JP2015055445A - 超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法 - Google Patents

超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法 Download PDF

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Abstract

【課題】スケールの発生、及び装置外部へのスケール飛散を抑制することができる超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法を得る。
【解決手段】供給水容器10、供給水容器10の下部に儲けられ波長λの超音波を発生させる超音波素子20、供給水容器10の上部に設けられた蓋板30、供給水容器10内の供給水を蓋板30上の一端部に滴下させる滴下部40、滴下された供給水を一端部から他端部に誘導する供給水誘導機構部50、及び溢れた供給水を排出する余水排出機構部60を備え、供給水容器10の下部から蓋板30の中央部までの距離は、(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されており、蓋板30上に滴下される供給水の量は、超音波素子20から印加された超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量に設定されている。
【選択図】図1

Description

この発明は、超音波を利用して液体を霧化する超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法に関するものである。
従来、凹部を有する基部と、基部上に配置され、凹部に水を供給する水タンクと、凹部に設けられ、水を霧にする超音波振動子と、を有する超音波加湿装置が知られている。この従来の超音波加湿装置では、超音波振動子上にスケールが析出することを防止するために、凹部内の超音波振動子を可撓性保護カバーにより密封し、水タンクから供給された水と接触することを防止している(例えば、特許文献1参照)。
また、析出したスケールを除去するために、下部に振動器を有する発振器が設けられた水槽の底面が斜面となっており、底部斜面の一番低い部分には、不純物を除去する排出パイプが設けられている加湿器が従来から知られている(例えば、特許文献2参照)。
実用新案登録第3148436号公報 実開昭63−49426号公報
しかしながら、特許文献1に示された従来の超音波加湿装置では、超音波振動子以外の場所に発生するスケールを防ぐことができない。この結果、運転時間の経過とともに装置内部にスケールが付着し、装置外部へスケールが飛散してしまう。
また、特許文献2に示された従来の加湿器では、スケールを除去する排出パイプが設けられているが、スケールの発生自体を防ぐことはできない。この結果、運転時間の経過とともに底部にスケールが付着し、装置外部へスケールが飛散するおそれがある。
この発明は、上記の様な課題を解決するためになされたものであり、スケールの発生、及び装置外部へのスケール飛散を抑制することができる超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法を得ることを目的とする。
この発明による超音波式ミスト発生装置は、内部に供給水を流入させる給水口を有している供給水容器、供給水容器の下部に設けられ、波長λの超音波を発生させる超音波素子、供給水容器の上部に設けられ、供給水を介して超音波素子と対向する位置に配置されている蓋板、供給水容器に設けられ、給水口から供給水を供給水容器内に流入させることで、供給水容器に蓄えることのできる量を超過した供給水を蓋板上の一端部に滴下させる滴下部、滴下部から一端部に滴下された供給水を、蓋板上で一端部と対向する他端部に向かって一方方向に誘導する供給水誘導機構部、及び蓋板の他端部よりも下方に配置され、供給水誘導機構部に誘導され蓋板の他端部から溢れた供給水を回収して排出する余水排出機構部を備え、超音波素子が設けられた供給水容器の下部から蓋板の中央部までの距離は、(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されており、蓋板上に滴下部から滴下される供給水の量は、超音波素子から印加された超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量に設定されており、蓋板上でミスト化されずに残った供給水は、供給水誘導機構部に誘導されて余水排出機構部により回収されて排出される。
この発明によるミスト発生方法は、内部に供給水を流入させる給水口を有している供給水容器、供給水容器の下部に設けられ、波長λの超音波を発生させる超音波素子、供給水容器の上部に設けられ、供給水を介して超音波素子と対向する位置に配置されている蓋板、供給水容器に設けられ、給水口から供給水を供給水容器内に流入させることで、供給水容器に蓄えることのできる量を超過した供給水を蓋板上の一端部に滴下させる滴下部、滴下部から一端部に滴下された供給水を、蓋板上で一端部と対向する他端部に向かって一方方向に誘導する供給水誘導機構部、及び蓋板の他端部よりも下方に配置され、供給水誘導機構部に誘導され蓋板の他端部から溢れた供給水を回収して排出する余水排出機構部を備え、超音波素子が設けられた供給水容器の下部から蓋板の中央部までの距離は、(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されている超音波式ミスト発生装置を用いたミスト発生方法において、給水口から供給水容器内を経由して滴下部から滴下させる供給水の量を、超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量として供給制御を行う供給量制御ステップを有している。
この発明による超音波式ミスト発生装置、及びミスト発生方法によれば、超音波素子が設けられた供給水容器の下部から蓋板の中央部までの距離が(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されていることで、超音波による定在波の節が蓋板の位置にくるので蓋板の振動を抑えることができる。また、供給水誘導機構部によりミスト化されずに残った供給水が蓋板上を一方方向に流れ、余水排出機構部から排水されるので、供給水の成分が蓋板上で濃縮すること及び析出することを防ぐことができる。これらにより、スケールの発生、及び装置外部へのスケール飛散を抑制することができる。
この発明の実施の形態1によるミスト発生装置を示す断面図である。 図1のミスト発生装置を示す正面図である。 図1のミスト発生装置を内蔵した浴室空調機を示す構成図である。 この発明の実施の形態2によるミスト発生装置を示す断面図である。 この発明の実施の形態3によるミスト発生装置を示す断面図である。 図5のミスト発生装置を示す上面図である。 この発明の実施の形態4によるミスト発生装置を示す断面図である。 この発明の実施の形態5によるミスト発生装置を示す断面図である。 図8のミスト発生装置を示す上面図である。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1によるミスト発生装置を示す断面図である。また、図2は、図1のミスト発生装置を示す正面図である。図1及び図2を用いて超音波式ミスト発生装置1(以下の説明では、単に「ミスト発生装置1」と称す)について説明する。ミスト発生装置1は、供給水が内部に満たされている供給水容器10と、供給水容器10の下部に設けられた超音波素子20と、供給水容器10の上部に設けられた蓋板30と、蓋板30上に供給水を滴下する滴下部40と、蓋板30上の供給水を一方方向に誘導する供給水誘導機構部50と、蓋板30上から溢れた供給水を排出する余水排出機構部60とを有している。
供給水容器10は、底板10aと、底板10aを囲む壁板10bとで形成されている。この例では、断面矩形の底板10aと、底板10aの4辺を囲む断面矩形の4枚の壁板10bとが、供給水容器10を形成している。従って、供給水容器10は、断面矩形の容器になっている。また、供給水容器10は、下部に給水口11を有している。供給水容器10内は、給水口11から流入された供給水(この例では、水道水)で満たされている。この例では、給水口11が、供給水容器10の底板10aに設けられている。また、供給水容器10の底板10aには、超音波素子20が取り付けられている。
超音波素子20は、供給水と直接触れないように供給水容器10の外側に取り付けられている。また、超音波素子20は、図示しない電源によって発振されるようになっている。超音波素子20の振動により、波長λの超音波が発生する。発生した超音波が供給水に印加されることで、供給水容器10の底板10aに垂直な方向に波長λの定在波ができる。超音波素子20には、フェライト、または電圧素子(例えば、チタン酸ジルコン酸鉛)が用いられている。
超音波素子20による発振周波数fは、特に限定されるものではないが、50kHz〜10MHzのものを用いるとよい。発振周波数fと波長λとの関係は、下式(1)となっている。ただし、v:水中の音速(m/s)である。
Figure 2015055445
超音波素子20の形状は、円形状、または多角形状等の供給水容器10の形状に応じて適宜決定する。この例では、供給水容器10が断面矩形の容器であることから、超音波素子20も断面矩形の板状のものを用いている。一例として、超音波素子20の断面が、100mm×100mmの正方形のものを用いている。超音波素子20と供給水を介して対向する位置には、蓋板30が設けられている。
蓋板30は、供給水容器10の上部を覆う蓋になっている。これにより、蓋板30の下面は、供給水と接している。蓋板30は、供給水容器10に合わせて断面矩形の板状のものが用いられている。蓋板30は、超音波素子20が設けられた供給水容器10の下部から蓋板30の中央部までの距離Hが下式(2)となるような位置に配置されている。
Figure 2015055445
上式(1)及び(2)の関係から、任意のnを決定することができる。距離Hは、ミスト発生装置1全体の大きさ(高さ)の制約を考慮して決定するとよいが、5〜50mm程度にするとよい。
このような距離Hに設定することによって、超音波素子20を振動させて供給水に超音波を印加したときにできる定在波の節にあたる部分が蓋板30の中央部の位置となり、蓋板30の振動を抑えることができる。
また、蓋板30の厚みSは、λ/2よりも小さく(薄く)なるように設定されている。これは、定在波の腹にあたる部分に蓋板30がくることにより、蓋板30の振動が大きくなることを防ぐためである。蓋板30の厚みSをλ/2よりも小さくすることで、超音波素子20から蓋板30の中央部までの距離Hを上式(1)で設定したとき、蓋板30が定在波の腹の部分とラップすることを避けることができる。このような寸法設定を行うにより、蓋板30が定在波の腹の位置にくることはないので、蓋板30の振動が抑えられる。
例えば、超音波素子20により発振周波数f=100kHzの超音波を供給水に印加した場合、水中での音速v=約1500m/sとすると、波長λは約15mmである。従って、蓋板30の厚みSは、7.5mmよりも小さくするとよい。蓋板30の厚みSは、λ/2よりも小さくすればするほど、蓋板30の振動は小さくなるので、蓋板30の厚みSは、λ/2よりも小さいほど好ましい。
ここで、季節変動による供給水温の変化を考慮した場合の厚みSの設定方法について説明する。例えば、上述した発振周波数f=100kHzの超音波素子20を用いた場合、供給水の温度T(例えば、7〜27℃)に対する水中の音速v(1435〜1502m/s)から、n=5とすると、距離Hは、32.3〜33.8mmの間で決定される。このとき、供給水温による距離Hの変動幅は、1.5mmとなっている。
従って、季節変動による供給水温の変化を考慮した蓋板30の厚みSは、蓋板30の厚みS=7.5mmから距離Hの変動幅1.5mmを引いた6mmよりも小さくなるように決定する。即ち、季節変動による供給水温の変化を考慮した蓋板30の厚みSは、(λ/2−Hの変動幅)よりも小さくなるように設定される。このように蓋板30の厚みSを設定することで、供給水温の季節変動により距離Hが変化しても、蓋板30が定在波の腹の位置にくることを避けることができる。これにより、蓋板30の振動が抑えられる。
これらのように、蓋板30の厚みSを決定し、蓋板30が、定在波の腹の位置にこないようにすることで、蓋板30の振動を抑えることができる。蓋板30の素材は、特に限定されるものではないが、超音波素子20を用いたミスト発生装置1で一般的に用いられる材料が用いられている。蓋板上面30a(蓋板30上)には、滴下部40から水滴状に供給水が滴下される。
滴下部40は、供給水容器10の側面上部に設けられ、給水口11から供給水を供給水容器10内に流入させることで、供給水容器10に蓄えることのできる量を超過した供給水を蓋板上面30aの一端部に滴下できる構造になっている。この例では、滴下部40は、供給水容器10の側面から蓋板上面30aよりも上方に延ばされたパイプ部41と、パイプ部41の先端が蓋板上面30aの一端部に向かって略U字状に曲げられた滴下口42とを有している。
パイプ部41は、図2に示すように、壁板10bの長手方向(図2の左右方向)に沿って設けられている。また、パイプ部41は、蓋板30で塞がれた供給水容器10内から溢れた供給水を通す。滴下口42は、パイプ部41を通ってきた供給水を蓋板上面30aの一端部側(図1の右側)に滴下する。蓋板上面30aの一端部に滴下された供給水は、蓋板上面30aに水膜43を形成する。
水膜43の一部は、超音波素子20から印加された超音波によりミスト化される。超音波を印加したことによる定在波の節の位置が蓋板30の中央部の位置にあるので、蓋板30の中央部から水膜43の表層までの距離がλ/4以下であれば、蓋板上面30aから水膜43の表層にいくにつれて定在波の腹に近付くため、超音波による振動が大きくなり、ミスト発生が多くなる。即ち、蓋板上面30a近傍でのミスト発生は少なく、水膜43の表層にいくにつれてミスト発生が多くなる。
滴下部40から蓋板上面30aに供給される供給水の滴下流量Vは、超音波素子20のミスト発生能力(速度)Q(ml/hr)よりも大きく設定されている(つまり、V>Q)。即ち、蓋板上面30aに滴下部40から滴下される供給水の量は、超音波素子20から印加された超音波がミスト化できる供給水の量よりも多くなっている。
滴下流量Vとミスト発生能力Qとの量論関係は、例えば、Q=0.6〜0.9V程度にするとよい。一例としては、ミスト発生能力Q=500ml/hrを得られる超音波素子20を用いた場合、滴下流量V=700ml/hr程度(すなわち、Q=0.71V程度)にするとよい。このとき、蓋板上面30aでミスト発生に使われずに余った残り水(約200ml/hr)は、蓋板上面30aに溜まらないように供給水誘導機構部50によって余水排出機構部60へ誘導される。
この例では、供給水誘導機構部50が、供給水容器10、超音波素子20、及び蓋板30を一体とした筐体に角度を設ける傾斜用支持台51と、蓋板30側面部から供給水がこぼれないように蓋板30に設けられた一対の誘導板52とを有している。
傾斜用支持台51は、滴下部40が設けられている蓋板上面30aの一端部側(図1の右側)に設けられている。これにより、滴下部40が設けられている蓋板上面30aの一端部側を筐体の一番高い位置としている。従って、筐体には、角度が設けられており、蓋板上面30aの一端部に滴下されミスト化されずに余った残り水(以下、単に残り水とする)は、蓋板上面30aの一端部側(上方)から蓋板30上で蓋板上面30aの一端部と対向する蓋板上面30aの他端部側(下方、図1の左側)に向かって流れる。筐体に設けられた角度は、例えば、1〜15度に決定するとよい。
誘導板52は、図2に示すように、蓋板上面30aの他端部以外から残り水が溢れるのを防止するように蓋板30の側面両端部にそれぞれ設けられている。これらにより、残り水は、蓋板上面30aの一端部から他端部(上方から下方)に向かって一方方向に誘導されている。また、蓋板上面30aの下方には、蓋板上面30aの他端部から溢れた残り水を回収して排出する余水排出機構部60が設けられている。
余水排出機構部60は、残り水を受け取るドレン部61と、ドレン部61に接続され、残り水を排水する排出パイプ62とを有している。ドレン部61は、蓋板上面30aの他端部よりも下方に配置されている。ドレン部61は、蓋板30から溢れた残り水を一時的に貯留し、排出パイプ62へ残り水を送る。排出パイプ62は、ドレン部61を通ってきた残り水を外部へ排水する。
流速に関するマニングの式である下式(3)によれば、筐体の傾き(水面勾配i)が1〜5度程度でも充分な排水速度を得られることが分かる。ただし、V:流速(m/s)、n:粗度係数、R:水理学的平均水深(m)、i:水面勾配(m/m)である。
Figure 2015055445
従って、筐体の角度を1〜5度とし、蓋板上面30aに滴下流量V(=700ml/h)の水を滴下したときでも、ミスト発生能力Q(=500ml/hr)の速度で水がミスト化され、残りの水200ml/hrを速やかに排水することができる。
次に、ミスト発生装置1の動作について説明する。ミスト発生装置1の稼働時、供給水容器10内には、給水口11から常に新鮮な供給水が流れ込んでいる(供給水供給ステップ)。これに伴い、供給水容器10から溢れた供給水は、パイプ部41を通って滴下口42から傾斜が設けられた蓋板30上へ水滴状に滴下される(滴下ステップ)。蓋板30上へ滴下された供給水は、蓋板上面30aへ落ちて水膜43を形成し、蓋板上面30aを下方に流れ落ちる。
このとき、蓋板上面30aに滴下される供給水の量は、超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量として供給制御が行われている(供給量制御ステップ)。また、超音波素子20により超音波が供給水に印加されている。これらにより、蓋板上面30aで水膜43を形成した供給水の一部がミスト化される。ミスト化されずに余った残り水は、下方へ流れてドレン部61へ落ちる(残り水誘導ステップ)。ドレン部61へ流れ落ちた残り水は、ドレン部61から排出パイプ62を通って排水される(余水排出ステップ)。ミスト発生装置1の稼働時は、この動作を繰り返し行うことで、ミストを発生させている。
次に、ミスト発生装置1を使用した一例について説明する。図3は、図1のミスト発生装置1を内蔵した浴室空調機を示す構成図である。図3において、浴室空調機70は、浴室の天井71の裏側(天井裏)に設置されている。また、浴室空調機70は、ミスト発生装置1と、ミスト発生装置1の近傍に配置された送風機72と、浴室内にミストを放出する放出口73とを有している。ミスト発生装置1で発生したミストは、送風機72により拡散され、放出口73を通して浴室に供給される。
なお、図3に示した一例では、浴室空調機70に送風機72を設けているが、送風機72を設けず、自然拡散としてもよい。
また、図3に示した一例では、浴室空調機70を、天井71の裏側に設置しているが、天井71付近の壁面でもよい。
このように、本実施の形態1におけるミスト発生装置1では、超音波素子20と蓋板30の中央部との距離Hが(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)と設定されている。これにより、超音波が印加されたときにできる定在波の節の位置が、蓋板30の中央部の位置となっているので、蓋板30の振動を抑えることができる。蓋板30の振動を抑えることができるので、スケール発生に伴うミスト発生装置1外部へのスケール飛散を抑制することができる。
なお、実際のミスト発生装置1における距離Hは、上記の式(数2)で得られる値に対して、最大で波長λの±10%以内の誤差(ずれ)であれば、概ね上記のミスト発生機能を実現することができる。また、蓋板30の振動を抑える作用においては、上記の式(数2)で得られる距離Hの値に対して、最大で波長λの±5%以内であれば実用に適する。これらは、後述する他の実施の形態においても共通する事項である。
また、滴下流量Vをミスト発生能力Qよりも大きく設定しているので、滴下された全ての供給水がミスト発生に用いられることを防止することができる。さらに、筐体には、角度が設けられているので、ミスト化されずに余った残り水は、傾斜が設けられた蓋板30の上方から下方に流れてドレン部61へ速やかに排出することができる。残り水が蓋板30上から速やかに排出されるので、供給水(水道水)成分(スケールの主成分であるカルシウムやマグネシウム、イオン状シリカなど)の過剰な濃縮を抑制することができる。また、ミスト発生装置稼働時、蓋板30上には、滴下部40から常に供給水が滴下されているので、供給水は、蓋板30上に溜まることなく循環することができる。これらにより、蓋板30上に供給水成分が析出することを防止できるので、スケール発生を抑制することができる。
また、蓋板30の厚みSを、λ/2よりも小さく設定しているので、蓋板30の中央部を超音波素子20から距離Hの位置に配置したとき、蓋板30が定在波の腹の位置にくることを避けることができる。これにより、蓋板30の振動をさらに抑えることができる。蓋板30の振動をさらに抑えることができるので、スケール発生に伴うミスト発生装置1外部へのスケール飛散をさらに抑制することができる。
また、蓋板30の厚みSから供給水温の季節変動に伴うHの変動幅を引いて蓋板30の厚みSを設定すると、供給水温が季節変動しても、蓋板30が定在波の腹の位置にくることを避けることができる。これにより、供給水温が季節変動しても常に、スケール発生に伴うミスト発生装置1外部へのスケール飛散を抑制することができる。
また、ミスト発生装置1の運転を長時間続けると水温上昇がみられることがあるが、供給水容器10内は供給水で満たされており、給水口11から常に新鮮な供給水が流れ込んでいるので、供給水容器10内の供給水の温度上昇を抑えることができる。供給水の温度上昇を抑えることができるので、水温変化によっておこる音速の変化(言い換えると、λの変化)を抑えることができる。これにより、継続して、蓋板30近傍のミスト発生及びスケールの発生を抑制し、スケール発生に伴うミスト発生装置1外部へのスケール飛散を抑制することができる。
また、供給水容器10と超音波素子20とを固定している接着剤が、供給水の温度上昇によりダメージを受けることがあるが、供給水の温度上昇を抑えることができるので、接着剤へのダメージも抑制することができる。
以上のように、実施の形態1によれば、ミスト発生装置は、給水口を有する供給水容器と、供給水容器の下部に設けられた超音波素子と、超音波素子と対向して供給水容器の上部に設けられた蓋板とを有している。また、超音波素子から蓋板までの距離は、2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されている。このような構成を備えることで、超音波による定在波の節が蓋板の位置にくるので蓋板の振動を抑えることができる。この結果、スケール発生に伴うミスト発生装置外部へのスケール飛散を防止することができる。
また、ミスト発生装置は、供給水容器、超音波素子、及び蓋板の他に、供給水容器に設けられ蓋板に供給水を滴下する滴下部と、残り水を一方方向に誘導する供給水誘導機構部と、蓋板上から溢れた残り水を排出する余水排出機構部とを有している。このような構成を備えることで、蓋板上に残り水が溜まることなく流れることができる。この結果、スケールの発生を抑制することができる。これらの結果より、スケールの発生、及び装置外部へのスケール飛散を抑制することができる。
なお、上記実施の形態では、季節変動による供給水温の変化のみを考慮した蓋板30の厚みSの設定方法についてのみ説明したが、超音波を印加したことによる供給水の温度上昇も考慮して蓋板30の厚みSを設定してもよい。超音波を印加したことによる供給水の温度上昇を考慮した蓋板30の厚みSは、季節変動による供給水温の変化を考慮した蓋板30の厚みSの設定と同様に、距離Hの変動幅を割り出し、蓋板30の厚みS=λ/2から季節変動による距離Hの変動幅と、超音波印加による距離Hの変動幅とを引いて求める。
実施の形態2.
先の実施の形態1では、滴下部40が、供給水容器10の側面から上方に延ばされたパイプ部41と、パイプ部41の先端が蓋板30に向かって略U字状に曲げられた滴下口42とで構成されている例について説明した。これに対して、本実施の形態2では、滴下部40が、供給水容器10の壁板10bと蓋板30とで構成された堰状になっている例について説明する。
図4は、この発明の実施の形態2によるミスト発生装置1を示す断面図である。図4に示すように、蓋板上面30aの一端部に相当する断面矩形の蓋板30の一辺は、断面矩形の供給水容器10の一辺全体から離れており、供給水容器10は、蓋板30で完全に覆われていない。従って、供給水容器10の壁板10bと蓋板30との間には、開放部44が形成されている。開放部44は、筐体を傾斜させたとき、最上部に位置する部分に設けられている。
また、供給水容器10から溢れた供給水が開放部44から蓋板30に確実に流れるように、開放部44を介して蓋板上面30aの一端部と対向する供給水容器10の壁板10bの上面の位置は、蓋板上面30aの高さよりも高い位置に配置されている。これにより、滴下部40は、開放部44と蓋板30と壁板10bとを有しており、蓋板上面30aの一端部と壁板10bとで堰状になっている。
給水口11から供給水容器10内に満たされた供給水は、開放部44から蓋板上面30aへ流れ出て、先の実施の形態1と同様に、蓋板上面30aに水膜43を形成する。その他の構成は、先の実施の形態1と同様である。
以上のように、実施の形態2におけるミスト発生装置では、先の実施の形態1の滴下部に、開放部と蓋板と壁板とを有しており、蓋板の一端部と壁板とで堰状になったものを用いている。このような構成を備えることで、先の実施の形態1と同様に、スケールの発生を抑制し、スケール発生に伴うミスト発生装置外部へのスケール飛散を抑制することができる。
実施の形態3.
先の実施の形態1では、供給水容器10の壁板10bに直接蓋板30が取り付けられているが、本実施の形態3では、供給水容器10の壁板10bと蓋板30との間に除震構造が設けられている例について説明する。
図5は、この発明の実施の形態3によるミスト発生装置1を示す断面図である。図6は、図5のミスト発生装置1を示す上面図である。図5及び図6を用いて、除震構造80について説明する。図に示すように、除震構造80は、供給水容器10の壁面と蓋板30の側面との間に設けられている。また、除震構造80は、図6に示すように、供給水容器10の全周に設けられている。
除震構造80の材料には、一般加硫ゴム、天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、またはクロロブレンゴムのような防振ゴムを用いることができる。また、除震構造80の形状としては、Oリング状のものまたはシール材状のものを使用することができる。その他の構成は、先の実施の形態1と同様である。
以上のように、実施の形態3におけるミスト発生装置では、先の実施の形態1の構成に加えて、除震構造を有している。このような構成を備えることで、蓋板の振動をさらに低減することができるので、スケール発生に伴うミスト発生装置外部へのスケール飛散を抑制する効果をさらに大きく得ることができる。
実施の形態4.
先の実施の形態1では、供給水を冷却する構造を備えていないが、本実施の形態4では、冷却構造90を備えた構造について説明する。
図7は、この発明の実施の形態4によるミスト発生装置1を示す断面図である。図7において、冷却構造90は、供給水温度を測定する温度センサ91と、温度センサ91からの情報を受けて供給水を冷却するか否かを制御する制御盤92と、制御盤92からの情報により供給水を冷却する冷却機93を有している。
温度センサ91は、供給水容器10内に設けられ、供給水容器10中を流れる供給水の水温をモニタしている。温度センサ91には、これに限るものではないが、例えば、熱電対などが用いられる。
制御盤92は、温度センサ91によってモニタされている水温が設定された温度よりも上昇したことを感知すると、供給水を冷却する指令を冷却機93へ送る。冷却機93は、給水口11に設けられており、制御盤92から供給水を冷却する指令が送られている間、供給水を冷却する。冷却機93は、これに限るものではないが、例えば、チラーなどが用いられる。その他の構成は、先の実施の形態1と同様である。
以上のように、実施の形態4におけるミスト発生装置では、先の実施の形態1の構成に加えて、冷却構造を有している。このような構成を備えることで、供給水の温度上昇をさらに抑制することができ、供給水容器と超音波素子とを接着する接着剤へのダメージも抑制する効果をさらに大きく得ることができる。
実施の形態5.
先の実施の形態1では、供給水誘導機構部50が、筐体を傾けることで供給水を下方に向かって流し、かつ、蓋板30側面部から供給水がこぼれないように蓋板30の両端部に誘導板52を設けた構成になっている。これに対して、本実施の形態5では、送風機構により供給水を余水排出機構部60へ誘導する例について説明する。
図8は、この発明の実施の形態5によるミスト発生装置1を示す断面図である。また、図9は、図8のミスト発生装置1を示す上面図である。図8及び図9を用いて、送風機構53について説明する。図において、供給水容器10、超音波素子20、及び蓋板30を一体とした筐体は傾斜しておらず、蓋板上面30aの一端部側(図8の右側)に、送風機構53が配置されている。
送風機構53は、送風機本体54と、蓋板上面30aを沿うように風を送る送風口55とを有している。送風機本体54は送風口55に風を送る。送風口55は、送風機本体54に設けられており、送風機本体54から送られてきた風を送風機構53外へ出す。送風口55は、送風口55から出された風が、蓋板上面30aの一端部から他端部に向かって沿うように送風機本体54に設けられている。送風口55から出された風は、蓋板上面30aの一端部側から蓋板30を介して送風機構53と反対側に配置されている余水排出機構部60側(図8の右側から左側)へ流れている。
また、先の実施の形態1〜4と同様に、残り水が蓋板30側面部からこぼれないように、蓋板30の側面両端部には、一対の誘導板52が設けられている。即ち、供給水誘導機構部50は、送風機構53と、一対の誘導板52とを有している。
送風機構53には、特に限定されるものではないが、例えば、軸流ファン、遠心ファン、斜流ファン、横流ファンなどが用いられる。送風機構53の大きさ・形状は、特に限定されるものではないが、供給水容器10の大きさ・形状に応じて適宜決定することができる。この例では、断面矩形の供給水容器10を用いているので、送風口55の巾を供給水容器10の幅程度になるよう構成すればよい。これにより、蓋板30全体に送風され、水はけを良くすることができる。
送風量についても、特に限定されるものではないが、送風口55付近の風速が1〜10m/s程度になるよう構成すれば良い。その他の構成は、実施の形態3と同様である。
以上のように、実施の形態5におけるミスト発生装置では、先の実施の形態3の構成の供給水誘導機構部に送風機構を適用している。このような構成を備えることで、蓋板上に滴下された供給水がドレン部へ流れ落ちるようになるので、筐体に角度を設けずにミスト化されなかった水を排水できる。これにより、実施の形態1同様に、スケールの発生を抑制し、スケール発生に伴うミスト発生装置外部へのスケール飛散を抑制する効果を得ることができる。
なお、各上記実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、及び配置等は、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれに限定するものではなく、実施例に過ぎない。
1 ミスト発生装置(超音波式ミスト発生装置)、10 供給水容器、11 給水口、20 超音波素子、30 蓋板、40 滴下部、41 パイプ部、42 滴下口、50 供給水誘導機構部、51 傾斜用支持台、52 誘導板、53 送風機構、60 余水排出機構部、80 除震構造、90 冷却構造、91 温度センサ、93 冷却機。

Claims (10)

  1. 内部に供給水を流入させる給水口を有している供給水容器、
    上記供給水容器の下部に設けられ、波長λの超音波を発生させる超音波素子、
    上記供給水容器の上部に設けられ、上記供給水を介して上記超音波素子と対向する位置に配置されている蓋板、
    上記供給水容器に設けられ、上記給水口から上記供給水を上記供給水容器内に流入させることで、上記供給水容器に蓄えることのできる量を超過した供給水を上記蓋板上の一端部に滴下させる滴下部、
    上記滴下部から上記一端部に滴下された上記供給水を、上記蓋板上で上記一端部と対向する他端部に向かって一方方向に誘導する供給水誘導機構部、及び
    上記蓋板の上記他端部よりも下方に配置され、上記供給水誘導機構部に誘導され上記蓋板の上記他端部から溢れた上記供給水を回収して排出する余水排出機構部
    を備え、
    上記超音波素子が設けられた上記供給水容器の下部から上記蓋板の中央部までの距離は、(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されており、
    上記蓋板上に上記滴下部から滴下される供給水の量は、上記超音波素子から印加された上記超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量に設定されており、
    上記蓋板上でミスト化されずに残った供給水は、上記供給水誘導機構部に誘導されて上記余水排出機構部により回収されて排出される
    超音波式ミスト発生装置。
  2. 上記供給水誘導機構部は、上記供給水容器と上記超音波素子と上記蓋板とを一体とした筐体に対して、上記蓋板上の上記一端部から上記他端部に向かって上記供給水を一方方向に誘導できるように角度を設ける傾斜用支持台と、上記蓋板上の上記一端部に滴下された上記供給水が上記他端部以外から溢れることを防止するように上記筐体側面部に設けられた誘導板とを有している請求項1に記載の超音波式ミスト発生装置。
  3. 上記供給水誘導機構部は、上記蓋板上の上記一端部から上記他端部に向かって上記蓋板上を沿うように風を送る送風機構と、上記蓋板上の上記一端部に滴下された上記供給水が上記他端部以外から溢れることを防止するように上記筐体側面部に設けられた誘導板とを有している請求項1に記載の超音波式ミスト発生装置。
  4. ミスト発生時、上記供給水容器内には、上記給水口から常に供給水が流れ込み、上記滴下部から上記蓋板上の上記一端部に供給水が滴下されている請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  5. 上記蓋板の厚さは、λ/2よりも薄く設定されている請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  6. 上記蓋板の側面と上記供給水容器との間には、除震構造が設けられている請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  7. 上記供給水容器内に設けられ、供給水温度を測定する温度センサと、上記給水口に設けられ、上記温度センサにより測定された上記供給水温度が、設定温度よりも上昇している場合には、上記供給水の冷却を行う冷却機とを有する冷却構造
    をさらに備えた請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  8. 上記滴下部は、上記供給水容器に設けられ上記蓋板よりも上方に延びるパイプ部と、上記パイプ部の先端部が上記蓋板の上記一端部に向かって曲げられている滴下口とを有している請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  9. 上記滴下部は、上記蓋板の上記一端部と上記供給水容器とで形成された堰状になっている請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の超音波式ミスト発生装置。
  10. 内部に供給水を流入させる給水口を有している供給水容器、
    上記供給水容器の下部に設けられ、波長λの超音波を発生させる超音波素子、
    上記供給水容器の上部に設けられ、上記供給水を介して上記超音波素子と対向する位置に配置されている蓋板、
    上記供給水容器に設けられ、上記給水口から上記供給水を上記供給水容器内に流入させることで、上記供給水容器に蓄えることのできる量を超過した供給水を上記蓋板上の一端部に滴下させる滴下部、
    上記滴下部から上記一端部に滴下された上記供給水を、上記蓋板上で上記一端部と対向する他端部に向かって一方方向に誘導する供給水誘導機構部、及び
    上記蓋板の上記他端部よりも下方に配置され、上記供給水誘導機構部に誘導され上記蓋板の上記他端部から溢れた上記供給水を回収して排出する余水排出機構部
    を備え、
    上記超音波素子が設けられた上記供給水容器の下部から上記蓋板の中央部までの距離は、(2n−1)・λ/4、(nは、1以上の整数)に設定されている超音波式ミスト発生装置を用いたミスト発生方法において、
    上記給水口から上記供給水容器内を経由して上記滴下部から滴下させる供給水の量を、超音波によりミスト化できる供給水の量に相当するミスト発生能力よりも多い量として供給制御を行う供給量制御ステップ
    を有しているミスト発生方法。
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