JP2015009262A - リフロー装置 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに、加熱時にワーク面内に温度ばらつきが生じると、冷却時にも半田内で冷却ムラが生じやすく、引け巣などの不良が発生するという問題点があった。
半田を有するワークを、加熱しながら上記半田の酸化膜を還元して、加熱しながら上記半田の接合を行うリフロー装置において、
上記ワークを非接触にて加熱するとともに、上記ワークとの相対的な距離を変更可能で少なくとも接合の加熱を行うための加熱機構部を備えたものである。
加熱によるワークの温度のばらつきを低減することができる。
以下、本願発明の実施の形態について説明する。図1はこの発明の実施の形態1におけるリフロー装置の構成を示す図である。図において、リフロー装置は、ワーク1を保持して搭載するトレイ2と、ワーク1を処理するためのチャンバ4と、ワーク1の搭載したトレイ2をチャンバ4内外に移動するため、例えばコンベア方式や、トレイ2に搬送方向に可動なツメを掛けて下流側へ送る方式などにて構成される搬送機構部3と、ワーク1を非接触にて加熱し、ワーク1との相対的な距離を変更可能な加熱機構部5と、チャンバ4内に設けたワーク1を冷却する冷却機構部6とを備える。
図2はこの発明の実施の形態2におけるリフロー装置の構成を示す図である。上記実施の形態1においては、1つのチャンバにて、還元、半田の接合、冷却を行う例を示したが、本実施の形態2においては、加熱チャンバと冷却チャンバとを別々に備える場合について説明する。図において、上記実施の形態1と同様の部分は同一符号を付して説明を省略する。加熱機構部5が形成された加熱チャンバ40と、この加熱チャンバ40に遮蔽扉7cを介して連続して形成され、冷却機構部6に加えて、ワーク1を下部側から接触して冷却する例えば水冷式の冷却機構部60が形成されている冷却チャンバ13とを備える。また、不活性ガス供給機構部10および真空ポンプ11は、加熱チャンバ40および冷却チャンバ13のいずれにも接続されている。
まず、上記実施の形態1と同様に、初期状態は、加熱チャンバ40内を不活性ガス雰囲気として、加熱チャンバ40内にてワーク1が搭載されたトレイ2を移動して、加熱機構部5の位置(高さ)、および、温度を調整して、加熱しながら半田の表面の酸化膜を還元して、さらに、加熱しながら半田の接合を行う。そして、加熱チャンバ40内を不活性ガス雰囲気とする。
図3はこの発明の実施の形態3のリフロー装置の構成を示す図である。上記実施の形態2においては、加熱チャンバと冷却チャンバとを別々に備える例を示したが、本実施の形態3においては、還元するための還元チャンバと、半田接合するための加熱チャンバとを別々に備える場合について説明する。図において、上記各実施の形態と同様の部分は同一符号を付して説明を省略する。ワーク1の半田の表面の酸化膜を還元するための還元チャンバ14と、この還元チャンバ14に遮蔽扉7dを介して連続して形成され、加熱機構部5および冷却機構部6が形成された加熱チャンバ41とを備えている。また、不活性ガス供給機構部10および真空ポンプ11は、還元チャンバ14および加熱チャンバ41のいずれにも接続されている。
まず、上記各実施の形態と同様に、初期状態は、還元チャンバ14内を不活性ガス雰囲気して、還元チャンバ14内にてワーク1が搭載されたトレイ2を移動する。次に、バルブ9を開いて還元ガス供給機構部8から還元チャンバ14内に還元ガスを供給し還元ガス雰囲気として、バルブ9を閉じる。これと同時に、熱風循環加熱機構部17のヒータ15により、還元ガスを加熱し、ファン16により還元チャンバ14を循環しながら、ワーク1の温度が還元反応が進む温度で、かつ、半田溶融温度より低くなるよう還元チャンバ14内を加熱する。
図4は本発明の実施の形態4のリフロー装置に用いられるトレイの構成を示す図である。本実施の形態4においては、リフロー装置における、半田の酸化膜の還元および半田の接合においては上記各実施の形態におけるいずれかの装置で行うことができるため、特に特徴的なトレイの構成についてのみ説明する。図において、トレイ2は、ワーク1を点接触にて保持する保持部18を備えている。この保持部18は、錐状であれば、円錐、角錐などのいずれの形状であってもよい。トレイ2には、例えば石英ガラスなどのセラミックスやステンレス(SUS304)といった、熱伝導性の低い材料を用いる。尚、トレイ2全体を上記の材料にする必要はなく、ワーク1と点接触する保持部18のみにこれら材料を使用してもよい。
6 冷却機構部、7a 遮蔽扉、7b 遮蔽扉、7c 遮蔽扉、
8 還元ガス供給機構部、9 バルブ、10 不活性ガス供給機構部、
11 真空ポンプ、12 還元ガス回収機構部、13 冷却チャンバ、
14 還元チャンバ、15 ヒータ、16 ファン、17 熱風循環加熱機構部、
18 保持部、40 加熱チャンバ、41 加熱チャンバ、51a 上面側加熱機構部、52a 下面側加熱機構部。
Claims (10)
- 半田を有するワークを、加熱しながら上記半田の酸化膜を還元して、加熱しながら上記半田の接合を行うリフロー装置において、
上記ワークを非接触にて加熱するとともに、上記ワークとの相対的な距離を変更可能で少なくとも接合の加熱を行うための加熱機構部を備えたリフロー装置。 - 上記加熱機構部は、複数の分割加熱機構部にて形成され、
複数の上記分割加熱機構部は、上記ワークとの相対的な距離をそれぞれにて変更可能にて構成されている請求項1に記載のリフロー装置。 - 複数の上記分割加熱機構部は、それぞれ加熱温度を設定可能に構成されている請求項2に記載のリフロー装置。
- 上記加熱機構部は、上記ワークの上面側から加熱する上面側加熱機構部と、上記ワークの下面側から加熱する下面側加熱機構部とを備えている請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のリフロー装置。
- 上記加熱機構部は、輻射加熱式にて加熱を行うように形成されている請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のリフロー装置。
- 上記半田の酸化膜を還元するため加熱を行う熱風循環加熱機構部を有する還元チャンバと、
上記還元チャンバに連続して形成され上記加熱機構部を有する加熱チャンバとを備えた請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のリフロー装置。 - 上記加熱チャンバに連続して形成され上記ワークを冷却するための冷却チャンバを備えた請求項6に記載のリフロー装置。
- 上記加熱機構部を有する加熱チャンバと、
上記加熱チャンバに連続して形成され上記ワークを冷却するための冷却チャンバとを備えた請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のリフロー装置。 - 上記ワークを上記リフロー装置に搬送するために載置するトレイを備え、
上記トレイは、上記ワークを点接触にて保持する保持部が形成されている請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のリフロー装置。 - 加熱しながら上記半田の接合を行う場合に、上記ワークを減圧下状態に保持する減圧機構部を備えた請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のリフロー装置。
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