薄膜部28A上に形成された複数の凸部28Bとを有している。そして、この複数の凸部28Bが、形成すべきフォトニック構造部23の周期構造41を構成する凸部43に対応する一定の間隔(周期(凸部28B間の中心間距離)が460nmの等間隔)で配設されたものである。
そして、表面にレジストパターン膜27が形成されたフォトニック構造部形成層23Aに対して、ドライエッチング処理を施すことにより、図5(f)に示すように、表面(図5(f)における上面)に周期構造41を有するフォトニック構造部23を得る。
ドライエッチング処理の手法の具体例としては、ICP(Inductive Coupling Plasma:誘電結合方式)エッチング法が挙げられる。
このICPエッチング法によって周期構造41を形成するための形成条件としては、当該周期構造41の形状(具体的には、例えば凸部43の形状および周期構造アスペクト比等)などに応じ、また必要に応じてフォトニック構造部形成層23Aの材質および柱状単位アスペクト比などを考慮して適宜に定められる。
具体的には、エッチングガスとしては、例えばシランガス(SiH4 )、四フッ化ケイ素ガス(SiF4 )、ジボランガス(B2 H6 )および三塩化ホウ素ガス(BCl3 )などが用いられる。また、高周波電力は、100〜700Wとされ、バイアス電力は、1〜30Wとされる。
この図の例において、フォトニック構造部23の周期構造41は、ICPエッチング法により、エッチングガスとして三塩化ホウ素ガス(BCl3 )を用い、高周波電力700W、バイアス電力が20Wの形成条件によって、処理時間350secで形成されたものである。
ドライエッチング処理の手法の具体例としては、ICP(Inductive Coupling Plasma:誘電結合方式)エッチング法が挙げられる。
このICPエッチング法によって周期構造41を形成するための形成条件としては、当該周期構造41の形状(具体的には、例えば凸部43の形状および周期構造アスペクト比等)などに応じ、また必要に応じてフォトニック構造部形成層23Aの材質および柱状単位アスペクト比などを考慮して適宜に定められる。
具体的には、エッチングガスとしては、例えばシランガス(SiH4 )、四フッ化ケイ素ガス(SiF4 )、ジボランガス(B2 H6 )および三塩化ホウ素ガス(BCl3 )などが用いられる。また、高周波電力は、100〜700Wとされ、バイアス電力は、1〜30Wとされる。
この図の例において、フォトニック構造部23の周期構造41は、ICPエッチング法により、エッチングガスとして三塩化ホウ素ガス(BCl3 )を用い、高周波電力700W、バイアス電力が20Wの形成条件によって、処理時間350secで形成されたものである。
このような蛍光光源装置10においては、波長変換部材21が蛍光部材22の表面にフォトニック構造部23が形成されたものであり、このフォトニック構造部23の表面によって励起光受光面および蛍光出射面が構成されている。そして、フォトニック構造部23の表面には、略円錐状の凸部25が二次元周期的に配列されてなる周期構造24が形成されている。そのため、蛍光部材22を構成する蛍光体から放射される蛍光を高い効率によって波長変換部材21の蛍光出射面であるフォトニック構造部23の表面から外部に取り出すことができる。しかも、波長変換部材21から蛍光を高い効率で取り出すことができるため、蛍光出射面から出射させることのできない蛍光によって蛍光部材22が加熱されることが抑制される。そのため、波長変換部材21における蛍光部材22の温度上昇が抑制されることから、蛍光体において温度消光が生じることに起因する蛍光光量の低減を抑制することができる。
しかも、フォトニック構造部23は、その材質が無機化合物(金属酸化物)であることから、励起光Lであるレーザ光の熱などの熱の影響によって形状が変形することがない。そのため、波長変換部材21においては、長期間にわたって蛍光出射面から蛍光を高い効率で取り出すことができる。
従って、蛍光光源装置10によれば、波長変換部材21の内部において生じる蛍光を有効に利用して高い効率で外部に出射することができることから、高い発光効率が得られる。
しかも、フォトニック構造部23は、その材質が無機化合物(金属酸化物)であることから、励起光Lであるレーザ光の熱などの熱の影響によって形状が変形することがない。そのため、波長変換部材21においては、長期間にわたって蛍光出射面から蛍光を高い効率で取り出すことができる。
従って、蛍光光源装置10によれば、波長変換部材21の内部において生じる蛍光を有効に利用して高い効率で外部に出射することができることから、高い発光効率が得られる。
図5(g)および図7(a)〜(c)に示されているように、フォトニック構造部23が薄膜部42と凸部43とを有する構成のものである場合には、フォトニック構造部23と蛍光部材22との間に高い密着性が得られるため、フォトニック構造部23と蛍光部材22との間に剥離が生じることが抑制される。
また、図5(g)、図7(b)および図7(c)に示されているように、凸部43の先端部43aが平坦である場合には、例えば蛍光光源装置の製造過程における構成部材の組み立て工程などにおいて、凸部43の先端部43aに、他の構成部材(例えば、ダイクロイックミラー16など)が接触することなどに起因して破損が生じることが抑制される。
また、図5(g)、図7(b)および図7(c)に示されているように、凸部43の先端部43aが平坦である場合には、例えば蛍光光源装置の製造過程における構成部材の組み立て工程などにおいて、凸部43の先端部43aに、他の構成部材(例えば、ダイクロイックミラー16など)が接触することなどに起因して破損が生じることが抑制される。
Claims (5)
- 励起光によって励起される蛍光体による波長変換部材を備えてなる蛍光光源装置であって、
前記波長変換部材は、蛍光体が含有されてなる蛍光部材と、当該蛍光部材上に形成されたフォトニック構造部とからなり、当該フォトニック構造部の表面が当該波長変換部材における蛍光出射面とされており、
前記フォトニック構造部は、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が前記蛍光部材から遠ざかる方向に伸びて形成された無機化合物層により構成されてなることを特徴とする蛍光光源装置。 - 前記フォトニック構造部は、前記無機化合物層の表面に、複数の凸部が二次元周期的に配列されてなる周期構造が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の蛍光光源装置。
- 前記無機化合物層を構成する柱状単位における、横幅に対する縦幅の比が1.3以上であることを特徴とする請求項1または請求項2の記載の蛍光光源装置。
- 励起光によって励起される蛍光体による波長変換部材を備えてなる蛍光光源装置を製造するための蛍光光源装置の製造方法であって、
蛍光体が含有されてなる蛍光部材上に、金属酸化物よりなる複数の柱状単位よりなり、当該複数の柱状単位の各々が当該蛍光部材から遠ざかる方向に伸びる無機化合物層を形成し、この無機化合物層の表面をエッチング処理する工程を経ることにより、当該蛍光部材と、表面がエッチング処理された当該無機化合物層により構成されてなるフォトニック構造部とからなる波長変換部材を得ることを特徴とする蛍光光源装置の製造方法。 - 前記無機化合物層は、スパッタ法により形成されたものであることを特徴とする請求項4に記載の蛍光光源装置の製造方法。
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