JP2015037123A - リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ装置は、開口が形成され、且つ、開口を規定する第1縁および第2縁を有する遮蔽部材を含み、基板の周辺領域に対して、第1縁および第2縁の一方を含む遮蔽部材の遮蔽領域により基板を遮蔽する遮蔽部と、遮蔽部材を回転させる回転機構と、遮蔽部材を並進させる並進機構とを含み、遮蔽部材による基板の遮蔽領域を変更するための駆動機構と、第1縁を含む遮蔽領域を用いて、回転機構の回転範囲の一端の位置に対応する周辺ショット領域から回転範囲の他端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第1のパターン形成を順次行った後、第2縁を含む遮蔽領域を用いて、他端の位置に対応する周辺ショット領域から一端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第2のパターン形成を順次行うように、駆動機構を制御する制御部と、を有する。
【選択図】 図4
Description
開口が形成され、且つ、前記開口を規定する第1縁および第2縁を有する遮蔽部材を含み、基板の周辺領域に対して、前記第1縁および前記第2縁の一方を含む前記遮蔽部材の遮蔽領域により前記基板を遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部材を回転させる回転機構と、前記遮蔽部材を並進させる並進機構とを含み、前記遮蔽部材による前記基板の遮蔽領域を変更するための駆動機構と、
前記第1縁を含む前記遮蔽領域を用いて、前記回転機構の回転範囲の一端の位置に対応する周辺ショット領域から前記回転範囲の他端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第1のパターン形成を順次行った後、前記第2縁を含む前記遮蔽領域を用いて、前記他端の位置に対応する周辺ショット領域から前記一端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第2のパターン形成を順次行うように、前記駆動機構を制御する制御部と、
を有することを特徴とする。
物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子、記録媒体、光学素子等)の製造方法は、上述したリソグラフィ装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、当該製造方法は、パターンを転写された基板に対して現像およびエッチングの少なくとも一方を行う工程を含みうる。当該製造方法は、パターンを転写された基板を加工する他の処理を含みうる。以上、実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
Claims (12)
- 基板上の感光材にパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
開口が形成され、且つ、前記開口を規定する第1縁および第2縁を有する遮蔽部材を含み、基板の周辺領域に対して、前記第1縁および前記第2縁の一方を含む前記遮蔽部材の遮蔽領域により前記基板を遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部材を回転させる回転機構と、前記遮蔽部材を並進させる並進機構とを含み、前記遮蔽部材による前記基板の遮蔽領域を変更するための駆動機構と、
前記第1縁を含む前記遮蔽領域を用いて、前記回転機構の回転範囲の一端の位置に対応する周辺ショット領域から前記回転範囲の他端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第1のパターン形成を順次行った後、前記第2縁を含む前記遮蔽領域を用いて、前記他端の位置に対応する周辺ショット領域から前記一端の位置に対応する周辺ショット領域まで周辺ショット領域に第2のパターン形成を順次行うように、前記駆動機構を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1のパターン形成と前記第2のパターン形成との間における前記遮蔽部材の回転量は90度以下であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板に関するレシピの情報に基づいて、前記基板上の周辺ショット領域を特定することを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板に関するレシピの情報に基づいて、前記基板上のショット領域に対するパターン形成の順序を決定し、決定した順序に従って前記駆動機構を制御することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 複数の前記パターン形成の順序の情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記レシピの情報に基づいて、前記記憶部に記憶された情報から前記パターン形成の順序を決定することを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 原版を照明するための照明系を有し、
前記回転機構は、前記照明系の光軸に平行な軸に関して前記遮蔽部材を回転させ、
前記並進機構は、前記光軸に垂直な面に沿って前記遮蔽部材を並進させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記回転機構の前記回転範囲は180度であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1縁と前記第2縁とは、互いに対向し、それぞれ前記開口の内側から外側に向かう方向に凸の形状をなしていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記遮蔽部材は、前記照明系において前記基板と共役な位置に配置されていることを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、原版のパターンを前記基板に投影する投影系を有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、型により成形された光硬化性の前記感光材に光を照射する照射系を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至11のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パタ−ンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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