JP2015024464A - 加工装置の排水機構 - Google Patents

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俊彦 中生
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Abstract

【課題】加工水の再利用、廃棄の選択が可能である加工装置の排水機構を提供すること。【解決手段】切削装置はチャックテーブルと被加工物を切削加工する切削手段とドレイン管30と排水機構40とを備える。ドレイン管30は加工水を排出する。排水機構40はドレイン管30から排出される加工水を第一の排水路41又は第二の排水路42へ適宜選択して排水する。排水機構40は第一の水受け手段51と第二の水受け手段52と案内手段44を備える。第一の水受け手段51はドレイン管30の排出口31より下方に位置付けられ加工水を第一の受け入れ口51aから受け入れて第一の排水路41に排出する。第二の水受け手段52はドレイン管30の排出口31より下方に位置付けられ加工水を第二の受け入れ口52aから受け入れて第二の排水路42に排出する。案内手段44は加工水を第一の水受け手段51又は第二の水受け手段52へと案内する。【選択図】図2

Description

本発明は、加工装置の排水機構に関する。
切削装置や研削装置では、大量の加工水を用いながら半導体ウエーハや光デバイスウエーハ、樹脂基板、セラミックス基板、ガラス板等を切削したり研削したりする加工を行う。加工で利用された加工水は大量の加工屑を含んでいる。
このような装置では、ミクロン単位の精度を要するため、停止状態だった装置を稼働状態に移行させる際、装置の精度を確保するためにアイドリング動作が必須である。その際、加工水を供給しながらアイドリング動作を行うが、このときに使用する加工水には加工屑が含まれていない。
また、シリコンウエーハの研削では、800μm程度の厚さから50μm程度の厚さまで薄化する際、シリコンウエーハの大半が研削屑となって加工水と共に排出される。大量に排出されるシリコンを再利用するという技術が開発されている(特許文献1)。
特開2012−024661号公報
加工屑が含まれない加工水は、加工水として再利用することができる。逆に、加工屑が含まれている加工水は通常排出路を介して廃棄される。
また、シリコンを分離する装置を用いて加工屑であるシリコンを再利用する際、分離装置に流入させる加工水は、シリコンを大量に含んだ濃度の濃い加工水が好適であり、シリコンを大量に含まない加工水は、排出路を介して廃棄するのが好適である。
よって、排水路を2つ備え、一方は再利用、他方は廃棄といった選択が可能である排水機構が求められている。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、加工水の再利用、廃棄の選択を容易に行うことができる加工装置の排水機構を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の加工装置の排水機構は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物に加工水を供給しながら加工する加工手段と、加工に利用した該加工水を排出するドレイン管と、を備えた加工装置の該ドレイン管から排出される該加工水を、第一の排水路、又は第二の排水路へ適宜選択して排水する加工装置の排水機構であって、該排水機構は、該ドレイン管の排出口より下方に位置付けられ、該ドレイン管から排出される該加工水を第一の受け入れ口から受け入れ、受け入れた該加工水を該第一の排水路に排出する、第一の水受け手段と、該ドレイン管の該排出口の下方に該第一の水受け手段と隣接して配設され、該ドレイン管から排出される該加工水を第二の受け入れ口から受け入れ、受け入れた該加工水を該第二の排水路に排出する第二の水受け手段と、該ドレイン管の該排出口から排出される該加工水を、該第一の水受け手段、又は該第二の水受け手段へと案内する案内手段と、を備えることを特徴とする。
また、前記加工装置の排水機構は、前記案内手段は、該第一の水受け手段の該第一の受け入れ口と該第二の水受け手段の該第二の受け入れ口との間に掛け渡され、一方の該水受け手段側に延出した端部と他方の該水受け手段側に延出した端部とで高低差が付けられるよう回動可能に配設され、前記ドレイン管の前記排出口の下方で前記加工水を直接受け入れるシーソー状樋部と、該シーソー状樋部を回動させて、該シーソー状樋部の一方の端部を他方の端部より低く位置づけ、該加工水を流入させる該水受け手段を選択し、前記排水路を選択する選択手段と、を備えることが望ましい。
また、前記加工装置の排水機構は、前記案内手段は、前記ドレイン管の前記排出口の直下の水受け位置と、該排出口の直下から所定距離離間した待避位置との間で、前記第一の水受け手段及び前記第二の水受け手段を移動させ、一方の該水受け手段を該水受け位置に位置付けることで、前記加工水を流入させる該水受け手段を選択し、前記排水路を選択することが望ましい。
そこで、本発明の加工装置の排水機構によれば、シンプルな構成でドレイン管からの加工水の流入先を2つの排水路に適宜選択可能としたため、2つの廃棄流路を容易に選択可能となる。したがって、加工水の再利用、廃棄の選択を容易に行うことができる。
図1は、実施形態に係る切削装置の構成例の概略を示す斜視図である。 図2は、実施形態に係る切削装置の排水機構の概略を示す斜視図である。 図3は、実施形態に係る切削装置の排水機構の概略を示す平面図である。 図4(a)は、実施形態に係る切削装置の排水機構の案内手段が第一の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図であり、図4(b)は、実施形態に係る切削装置の排水機構の案内手段が第二の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。 図5(a)は、実施形態の変形例に係る切削装置の排水機構の案内手段が第一の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図であり、図5(b)は、実施形態の変形例に係る切削装置の排水機構の案内手段が第二の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
〔実施形態〕
本発明の実施形態に係る加工装置としての切削装置の排水機構を図面に基いて説明する。図1は、実施形態に係る切削装置の構成例の概略を示す斜視図である。図2は、実施形態に係る切削装置の排水機構の概略を示す斜視図である。図3は、実施形態に係る切削装置の排水機構の概略を示す平面図である。図4(a)は、実施形態に係る切削装置の排水機構の案内手段が第一の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。図4(b)は、実施形態に係る切削装置の排水機構の案内手段が第二の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。
本実施形態に係る切削装置1(加工装置に相当)は、切削ブレード21を有する切削手段20(加工手段に相当)と被加工物W(図1に示す)を保持するチャックテーブル10とを少なくとも備え、これらを相対移動させることで、被加工物Wを切削加工(加工に相当)するものである。
切削装置1は、図1に示すように、前記チャックテーブル10と、前記切削手段20と、ドレイン管30と、排水機構40と、制御手段(図示せず)と、を備えている。さらに、切削装置1は、チャックテーブル10と切削手段20とをX軸方向に相対移動させるX軸移動手段(図示せず)と、チャックテーブル10と切削手段20とをY軸方向に相対移動させるY軸移動手段70と、チャックテーブル10と切削手段20とをZ軸方向に相対移動させるZ軸移動手段80とを備えている。
ここで、被加工物Wは、切削装置1により加工される板状の加工対象であり、本実施形態では、互いに直行する分割予定ラインによって区画されたデバイス(図示せず)を複数有した半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。被加工物Wは、切削装置1がチャックテーブル10と切削ブレード21を有する切削手段20とを相対移動させて、分割予定ラインに切削加工が施されることで、個々のデバイスに分割される。また、本実施形態では、被加工物Wは、図1に示すように、デバイスが形成された表面の反対側の裏面にダイシングテープTが貼着され、ダイシングテープTに環状フレームFが貼着されて、ダイシングテープTを介して環状フレームFに貼着されている。なお、本発明では、被加工物Wは、分割予定ラインによって区画されたデバイスを複数有したパッケージ基板などであっても良い。
チャックテーブル10は、切削加工前の被加工物Wが載置されて、ダイシングテープTを介して環状フレームFの開口に貼着された被加工物Wを保持するものである。チャックテーブル10は、表面を構成する部分がポーラスセラミック等から形成された円盤形状であり、図示しない真空吸引経路を介して図示しない真空吸引源と接続され、表面に載置された被加工物Wを吸引することで保持する。なお、チャックテーブル10は、X軸移動手段によりX軸方向に移動自在に設けられかつ回転駆動源(図示せず)により中心軸線(Z軸と平行である)回りに回転自在に設けられている。
切削手段20は、チャックテーブル10に保持された被加工物Wに加工水を供給しながら切削加工するものである。切削手段20は、チャックテーブル10に保持された被加工物Wに対して、Y軸移動手段70によりY軸方向に移動自在に設けられ、かつ、Z軸移動手段80によりZ軸方向に移動自在に設けられている。切削手段20は、略リング形状を有する極薄の切削砥石でありかつスピンドル(図示せず)により回転することで被加工物Wに切削加工を施す切削ブレード21と、加工水を供給するノズル22などを含んで構成されている。
ドレイン管30は、切削装置1の装置本体2に設けられ、切削加工に利用した加工水を切削装置1の装置本体2外に排出するものである。ドレイン管30は、実施形態では、図1に示すように、装置本体2の下端部から突出している。
排水機構40は、ドレイン管30から排出される加工水を第一の排水路41又は第二の排水路42へ適宜選択して排水するものである。即ち、排水機構40は、ドレイン管30から排出される加工水を第一の排水路41と第二の排水路42のうち一方に排水する。第一の排水路41と第二の排水路42とのうち一方を通った加工水は、フィルタなどを通されて切削装置1に戻されて切削加工に再利用されるとともに、他方を通った加工水は、切削装置1に戻されることなく、適切な処理が施された後、排水される。
排水機構40は、図2及び図3に示すように、受け槽43と、案内手段44とを備えている。受け槽43は、ドレイン管30から排出される加工水を一旦収容する容器であり、上方が開口した箱状の槽本体45と、槽本体45の開口を塞ぐ蓋部材46とを備えている。槽本体45即ち受け槽43の底面45aは、X軸に対して角度θ度(0度を超え90度未満の角度)傾いている。受け槽43内には、ドレイン管30の排出口31と、第一の排水路41及び第二の排水路42が開口している。ドレイン管30の排出口31は、受け槽43の槽本体45の上端部に開口し、第一の排水路41及び第二の排水路42は、受け槽43の槽本体45の下端部に開口している。
また、ドレイン管30と、第一の排水路41及び第二の排水路42は、図3に示すように、平面視においてX軸と平行に設けられている。受け槽43の槽本体45の第一の排水路41及び第二の排水路42が開口した壁面45cと、ドレイン管30の排出口31が設けられた壁面45bとは、X軸方向に対向している。また、第一の排水路41及び第二の排水路42は、Y軸方向に間隔をあけて配置され、かつドレイン管30の排出口31よりも下方に位置付けられている。
また、受け槽43の槽本体45には、第一の排水路41と第二の排水路42との間を仕切る仕切り板45dが設けられている。仕切り板45dは、受け槽43の槽本体45の底面45aから立設しているとともに、壁面45b,45c間に亘って設けられている。仕切り板45dは、槽本体45のZ軸方向の略下半分に設けられ、仕切り板45dと底面45a及び壁面45b,45cとの間を加工水が通ることを規制する。仕切り板45dの上縁と、槽本体45の第一の排水路41が設けられた側の内面45eとで囲まれた開口は、ドレイン管30の排出口31より下方に位置付けられかつドレイン管30から排出される加工水を受け入れる第一の受け入れ口51aをなしている。また、仕切り板45dと、槽本体45の第一の排水路41が設けられた側の内面45eとで囲まれた空間は、加工水を第一の受け入れ口51aから受け入れ、受け入れた加工水を第一の排水路41に排出する第一の水受け手段51をなしている。
また、仕切り板45dの上縁と、槽本体45の第二の排水路42が設けられた側の内面45fとで囲まれた開口は、ドレイン管30の排出口31より下方に配設されかつドレイン管30から排出される加工水を受け入れる第二の受け入れ口52aをなしている。また、仕切り板45dと、槽本体45の第二の排水路42が設けられた側の内面45fとで囲まれた空間は、第一の水受け手段51と隣接して配設され、加工水を第二の受け入れ口52aから受け入れ、受け入れた加工水を第二の排水路42に排出する第二の水受け手段52をなしている。
案内手段44は、ドレイン管30の排出口31から排出される加工水を、第一の水受け手段51又は第二の水受け手段52へと案内するものである。案内手段44は、図2及び図3に示すように、シーソー状樋部53と、選択手段54とを備えている。シーソー状樋部53は、第一の水受け手段51の第一の受け入れ口51aと第二の水受け手段52の第二の受け入れ口52aとの間に掛け渡されている。シーソー状樋部53は、壁面45b,45cと平行に配置される一対の側板55a,55bと、一対の側板55a,55bの下縁同士を連結して仕切り板45dの上縁に重ねられる底板56とを備えて、Y軸方向からみた側面視が樋状に形成されている。
一対の側板55a,55b及び底板56は、第一の水受け手段51の第一の受け入れ口51aと第二の水受け手段52の第二の受け入れ口52aとの間に掛け渡されている。一方の側板55aは、壁面45bに重ねられているとともに、ドレイン管30の排出口31が貫通している。また、一方の側板55aは、ドレイン管30に対して、ドレイン管30の軸心回りに回転自在に設けられている。他方の側板55bは、壁面45cと間隔をあけて重ねられているとともに、回動支持部57によりドレイン管30の軸心回りに回動可能に設けられている。回動支持部57により、シーソー状樋部53は、第一の水受け手段51と第二の水受け手段52のうちの一方の水受け手段51,52側に延出した端部と、他方の水受け手段51,52側に延出した端部とで高低差がつけられるよう、ドレイン管30の軸心回りに回動可能に配設されている。回動支持部57は、仕切り板45dの上縁に固定されかつ仕切り板45dの上縁から立設した固定部58と、固定部58から突出しかつ他方の側板55bをドレイン管30の軸心回りに回動可能に支持する回動軸59とを備えている。また、シーソー状樋部53は、底板56が仕切り板45dの上縁に重ねられることで、ドレイン管30の排出口31の下方で排出口31からの加工水を直接受け入れることとなる。
選択手段54は、シーソー状樋部53をドレイン管30の軸心回りに回動させて、該シーソー状樋部53の一方の端部を他方の端部より低く位置づけ、該加工水を流入させる水受け手段51,52を選択し、排水路41,42を選択するものである。選択手段54は、エアーシリンダ60と、リンク61とを備えている。エアーシリンダ60は、シリンダ本体60aにエアーが供給されることで、シリンダ本体60aからロッド60bを伸縮させるものであり、軸心がY軸と平行に配置されている。エアーシリンダ60のシリンダ本体60aは、蓋部材46に固定されている。
リンク61は、X軸方向からみた平面視において、く字状に形成されている。リンク61は、中央部が受け槽43の槽本体45に回動自在に取り付けられ、一端部がエアーシリンダ60のロッド60bの先端に回動自在に取り付けられ、他端部がシーソー状樋部53の側板55bに回動自在でかつスライド自在に取り付けられている。リンク61の中央部及び両端部の回転中心は、X軸と平行である。また、リンク61の他端部は、該リンク61の他端部に設けられた移動ピン62がシーソー状樋部53の側板55bに設けられた長孔63内に挿入されている。長孔63は、ドレイン管30の軸心を中心とした径方向に直線状に延びている。選択手段54は、エアーシリンダ60のロッド60bを伸縮させることで、リンク61を介してシーソー状樋部53をドレイン管30の軸心回りに回動させる。
選択手段54は、エアーシリンダ60のロッド60bを伸張させることで、図4(a)に示すように、シーソー状樋部53の第一の排水路41寄りの一方の端部を第二の排水路42寄りの他方の端部より低く位置づけ、ドレイン管30からの加工水を第一の水受け手段51に流入させ、ドレイン管30からの加工水を第一の排水路41に導く。また、選択手段54は、エアーシリンダ60のロッド60bを縮小させることで、図4(b)に示すように、シーソー状樋部53の第二の排水路42寄りの一方の端部を第一の排水路41寄りの他方の端部より低く位置づけ、ドレイン管30からの加工水を第二の水受け手段52に流入させ、ドレイン管30からの加工水を第二の排水路42に導く。なお、図4(a)は、排水機構40の案内手段44が、第一の排水路41に加工水を導く第一の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。図4(b)は、排水機構40の案内手段44が、第二の排水路42に加工水を導く第二の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。
制御手段は、切削装置1を構成する上述した構成要素をそれぞれ制御して、被加工物Wに対する加工動作を切削装置1に行わせるものである。なお、制御手段は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、加工動作の状態を表示する表示手段(図示せず)や、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる操作手段(図示せず)と接続されている。
実施形態に係る切削装置1は、切削加工前の被加工物Wがチャックテーブル10に搬送されると、制御手段がチャックテーブル10に保持し、X軸移動手段によりチャックテーブル10を切削手段20の下方に移動して、ノズル22から加工水を供給しながら被加工物Wを分割予定ラインなどに沿って切削し、被加工物Wを個々のデバイスに分割する。全ての分割予定ラインなどに切削加工が施されると、制御手段が、チャックテーブル10を切削手段20から離間させて、チャックテーブル10の保持を解除する。チャックテーブル10上の被加工物Wが切削加工前の被加工物Wに交換されると、先程と同様の工程で切削加工を行う。なお、切削装置1は、制御手段が加工内容に応じて、エアーシリンダ60のロッド60bを伸張又は縮小させて、加工水を流入させる水受け手段51,52を選択し、排水路41,42を選択する。切削装置1は、制御手段がたとえばアイドリング動作等の特定の動作時には水受け手段51,52のうちの一方を選択し、排水路41,42のうちの一方を選択するのが望ましく、その他の動作時には水受け手段51,52のうちの他方を選択し、排水路41,42のうちの他方を選択するのが望ましい。
以上のように、本実施形態に係る切削装置1の排水機構40によれば、ドレイン管30の排出口31からの加工水を第一の水受け手段51又は第二の水受け手段52に案内する案内手段44を備えている。このために、加工水を第一の水受け手段51に受け入れる状態と第二の水受け手段52に受け入れる状態とを選択することができ、加工水を第一の水受け手段51と第二の水受け手段52とのいずれかに受け入れることができる。したがって、排水機構40は、シンプルな構成でドレイン管30からの加工水の流入先を2つの排水路41,42に適宜選択可能とすることができ、2つの廃棄流路を容易に選択可能となる。よって、排水機構40は、加工水の再利用、廃棄の選択を容易に行うことができる。
また、案内手段44が、仕切り板45dの上方に回動自在に設けられたシーソー状樋部53と、シーソー状樋部53を回動させる選択手段54とを備えているので、排水機構40は、シンプルな構成でドレイン管30からの加工水の流入先を2つの排水路41,42に適宜選択可能とすることができる。
〔変形例〕
本発明の実施形態の変形例に係る加工装置としての切削装置の排水機構を図面に基いて説明する。図5(a)は、実施形態の変形例に係る切削装置の排水機構の案内手段が第一の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。図5(b)は、実施形態の変形例に係る切削装置の排水機構の案内手段が第二の案内位置に位置付けられた状態を示す断面図である。なお、図5(a)及び図5(b)において、前述した実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
変形例の切削装置1は、排水機構40が異なる以外は、前述した実施形態と構成が等しい。変形例では、切削装置1は、ドレイン管30の排出口31が受け槽43の上方に配置されて、下方に向けて加工水を排出し、第一の排水路41及び第二の排水路42は、受け槽43の槽本体45の底面45aに開口している。変形例では、案内手段65は、ドレイン管30の排出口31の直下の水受け位置と、排出口31の直下から所定距離離間した待避位置との間で、第一の水受け手段51及び第二の水受け手段52を移動させ、一方の水受け手段51,52を水受け位置に位置付けることで、加工水を流入させる水受け手段51,52を選択し、排水路41,42を選択する直動式のアクチュエータである。案内手段65は、受け槽43の槽本体45を水平方向に移動させて、水受け手段51,52のいずれか一方に加工水を流入させる。
案内手段65は、受け槽43の槽本体45を図5中の左側に移動させることで、図5(a)に示すように、ドレイン管30の排出口31を第一の水受け手段51の上方に位置づけ、ドレイン管30からの加工水を第一の水受け手段51に流入させ、ドレイン管30からの加工水を第一の排水路41に導く。また、選択手段54は、受け槽43の槽本体45を図5中の右側に移動させることで、図5(b)に示すように、ドレイン管30の排出口31を第二の水受け手段52の上方に位置づけ、ドレイン管30からの加工水を第二の水受け手段52に流入させ、ドレイン管30からの加工水を第二の排水路42に導く。このように、案内手段65は、ドレイン管30の排出口31を第一の水受け手段51の上方に位置づける位置と、ドレイン管30の排出口31を第二の水受け手段52の上方に位置づける位置とに亘って、第一の水受け手段51及び第二の水受け手段52を移動させて、一方の水受け手段51,52をドレイン管30の排出口31の下方に位置付けることで、加工水を流入させる水受け手段51,52を選択し、排水路41,42を選択するものである。
変形例に係る排水機構40によれば、実施形態と同様に、加工水の再利用、廃棄の選択を容易に行うことができる。また、案内手段65が受け槽43を移動させるものであるので、排水機構40は、シンプルな構成でドレイン管30からの加工水の流入先を2つの排水路41,42に適宜選択可能とすることができる。なお、変形例では、案内手段65として、直動式のアクチュエータの他に、ロータリ式のアクチュエータを用いてもよい。
前述した実施形態及び変形例では、被加工物Wに加工としての切削加工を施す切削装置1を示している。しかしながら、本発明は、例えば、被加工物Wに加工としてのレーザー光線を照射して、アブレーション加工や内部に改質層を形成するレーザー加工を施す加工装置としてのレーザー加工装置に適用しても良い。即ち、本発明は、レーザー加工装置の保護膜除去及び洗浄装置に用いられる加工水を受け入れる排水機構に適用しても良い。また、本発明は、例えば、ウエーハなどの被加工物Wを研削加工(加工に相当)する研削装置(加工装置に相当)や、被加工物Wの表面を研磨加工(加工に相当)する研磨装置(加工装置に相当)に適用しても良い。即ち、本発明は、研削装置や研磨装置に用いられる加工水を受け入れる排水機構に適用しても良い。要するに、本発明は、被加工物Wに種々の加工を施す種々の加工装置に適用しても良い。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
1 切削装置(加工装置)
10 チャックテーブル
20 切削手段(加工手段)
30 ドレイン管
31 排出口
40 排水機構
41 第一の排水路
42 第二の排水路
44 案内手段
51 第一の水受け手段
51a 第一の受け入れ口
52 第二の水受け手段
52a 第二の受け入れ口
53 シーソー状樋部
54 選択手段
W 被加工物

Claims (3)

  1. 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物に加工水を供給しながら加工する加工手段と、加工に利用した該加工水を排出するドレイン管と、を備えた加工装置の該ドレイン管から排出される該加工水を、第一の排水路、又は第二の排水路へ適宜選択して排水する加工装置の排水機構であって、
    該排水機構は、
    該ドレイン管の排出口より下方に位置付けられ、該ドレイン管から排出される該加工水を第一の受け入れ口から受け入れ、受け入れた該加工水を該第一の排水路に排出する、第一の水受け手段と、
    該ドレイン管の該排出口の下方に該第一の水受け手段と隣接して配設され、該ドレイン管から排出される該加工水を第二の受け入れ口から受け入れ、受け入れた該加工水を該第二の排水路に排出する第二の水受け手段と、
    該ドレイン管の該排出口から排出される該加工水を、該第一の水受け手段、又は該第二の水受け手段へと案内する案内手段と、
    を備えることを特徴とする加工装置の排水機構。
  2. 前記案内手段は、
    該第一の水受け手段の該第一の受け入れ口と該第二の水受け手段の該第二の受け入れ口との間に掛け渡され、一方の該水受け手段側に延出した端部と他方の該水受け手段側に延出した端部とで高低差が付けられるよう回動可能に配設され、前記ドレイン管の前記排出口の下方で前記加工水を直接受け入れるシーソー状樋部と、
    該シーソー状樋部を回動させて、該シーソー状樋部の一方の端部を他方の端部より低く位置づけ、該加工水を流入させる該水受け手段を選択し、前記排水路を選択する選択手段と、を備えることを特徴とする請求項1記載の加工装置の排水機構。
  3. 前記案内手段は、
    前記ドレイン管の前記排出口の直下の水受け位置と、該排出口の直下から所定距離離間した待避位置との間で、前記第一の水受け手段及び前記第二の水受け手段を移動させ、一方の該水受け手段を該水受け位置に位置付けることで、前記加工水を流入させる該水受け手段を選択し、前記排水路を選択することを特徴とする請求項1記載の加工装置の排水機構。
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