JP2015010746A - 粒子供給装置、清掃方法及び清掃装置 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な構成で、流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給する粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給すること。【解決手段】廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給するための粒子供給装置（４０）であって、その内部を流動粒子が流れるとともに流動床式ガス化炉に接続される粒子供給管（４２）と、粒子供給管（４２）内にガスを噴射するガス噴射部（４６）と、を備え、ガス噴射部（４６）は、ガス噴射部（４６）から噴射された噴射ガスによって流動粒子を粒子供給管（４２）の内面に衝突させる気流を粒子供給管（４２）内に形成する姿勢で粒子供給管（４２）に接続されること。【選択図】図２

Description

本発明は、流動床式ガス化炉内に流動粒子を供給する粒子供給装置、粒子供給管の清掃方法及び粒子供給管の清掃装置に関するものである。

従来、流動床式ガス化炉を備えた廃棄物処理システムが知られている。前記流動床式ガス化炉は、流動粒子により構成される流動層を備え、この流動層に投入された廃棄物を加熱することによって当該廃棄物をガス化させる。

この廃棄物処理システムでは、流動床式ガス化炉から不燃物とともに排出された流動粒子は、再び流動床式ガス化炉内に戻されることにより循環使用される。例えば、特許文献１には、珪砂等の流動粒子を収容するとともに廃棄物をガス化させる流動床式ガス化炉と、この流動床式ガス化炉から不燃物とともに流動粒子を排出する排出装置と、不燃物と流動粒子の混合物から流動粒子を分離する砂分級装置と、砂分級装置により分離された流動粒子を上方に搬送する砂循環エレベータと、流動床式ガス化炉に接続された粒子供給管と、を備えた廃棄物処理システムが開示されている。砂循環エレベータにより搬送された流動粒子は、粒子供給管を通じて再び流動床式ガス化炉内へ供給される。また、流動床式ガス化炉内での廃棄物の熱分解により発生した可燃性のガスは、当該流動床式ガス化炉の下流側で適宜処理される。

特開２０１２−００７７６３号公報

特許文献１に記載されるような廃棄物処理システムでは、粒子供給管内に流動粒子の詰まりが生じる場合がある。そのメカニズムは、次のとおりである。

通常、前記廃棄物処理システムでは、流動床式ガス化炉から排出された不燃物のうち砂分級装置で分離し切れなかった針金等の針状の不燃物を含む小さな微小不燃物は、流動粒子とともに砂循環エレベータで上方に搬送され、粒子供給管から再びガス化炉内に戻される。一方で、流動床式ガス化炉内でチャー（炭化物）等の粘着性の物質が生成され、この物質がガス化炉側から粒子供給管内に入り込むことにより粒子供給管の内面に付着する場合がある。この粘着性物質は、粒子供給管に順次送られる微小不燃物を捕獲して粒子供給管内に堆積せしめ、これにより粒子供給管内を閉塞して流動粒子の詰まりを引き起こすおそれがある。

粒子供給管内に詰まりが生じた場合、廃棄物処理システムの駆動を停止と、その後の粒子供給管の内面に付着した粘着性物質及び微小不燃物の除去とが必要となる。このことは、廃棄物の処理効率を著しく低下させる。

本発明の目的は、簡単な構成で、流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給する粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することである。

前記課題を解決するための手段として、本発明者らは、前記粒子供給管内を流れる流動粒子を利用して当該粒子供給管内への前記粘着性物質の付着を抑制することに想到した。具体的に、本発明は、廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給するための粒子供給装置であって、その内部を前記流動粒子が流れるとともに前記流動床式ガス化炉に接続される粒子供給管と、前記粒子供給管内にガスを噴射するガス噴射部と、を備え、前記ガス噴射部は、当該ガス噴射部から噴射された噴射ガスによって前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を当該粒子供給管内に形成する姿勢で当該粒子供給管に接続される粒子供給装置を提供する。

本発明によれば、ガス噴射部が噴射する噴射ガスにより形成される気流によって流動粒子が粒子供給管の内面に衝突することにより、当該粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及びこれに起因する粒子供給管内への微小不燃物の堆積が抑制され、これにより粒子供給管内への流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。したがって、粒子供給管内を流れる流動粒子を有効利用することにより、粒子供給管内へのガスの噴射のみによって、当該粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及び粒子供給管内への微小不燃物の堆積、すなわち、微小不燃物による粒子供給管内の閉塞の抑制が可能となる。よって、簡単な構成で粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。

この場合において、前記ガス噴射部は、前記噴射ガスの噴射方向が前記流動床式ガス化炉に向かう方向となる姿勢で前記粒子供給管に接続されることが好ましい。

このようにすれば、流動床式ガス化炉への流動粒子の供給を阻害することなく当該流動粒子を円滑に流動床式ガス化炉に供給する気流の形成が可能となる。

また、本発明において、前記ガス噴射部は、前記気流が前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に接触させながら当該粒子供給管内を螺旋状に旋回させる旋回流となる姿勢で前記粒子供給管に接続されることが好ましい。

このようにすれば、粒子供給管の内面への粘着性物質の付着がより広範囲にわたって抑制される。

具体的に、前記粒子供給管は、円筒状の内周面を有する円筒部を有し、前記ガス噴射部は、前記噴射ガスの噴射方向が当該噴射ガスの噴射起点と前記円筒部の中心軸とを通りかつ当該中心軸に沿う方向の面に対して傾斜する姿勢で前記円筒部に接続されることが好ましい。

このようにすれば、容易に前記円筒部内に旋回流を生じさせることができる。

また、本発明は、廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給する粒子供給管内を清掃する清掃方法であって、前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を前記粒子供給管内に形成するように当該粒子供給管にガスを噴射する清掃方法を提供する。

本発明では、粒子供給管内に噴射された噴射ガスにより形成される気流によって流動粒子が粒子供給管の内面に衝突することにより、当該粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及びこれに起因する粒子供給管内への微小不燃物の堆積が抑制される。つまり、粒子供給管内を流れる流動粒子を有効利用することにより、粒子供給管内へのガスの噴射のみによって、当該粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及び粒子供給管内への微小不燃物の堆積、すなわち、微小不燃物による粒子供給管内の閉塞の抑制が可能となる。よって、簡単な構成で粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。

さらに、本発明は、廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給する粒子供給管内を清掃する清掃装置であって、前記粒子供給管に供給するガスを収容するガス収容部と、前記ガスを前記粒子供給管内に噴射するガス噴射部と、を備え、前記ガス噴射部は、前記ガス収容部から供給される前記ガスによって前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を当該粒子供給管内に形成するように当該粒子供給管に接続される清掃装置を提供する。

本発明では、流動粒子を粒子供給管の内面に衝突させる気流を粒子供給管内に形成することができ、これにより粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及びこれに起因する粒子供給管内への微小不燃物の堆積が抑制される。つまり、粒子供給管内を流れる流動粒子を有効利用することにより、粒子供給管内へのガスの噴射のみによって、当該粒子供給管の内面への粘着性物質の付着、及び粒子供給管内への微小不燃物の堆積、すなわち、微小不燃物による粒子供給管内の閉塞の抑制が可能となる。よって、簡単な構成で粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。

以上のように、本発明によれば、簡単な構成で、流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給する粒子供給管内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。

本発明の一実施形態の廃棄物処理システムの概略を示す図である。 図１に示す廃棄物処理システムの粒子供給装置の概略を示す図である。 （ａ）粒子供給管とガス噴射部との接続関係を示す平面図である。（ｂ）粒子供給管とガス噴射部との接続部を含む断面図である。 （ａ）粒子供給管とガス噴射部との接続関係の変形例を示す平面図である。（ｂ）粒子供給管とガス噴射部との接続部を含む断面図である。

本発明の一実施形態について、図１〜図３を参照しながら説明する。

図１に示されるように、本実施形態の廃棄物処理システム１０は、流動床式ガス化炉２０と、排出装置３２と、粒子分級装置３４と、粒子循環エレベータ３６と、粒子供給装置４０とを備えている。

流動床式ガス化炉２０は、炉床から流動化ガスを供給することによって砂等の流動粒子による流動層１２が形成され、この流動層１２の温度を、例えば４５０〜６５０℃に維持しながら流動層１２に投入される廃棄物を低温熱分解することにより、廃棄物から可燃性のガスを発生させる炉である。流動床式ガス化炉２０は、筒状の側壁２２と、この側壁２２の下端に接続された底壁２４と、側壁２２の上端に接続された上壁２６とを有する。

側壁２２は、廃棄物を投入するための廃棄物投入口２２ａと、流動粒子を導入するための粒子導入口２２ｂとを有する。粒子導入口２２ｂは、廃棄物投入口２２ａよりも上方に形成されている。廃棄物は、図示しない廃棄物ホッパ及び廃棄物供給装置を介して廃棄物投入口２２ａを通じて当該ガス化炉内へ供給される。

底壁２４は、廃棄物のうちの流動粒子の加熱により熱分解されなかった不燃物と流動粒子との混合物を当該ガス化炉外へ排出する混合物排出口２４ａを有する。底壁２４には、多数のガス噴射口をもつ分散板が設けられ（図示せず）、当該ガス噴射口を通じて流動粒子に向けて流動化ガスが吹き込まれることにより、流動粒子が流動する流動層１２が形成される。

上壁２６は、廃棄物の熱分解により生じた可燃性のガスを当該ガス化炉外へ排出するガス排出口２６ａを有する。このガス排出口２６ａから排出された可燃性のガスは、流動床式ガス化炉２０の下流側で適宜処理される。

排出装置３２は、前記混合物を流動床式ガス化炉２０から排出する装置である。この排出装置３２は、底壁２４の混合物排出口２４ａの下方に設けられ、この混合物排出口２４ａから落下してきた混合物を粒子分級装置３４へ送る。例えば、前記混合物は、排出装置３２のスクリュー押し込み機によって粒子分級装置３４へ送られる。

粒子分級装置３４は、排出装置３２から送られてきた混合物から流動粒子を分離する。なお、ここで分離された不燃物は、別途処理される。

粒子循環エレベータ３６は、粒子分級装置３４で分離された流動粒子を側壁２２の粒子導入口２２ｂよりも上方に搬送する。

粒子供給装置４０は、粒子循環エレベータ３６によって搬送された流動粒子を流動床式ガス化炉２０内へ供給する装置である。以下、粒子供給装置４０について、図１から図３を参照しながら説明する。

本実施形態の粒子供給装置４０は、流動床式ガス化炉２０内に流動粒子を供給する粒子供給管４２と、圧縮ガスを収納するガス収容部４４と、粒子供給管４２内に前記圧縮ガスを噴射するガス噴射部４６と、ガス収容部４４内の圧縮ガスをガス噴射部４６へ送るガス供給流路４８と、このガス供給流路４８に設けられた電磁弁４９とを備えている。

粒子供給管４２は、本実施形態では、円管により構成されている。つまり、粒子供給管４２は、全長にわたって円筒状の内周面を有している。この粒子供給管４２は、側壁２２の粒子導入口２２ｂに接続されている。より具体的には、粒子供給管４２は、粒子循環エレベータ３６からこの粒子供給管４２内に搬送された流動粒子が自重で当該粒子供給管４２内を通って流動床式ガス化炉２０内に流入するように側壁２２に対して傾斜する姿勢で側壁２２に接続されている。

ガス噴射部４６は、粒子供給管４２に接続される。このガス噴射部４６は、ガス供給流路４８を通じてガス収容部４４から供給される圧縮ガスを粒子供給管４２内に向けて所定方向に噴射する。圧縮ガスは、電磁弁４９が開いたときにガス噴射部４６に供給され、粒子供給管４２内に噴射される。すなわち、圧縮ガスの噴射期間は、電磁弁４９の開閉により制御可能である。例えば、圧縮ガスは、一定のインターバルをおいて間欠的に噴射されてもよい。あるいは、電磁弁４９が省略され、圧縮ガスが常に粒子供給管４２内に供給されるようにしてもよい。ただし、本実施形態のように電磁弁４９の開閉を制御する構成とすることにより、上記のようにガス収容部４４内に圧縮ガスが収容される構成の場合、ガス収容部４４内の圧縮ガスの消費を抑えてその圧力を所定値以上に維持することが容易となる。

ガス噴射部４６は、ガス噴射部４６から噴射された噴射ガスによって流動粒子を粒子供給管４２の内面に衝突させる気流を当該粒子供給管４２内に形成する姿勢で粒子供給管４２に接続される。より具体的には、ガス噴射部４６は、前記気流が流動粒子を粒子供給管４２の内面に接触させながら当該粒子供給管４２内を螺旋状に旋回させる旋回流となる姿勢で粒子供給管４２に接続される。

本実施形態では、図２に示されるように、ガス噴射部４６は、当該ガス噴射部４６から噴射された噴射ガスの噴射方向が流動床式ガス化炉２０に向かう方向となる姿勢、すなわち、噴射ガスの噴射起点Ｓ（本実施形態ではガス噴射部４６の先端位置）を通りかつ粒子供給管４２をその中心軸に垂直な方向に横切る第一基準面Ｐ１に対して前記噴射方向が流動床式ガス化炉２０側に傾斜する姿勢で粒子供給管４２に接続される。具体的には、ガス噴射部４６は、前記第一基準面Ｐ１と前記噴射方向とのなす角αが５度〜６０度となる姿勢で粒子供給管４２に接続されることが好ましい。角αは、１５度〜６０度とすることがより好ましく、３０度〜４５度とすることがさらに好ましい。角αは、前記旋回流の軸方向の成分の大きさを決定する要素である。

ここで、「噴射方向」とは、噴射ガスの噴射形態からみてその噴射の主たる方向と認められる方向を意味する。例えば、ガス噴射部４６から、噴射ガスがその噴射起点Ｓから特定の噴射領域に広がるような噴射角をもって円錐状、あるいは扇形状に噴射される場合、その噴射領域の中央を通る直線の方向が噴射方向に相当する。

さらに、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示されるように、ガス噴射部４６は、前記噴射方向が前記噴射起点Ｓと前記粒子供給管４２の中心軸とを通りかつ当該中心軸に沿う方向の第二基準面Ｐ２に対して傾斜する姿勢で粒子供給管４２に接続される。具体的には、ガス噴射部４６は、前記第二基準面Ｐ２と前記噴射方向とのなす角βが３度〜９０度となる姿勢で粒子供給管４２に接続されることが好ましい。角βは、３度〜６０度とすることがより好ましく、３度〜３０度とすることがさらに好ましい。角βは、前記旋回流の周方向の成分の大きさを決定する要素である。つまり、角α及び角βの調整により、粒子供給管４２内に形成される旋回流のピッチの調整が可能となる。

次に、廃棄物処理システム１０の動作について説明する。

底壁２４に形成されたガス噴射口を通じて流動化ガスが吹き込まれることにより、流動床式ガス化炉２０内に流動層１２が形成される。そして、側壁２２の廃棄物投入口２２ａより投入された廃棄物は、流動層１２で加熱されることで熱分解される。このとき発生した可燃性のガスは、ガス排出口２６ａから排出される。一方で、廃棄物のうち流動層１２で熱分解されなかった不燃物は、流動粒子とともに混合物排出口２４ａから排出装置３２へ排出される。

混合物排出口２４ａから排出された不燃物と流動粒子との混合物は、排出装置３２により粒子分級装置３４へ送られ、ここで流動粒子が分離される。その流動粒子は、粒子循環エレベータ３６で粒子供給管４２よりも上方に搬送される。なお、粒子分級装置３４で分離された不燃物は、別途処理される。

そして、粒子循環エレベータ３６により上方に搬送された流動粒子は、粒子供給管４２を介して再び流動床式ガス化炉２０へ供給される。このとき、流動床式ガス化炉２０から排出された不燃物のうち粒子分級装置３４で分離し切れなかった針金等の小さな微小不燃物も、流動粒子とともに粒子循環エレベータ３６で上方に搬送され、粒子供給管４２内へ送られる。

一方で、流動床式ガス化炉２０内でチャー（炭化物）等の粘着性の物質が生成され、この物質が流動床式ガス化炉２０側から粒子導入口２２ｂを通じて粒子供給管４２内に流入することにより粒子供給管４２の内面に付着する場合がある。この粘着性物質は、粒子供給管４２に順次送られる微小不燃物を捕獲して粒子供給管４２内に堆積せしめ、これにより粒子供給管４２内を閉塞して流動粒子の詰まりを引き起こすおそれがある。

本実施形態の粒子供給装置４０は、粒子供給管４２内を流れる流動粒子を有効利用することにより、粒子供給管４２内の詰まりの発生が抑制されるように当該粒子供給管４２の内面への粘着性物質の付着の抑制、及び既に付着した粘着性物質の除去をしながら流動床式ガス化炉２０へ流動粒子を供給するものである。以下、その方法（粒子供給管４２内の清掃方法）について説明する。

まず、ガス噴射部４６を、上記のように、前記噴射ガスの噴射方向が第一基準面Ｐ１に対して角αだけ傾斜し、かつ、第二基準面Ｐ２に対して角βだけ傾斜する姿勢で粒子供給管４２に接続する。そして、電磁弁４９を開くことにより、ガス収容部４４の圧縮ガスをガス噴射部４６から粒子供給管４２内に噴射する。これにより、粒子供給管４２内には、当該粒子供給管４２内を螺旋状に旋回する気流である旋回流が形成される。そのため、粒子供給管４２内を流れる流動粒子は、粒子供給管４２の内面に接触しながら螺旋状に旋回して流動床式ガス化炉２０内へ向かう。このとき、流動粒子が強い圧力で粒子供給管４２の内面に衝突することにより、当該内面に付着した粘着性物質を削り取るいわゆるサンドブラスト処理に類する現象が生じる。また、粒子供給管４２へ送られてくる粘着性物質とこの粒子供給管４２の内面との間への流動粒子の存在が、当該内面への粘着性物質の付着を抑制する。すなわち、本実施形態では、ガス収容部４４、ガス噴射部４６、ガス供給流路４８及び電磁弁４９が、粒子供給管４２内の清掃装置４３を構成する。

以上説明したように、本実施形態の粒子供給装置４０では、ガス噴射部４６が噴射する噴射ガスにより形成される気流によって流動粒子が粒子供給管４２の内面に衝突することにより、当該粒子供給管４２の内面への粘着性物質の付着、及びこれに起因する粒子供給管４２内への微小不燃物の堆積が抑制され、これにより粒子供給管４２内への流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉へ流動粒子を供給することが可能となる。したがって、粒子供給管４２内を流れる流動粒子を有効利用することにより、粒子供給管４２内へのガスの噴射のみによって、当該粒子供給管４２の内面への粘着性物質の付着、及び粒子供給管４２内への微小不燃物の堆積、すなわち、微小不燃物による粒子供給管４２内の閉塞の抑制が可能となる。よって、簡単な構成で粒子供給管４２内における流動粒子の詰まりを抑制しながら流動床式ガス化炉２０へ流動粒子を供給することが可能となる。

また、上記施形態では、ガス噴射部４６は、前記噴射ガスの噴射方向が流動床式ガス化炉２０に向かう方向となる姿勢で粒子供給管４２に接続されることから、流動床式ガス化炉２０への流動粒子の供給を阻害することなく当該流動粒子を円滑に流動床式ガス化炉２０に供給する気流の形成が可能となる。

また、上記実施形態では、ガス噴射部４６は、前記気流が流動粒子を粒子供給管４２の内面に接触させながら当該粒子供給管４２内を螺旋状に旋回させる旋回流となる姿勢で粒子供給管４２に接続されることから、粒子供給管４２の内面への粘着性物質の付着がより広範囲にわたって抑制される。

なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。

例えば、上記実施形態では、図３（ａ）及び（ｂ）に示されるように、ガス噴射部４６が粒子供給管４２の上端部に接続された例が示されたが、図４（ａ）及び（ｂ）に示されるように、ガス噴射部４６は、粒子供給管４２の上端部から当該粒子供給管４２の周方向に離間した位置に接続されてもよい。この例では、噴射ガスの噴射方向が下向きとなるようにガス噴射部４６が粒子供給管４２に接続されているが、ガス噴射部４６の位置が粒子供給管４２の上端部からオフセットされている分、前記噴射方向と第二基準面Ｐ２（前記噴射起点Ｓと前記粒子供給管４２の中心軸とを通りかつ当該中心軸に沿う方向の面）との間に角βが形成され、これにより上記実施形態と同様に粒子供給管４２内に旋回流を形成することが可能となっている。

また、上記実施形態の粒子供給管４２は、全長にわたって円筒状の内周面を有する構成であるが、粒子供給管４２の形状はこれに限られない。例えば、粒子供給管４２の一部のみが円筒状の内周面を有する円筒部を構成し、その他の部位は湾曲していてもよい。この場合、前記円筒部にガス噴射部４６が接続されることが好ましい。あるいは、粒子供給管４２の全体が緩やかに、すなわち小さな曲率で湾曲していてもよい。

また、流動床式ガス化炉２０の形状等は、本実施形態に記載の形状に限定されず、どのような形状であってもよい。例えば、側壁２２の断面形状が円形や矩形であってもよく、また、混合物排出口２４ａの位置も特に限定されない。

１０ 廃棄物処理システム
１２ 流動層
２０ 流動床式ガス化炉
２２ 側壁
２２ａ 廃棄物投入口
２２ｂ 粒子導入口
２４ 底壁
２４ａ 混合物排出口
２６ 上壁
２６ａ ガス排出口
３２ 排出装置
３４ 粒子分級装置
３６ 粒子循環エレベータ
４０ 粒子供給装置
４２ 粒子供給管
４３ 清掃装置
４４ ガス収容部
４６ ガス噴射部
４８ ガス供給流路
４９ 電磁弁

Claims (6)

1. 廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給するための粒子供給装置であって、
   その内部を前記流動粒子が流れるとともに前記流動床式ガス化炉に接続される粒子供給管と、
   前記粒子供給管内にガスを噴射するガス噴射部と、を備え、
   前記ガス噴射部は、当該ガス噴射部から噴射された噴射ガスによって前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を当該粒子供給管内に形成する姿勢で当該粒子供給管に接続される粒子供給装置。
2. 請求項１に記載の粒子供給装置において、
   前記ガス噴射部は、前記噴射ガスの噴射方向が前記流動床式ガス化炉に向かう方向となる姿勢で前記粒子供給管に接続される粒子供給装置。
3. 請求項２に記載の粒子供給装置において、
   前記ガス噴射部は、前記気流が前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に接触させながら当該粒子供給管内を螺旋状に旋回させる旋回流となる姿勢で前記粒子供給管に接続される粒子供給装置。
4. 請求項３に記載の粒子供給装置であって、
   前記粒子供給管は、円筒状の内周面を有する円筒部を有し、
   前記ガス噴射部は、前記噴射ガスの噴射方向が当該噴射ガスの噴射起点と前記円筒部の中心軸とを通りかつ当該中心軸に沿う方向の面に対して傾斜する姿勢で前記円筒部に接続される粒子供給装置。
5. 廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給する粒子供給管内を清掃する清掃方法であって、
   前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を前記粒子供給管内に形成するように当該粒子供給管にガスを噴射する清掃方法。
6. 廃棄物を加熱するための流動粒子を流動床式ガス化炉に供給する粒子供給管内を清掃する清掃装置であって、
   前記粒子供給管に供給するガスを収容するガス収容部と、
   前記ガスを前記粒子供給管内に噴射するガス噴射部と、を備え、
   前記ガス噴射部は、前記ガス収容部から供給される前記ガスによって前記流動粒子を前記粒子供給管の内面に衝突させる気流を当該粒子供給管内に形成するように当該粒子供給管に接続される清掃装置。

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