JP2015049949A - 有機el表示装置及び有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機EL表示装置は、マトリクス状に配置された表示領域内の画素毎に配置され、導電材料からなり、画素毎に電位が制御される下部電極(304)と、表示領域の全体を覆うように配置され、導電材料からなる上部電極(307)と、下部電極及び上部電極の間に配置され、発光する有機材料からなる発光層を含む複数の層からなる第1有機層(306)と、表示領域内の画素間に延びる金属配線(284)と、第1有機層と同じ複数の層からなり、金属配線の一部に接触し、第1有機層とは非接触である第2有機層(285)と、を備え、上部電極は、第2有機層の周囲で金属配線と接触している。
【選択図】図4
Description
Claims (8)
- マトリクス状に配置された表示領域内の画素毎に配置され、導電材料からなり、前記画素毎に電位が制御される下部電極と、
前記表示領域の全体を覆うように配置され、導電材料からなる上部電極と、
前記下部電極及び前記上部電極の間に配置され、発光する有機材料からなる発光層を含む複数の層からなる第1有機層と、
前記表示領域内の前記画素間に延びる金属配線と、
前記第1有機層と同じ複数の層からなり、前記金属配線の一部に接触し、前記第1有機層とは非接触である第2有機層と、を備え、
前記上部電極は、前記第2有機層の周囲で前記金属配線と接触している、ことを特徴とする有機EL表示装置。 - 請求項1に記載の有機EL表示装置であって、
基板上に形成された、前記金属配線及び薄膜トランジスタを含む回路を覆う有機材料からなる平坦化膜と、
前記平坦化膜上に形成された、前記下部電極、前記第1有機層及び前記上部電極のうち、前記下部電極の端部を覆い、前記画素の間を電気的に絶縁する絶縁バンクと、を更に備え、
前記上部電極は、前記平坦化膜及び前記絶縁バンクに開けられたコンタクトホールを介して前記金属配線と接触している、ことを特徴とする有機EL表示装置。 - 請求項1又は2に記載の有機EL表示装置であって、
前記上部電極は、前記金属配線に沿って前記表示領域内で連続的に接している、ことを特徴とする有機EL表示装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機EL表示装置であって、
前記金属配線は、前記表示領域内の前記画素の各々を囲うように縦横に延びている、ことを特徴とする有機EL表示装置。 - 請求項1乃至4に記載の有機EL表示装置であって、
前記第1有機層は、前記表示領域内の全ての前記画素において同一の発光層を有している、ことを特徴とする有機EL表示装置。 - 画素がマトリクス状の配置される表示領域において、前記画素間に金属配線を形成する金属配線形成工程と、
前記金属配線上で前記表示領域を覆うように、絶縁材料により絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記絶縁膜に対して、前記金属配線の少なくとも一部を露出させるコンタクトホールを形成するコンタクトホール形成工程と、
前記絶縁膜上に配置され、発光する有機材料からなる発光層を含む複数の層からなる第1有機層、及び前記コンタクトホールの底部に配置され、前記第1有機層と不連続な第2有機層を同時に形成する有機層形成工程と、
前記有機層形成工程の後、導電材料からなり、前記金属配線と接触し、前記表示領域全体を覆う上部電極を形成する上部電極形成工程と、を備える有機EL表示装置の製造方法。 - 請求項6に記載の有機EL表示装置の製造方法であって、
前記金属配線形成工程の後、前記金属配線上に有機材料により平坦化膜を形成する平坦化膜形成工程と、
前記平坦化膜に対して、前記金属配線を露出させるコンタクトホールを形成する平坦化膜コンタクトホール形成工程と、
前記平坦化膜上に前記画素毎に下部電極を形成する下部電極形成工程と、を更に備え、
前記絶縁膜形成工程において形成される絶縁膜は、前記画素の間を電気的に絶縁する絶縁バンクであり、
前記コンタクトホール形成工程は、前記絶縁バンクに対して行う絶縁バンクコンタクトホール形成工程である、ことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 請求項6又は7に記載された有機EL表示装置の製造方法であって、
前記有機層形成工程は、蒸着法により有機層を形成する工程であり、
前記上部電極形成工程は、スパッタリング法により上部電極を形成する工程である、ことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
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